成像镜头及电子装置的制作方法

本发明涉及一种成像镜头与电子装置，特别是一种适用于电子装置的成像镜头。

背景技术：

1、随着科技日新月异，具有高光学品质的镜头俨然成为不可或缺的一环。并且，配备光学镜头的电子装置的应用范围更加广泛，对于光学镜头的要求也是更加多样化。

2、然而，近年来传统的光学镜头已难以满足多元化发展下的电子产品的高光学品质需求，特别是非成像光线容易在成像镜头内反射而影响成像品质。因此，如何改良成像镜头内部零件的结构来减弱非成像光线的反射强度，以满足现今对电子装置高规格的需求，已成为目前相关领域的重要议题。

技术实现思路

1、鉴于以上提到的问题，本发明揭露一种成像镜头与电子装置，有助于减少杂散光（非成像光线）的反射，可降低杂散光的影响，借此提升总体的光学品质。

2、本发明的一实施例所揭露的成像镜头，由一光轴通过。成像镜头包含一遮光片。遮光片包含一物侧面、一像侧面、一内环面、多个渐缩遮光结构以及一纳米结构层。物侧面垂直且环绕光轴设置。像侧面与物侧面相对设置，且像侧面相较物侧面靠近成像镜头的像侧。内环面连接物侧面与像侧面，且内环面环绕光轴并定义出一通光孔。渐缩遮光结构设置于内环面，渐缩遮光结构自内环面凸起并朝光轴渐缩延伸，且渐缩遮光结构环绕光轴周期性设置。沿光轴方向观察时，每一个渐缩遮光结构的轮廓具有一第一曲线段以及一第二曲线段。第一曲线段相较第二曲线段靠近光轴，且第一曲线段与第二曲线段各自于内环面上形成一曲面。纳米结构层至少设置于第一曲线段与第二曲线段所形成的曲面上，纳米结构层具有自曲面朝非定向延伸的多个脊状凸起，且纳米结构层的结构平均高度大于等于98纳米且小于等于350纳米。

3、本发明的另一实施例所揭露的成像镜头，由一光轴通过。成像镜头包含一遮光片。遮光片包含一物侧面、一像侧面、一内环面、多个渐缩遮光结构以及一纳米结构层。物侧面垂直且环绕光轴设置。像侧面与物侧面相对设置，且像侧面相较物侧面靠近成像镜头的像侧。内环面连接物侧面与像侧面，且内环面环绕光轴并定义出一通光孔。渐缩遮光结构设置于内环面，渐缩遮光结构自内环面凸起并朝光轴渐缩延伸，且渐缩遮光结构环绕光轴周期性设置。沿光轴方向观察时，每一个渐缩遮光结构的轮廓具有至少一曲线段。所述至少一曲线段于内环面上形成一曲面。纳米结构层设置于所述至少一曲线段所形成的曲面上，纳米结构层具有自曲面朝非定向延伸的多个脊状凸起，且纳米结构层的结构平均高度大于等于98纳米且小于等于350纳米。当所述至少一曲线段的曲率半径中心相较所述至少一曲线段远离光轴时，所述至少一曲线段的曲率半径为rvc，通光孔的半径为rl，其满足下列条件：0.05 ≤ (rvc/rl)×1.02π4 ≤ 34。当所述至少一曲线段的曲率半径中心相较所述至少一曲线段靠近光轴时，所述至少一曲线段的曲率半径为rc，通光孔的半径为rl，其满足下列条件：0.11 ≤ (rc/rl)×1.02π4 ≤ 49。

4、本发明的又一实施例所揭露的成像镜头，由一光轴通过。成像镜头包含一遮光元件。遮光元件包含一物侧面、一像侧面、一内环面以及一纳米结构层。物侧面垂直且环绕光轴设置。像侧面与物侧面相对设置，且像侧面相较物侧面靠近成像镜头的像侧。内环面连接物侧面与像侧面，且内环面环绕光轴并定义出一通光孔。纳米结构层至少设置于内环面上，且纳米结构层具有自内环面朝非定向延伸的多个脊状凸起。

5、本发明的再一实施例所揭露的电子装置包含上述的成像镜头。

6、根据上述实施例所揭露的成像镜头与电子装置，于遮光片或遮光元件的内环面上设置纳米结构层以降低表面反射率，使遮光片或遮光元件不易形成杂散光影响成像品质。

7、再者，通过设置脊状凸起，可使纳米结构层的等效折射率自底部向顶部渐减，并可形成粗糙表面，以减少杂散光的反射。

8、此外，本发明更揭露具有曲面的渐缩遮光结构以改变或破坏遮光元件圆滑的内环面，也可进一步于渐缩遮光结构的曲面上设置纳米结构层以降低表面反射率，使遮光元件不易形成杂散光影响成像品质。举例而言，本发明揭露一种在遮光元件表面追加次波长结构后（包括但不限于在所述表面采用原子层沉积法(atomic layer deposition)沉积而成的氧化铝(al2o3)纳米结构层），并用之设计成遮光机构的镜头内装设计。遮光元件可以是遮光片、间隔元件(spacer)、固定元件(retainer)或镜筒(barrel)，甚至是与音圈马达(voicecoil motor, vcm)一体化的镜筒，以互相搭配或是单元件型式在特定光路位置形成遮光举措，可以较有效率地将镜头内部的非成像光线获得具体控制。本发明可适用但不限于于手机（双镜头或多镜头）、平板计算机、随身影像纪录器、穿戴装置等电子装置等。

