一种高入射角范围和反射率的反射膜的制作方法

本技术属于反射介质，特别涉及一种高入射角范围和反射率的反射膜。

背景技术：

1、反射膜是一种通过光学设计增强表面反射率的功能镀层薄膜，其利用多光束干涉原理或金属材料的高消光系数特性实现光能的反射。反射膜的镀层材料通常包括铝、银、金、铜等金属以及高低折射率介质交替结构。反射膜广泛应用于光学反射镜、激光器及巡天空间望远镜等系统，可减少光能损失并提升设备性能。

2、现如今，现有的反射膜设计入射角范围较小，一般为±15°，若入射光线超出设计入射角范围，会导致反射率剧减。且若光线在小角度入射下反射膜为高反时，在大角度时反射率会降低；若在大角度下反射膜为高反，那么在小角度时反射率会降低。常规反射膜高反射率带宽较窄，当入射角变化时，反射率曲线会随着角度变化相对移动，从而造成反射率降低。

3、因此，提供一种高入射角范围和反射率的反射膜，可提高入射角范围，还能在入射角范围提高光线的反射率。

技术实现思路

1、本实用新型提供一种高入射角范围和反射率的反射膜，可解决上述问题。

2、本实用新型所采用的技术方案：

3、一种高入射角范围和反射率的反射膜，包括基片，所述基片的反射面上沿其远离方向依次设有三氧化二铝膜层、纯铝膜层、二氧化硅膜层、五氧化三钛膜层、二氧化硅膜层、五氧化三钛膜层和二氧化硅膜层。

4、进一步的，自沿所述基片远离方向，所述三氧化二铝膜层厚度为50±2nm，所述纯铝膜层厚度为100±2nm，所述二氧化硅膜层厚度为83±2nm，所述五氧化三钛膜层厚度为54±2nm，所述二氧化硅膜层厚度为178±2nm，所述五氧化三钛膜层厚度为100±2nm，所述二氧化硅膜层厚度为105±2nm。

5、进一步的，自沿所述基片远离方向，所述三氧化二铝膜层厚度为50nm，所述纯铝膜层厚度为100nm，所述二氧化硅膜层厚度为83nm，所述五氧化三钛膜层厚度为54nm，所述二氧化硅膜层厚度为178nm，所述五氧化三钛膜层厚度为100nm，所述二氧化硅膜层厚度为105nm。

6、进一步的，所述基片为pc基片。

7、与现有技术相比，本实用新型的有益效果是：

8、1、通过在基片上合理设置不同镀层介质，使得设计入射角提高至0°～70°，在该设计入射角范围内大多数的可见光(工作波段为400nm～700nm)的平均反射率都能保持大于92％，大大提高了设计入射角和反射率。

9、2、本实用新型提供的反射膜，结构简单，采用的加工设备少，易于加工生产，有利于降低生产成本，适用于大批量生产。

1.一种高入射角范围和反射率的反射膜，其特征在于：包括基片，所述基片的反射面上沿其远离方向依次设有三氧化二铝膜层、纯铝膜层、二氧化硅膜层、五氧化三钛膜层、二氧化硅膜层、五氧化三钛膜层和二氧化硅膜层；

2.根据权利要求1所述的一种高入射角范围和反射率的反射膜，其特征在于：自沿所述基片远离方向，所述三氧化二铝膜层厚度为50nm，所述纯铝膜层厚度为100nm，所述二氧化硅膜层厚度为83nm，所述五氧化三钛膜层厚度为54nm，所述二氧化硅膜层厚度为178nm，所述五氧化三钛膜层厚度为100nm，所述二氧化硅膜层厚度为105nm。

3.根据权利要求1所述的一种高入射角范围和反射率的反射膜，其特征在于：所述基片为pc基片。