9、当(rvc/rl)×1.02π4或(rc/rl)×1.02π4满足上述条件时，可适度地钝化内环面，使杂散光进一步地不易于内环面反射。

10、以上关于本 技术实现要素： 的说明及以下实施方式的说明是用以示范与解释本发明的原理，并且提供本发明的权利要求保护范围更进一步的解释。

1.一种成像镜头，其特征在于，由一光轴通过，所述成像镜头包含：

2.根据权利要求1所述的成像镜头，其特征在于，所述脊状凸起呈现下宽上窄的形状，且所述纳米结构层的结构平均高度大于等于98纳米且小于等于350纳米。

3.根据权利要求1所述的成像镜头，其特征在于，所述遮光元件为一遮光片。

4.根据权利要求1所述的成像镜头，其特征在于，所述遮光元件为一间隔元件或一固定元件。

5.根据权利要求3所述的成像镜头，其特征在于，所述遮光片包含塑胶材质。

6.根据权利要求5所述的成像镜头，其特征在于，所述遮光片为一多层结构，所述多层结构包含：

7.根据权利要求1所述的成像镜头，其特征在于，所述纳米结构层的材质包含氧化铝(al2o3)。

8.根据权利要求5所述的成像镜头，其特征在于，所述遮光元件还包含多个渐缩遮光结构，所述渐缩遮光结构设置于所述内环面，所述渐缩遮光结构自所述内环面凸起并朝所述光轴渐缩延伸，所述渐缩遮光结构环绕所述光轴周期性设置，沿所述光轴方向观察时每一所述渐缩遮光结构的轮廓具有一第一曲线段以及一第二曲线段，所述第一曲线段与所述第二曲线段各自于所述内环面上形成一曲面，且所述纳米结构层设置于所述第一曲线段与所述第二曲线段所形成的所述曲面上。

9.根据权利要求8所述的成像镜头，其特征在于，所述第一曲线段的曲率半径中心相较所述第一曲线段远离所述光轴，所述第一曲线段的曲率半径为rvc，其满足下列条件：

10.根据权利要求8所述的成像镜头，其特征在于，所述第二曲线段的曲率半径中心相较所述第二曲线段靠近所述光轴，所述第二曲线段的曲率半径为rc，其满足下列条件：

11.根据权利要求8所述的成像镜头，其特征在于，所述第一曲线段的曲率半径中心相较所述第一曲线段远离所述光轴，所述第二曲线段的曲率半径中心相较所述第二曲线段靠近所述光轴，所述第一曲线段的曲率半径为rvc，所述第二曲线段的曲率半径为rc，其满足下列条件：

12.根据权利要求5所述的成像镜头，其特征在于，所述遮光元件还包含一微米结构，所述微米结构设置于所述物侧面与所述像侧面两者之中的至少一者，所述微米结构具有多个凸起，且所述微米结构的结构平均高度大于等于0.25微米且小于等于19微米。

13.根据权利要求11所述的成像镜头，其特征在于，所述渐缩遮光结构的数量为n，其满足下列条件：

14.根据权利要求5所述的成像镜头，其特征在于，所述物侧面与所述像侧面两者之中设置有所述纳米结构层的所述至少一者的表面对波长为750纳米至900纳米的光的平均反射率为r7590，其满足下列条件：

15.根据权利要求5所述的成像镜头，其特征在于，所述物侧面与所述像侧面两者之中设置有所述纳米结构层的所述至少一者的表面对波长为380纳米至400纳米的光的平均反射率为r3840，其满足下列条件：

16.根据权利要求5所述的成像镜头，其特征在于，所述物侧面与所述像侧面两者之中设置有所述纳米结构层的所述至少一者的表面对波长为400纳米至700纳米的光的平均反射率为r4070，其满足下列条件：

17.根据权利要求5所述的成像镜头，其特征在于，所述遮光片的厚度为t，其满足下列条件：

18.根据权利要求8所述的成像镜头，其特征在于，所述成像镜头还包含：

19.根据权利要求18所述的成像镜头，其特征在于，所述成像镜头沿所述光轴依序包含：

20.根据权利要求19所述的成像镜头，其特征在于，所述第二透镜沿所述光轴的厚度为ct2，其满足下列条件：

21.根据权利要求8所述的成像镜头，其特征在于，还包含一透镜组，其中所述透镜组包含多个透镜，且所述透镜之中的至少一者设置有所述纳米结构层。

22.一种电子装置，其特征在于，包含根据权利要求1或18所述的成像镜头。