一种双互补基板中转支撑传送镀膜机和传送方法与流程

本发明涉及真空镀膜，特别涉及一种双互补基板中转支撑传送镀膜机和传送方法。

背景技术：

1、有机发光二极管（oled）显示器具备色彩还原度高、画面响应速度快、低温工作性能优异、轻薄可弯折等优势，现已逐步替代液晶（lcd）显示器成为主流显示器件。oled发光层制备依赖真空蒸镀工艺，通过高精度蒸镀设备将有机发光材料蒸镀至玻璃基板像素区域。为实现rgb三色像素精准成型，产线蒸镀设备普遍配置多组独立蒸镀腔室、基板外部传送多指叉、腔室内承接基板的内部多指叉以及限定蒸镀区域的金属掩膜板。

2、常规蒸镀设备的基板流转流程为：外部多指叉自传送腔将基板送入蒸镀腔，由腔室内内部多指叉直接承接基板。受蒸镀区域限制，内部多指叉仅能从基板左右两侧边缘单点支撑基板，基板中部无支撑，在自重作用下产生柱面弯曲下垂。基板与掩膜板对位依靠四角对位标记识别，基板下垂会造成基板标记与掩膜标记产生高度偏差，降低视觉对位成功率，延长对位耗时，制约整条产线稼动率；同时两侧窄边支撑受力集中，大尺寸基板易出现崩边、碎裂，产品良品率偏低。随着8代、10代等高世代大尺寸基板量产普及，基板幅面增大、刚性降低，基板下垂、对位失效、基板破片等问题进一步加剧。

3、现有镀膜蒸镀设备通过优化内外多指叉支撑结构一定程度缓解基板下垂缺陷，但该方案采用外部多指叉与内部多指叉直接交叉对接的基板交接方式，二者叉指必须相互避让、结构互补。若产线采用双腔分步蒸镀工艺，两个蒸镀腔需分别配置适配互补掩膜的内部多指叉，两组内部多指叉结构相互冲突、无法兼容；同一支外部多指叉无法交替向两个互补型蒸镀腔输送基板，必须配置两套独立外部传送机构，设备成本、占地空间大幅增加，多腔分步互补蒸镀的工艺兼容性差，难以满足高阶oled面板分步互补蒸镀量产需求。

技术实现思路

1、鉴于上述现有技术的不足之处，本发明的目的在于提供一种双互补基板中转支撑传送镀膜机和传送方法。

2、一种双互补基板中转支撑传送镀膜机，包括至少两个蒸镀室、设于所述至少两个蒸镀室外的传送室以及设置于所述传送室内的外部多指叉，每个所述蒸镀室内设置有临时支撑架、内部多指叉和掩膜板；

3、不同所述蒸镀室内的所述掩膜板彼此互补，与互补所述掩膜板对应配套的所述内部多指叉彼此互补；

4、所述外部多指叉用于将基板送入任一所述蒸镀室并先放置于该蒸镀室内的所述临时支撑架上，所述外部多指叉撤出该蒸镀室后，该蒸镀室内的所述内部多指叉从所述临时支撑架接过所述基板。

5、本发明中，所述临时支撑架可摆动或转向，以在所述内部多指叉接板或交板时避让所述内部多指叉。

6、本发明中，所述掩膜板上设置有避让槽，蒸镀时所述内部多指叉位于所述避让槽中。

7、本发明中，不同所述蒸镀室内的所述临时支撑架结构相同。

8、本发明中，所述蒸镀室上设置有对位ccd相机，用于对蒸镀室内的所述基板与所述掩膜板进行对位识别。

9、本发明中，所述内部多指叉可沿竖直方向升降，以完成从所述临时支撑架接板、下降对位及蒸镀后取板的动作。

10、本发明中，所述传送室位于所述至少两个蒸镀室之间，各所述蒸镀室的腔门朝向所述传送室开启；或者至少两个所述蒸镀室并排设置，各所述蒸镀室的腔门共同朝向传送室的一侧；所述外部多指叉通过所述腔门进出各所述蒸镀室。

11、本发明中，所述传送室内设置有机械手，所述外部多指叉由所述机械手驱动。

12、本发明中，所述至少两个蒸镀室包括第一蒸镀室和第二蒸镀室，所述第一蒸镀室内设置有第一临时支撑架、第一内部多指叉和第一掩膜板，所述第二蒸镀室内设置有第二临时支撑架、第二内部多指叉和第二掩膜板，所述第一掩膜板与所述第二掩膜板互补，所述第一内部多指叉与所述第二内部多指叉互补。

13、本发明还提供一种镀膜机基板中转支撑传送方法，应用于上述的双互补基板中转支撑传送镀膜机，具体包括以下步骤：

14、第一步，外部多指叉将基板送入第一蒸镀室并放置于第一蒸镀室内的临时支撑架上，所述外部多指叉撤出所述第一蒸镀室；

15、第二步，所述第一蒸镀室内的内部多指叉从所述临时支撑架接过所述基板，所述临时支撑架摆动或转向避让；

16、第三步，所述内部多指叉携所述基板下降并与第一蒸镀室内的掩膜板对位贴合后进行蒸镀，蒸镀时所述内部多指叉位于所述掩膜板的避让槽中；

17、第四步，蒸镀完成后，所述内部多指叉上移并将所述基板交回所述临时支撑架；

18、第五步，所述外部多指叉进入所述第一蒸镀室取出所述基板并送入第二蒸镀室；

19、第六步，在第二蒸镀室内重复第一步到第五步的交接与蒸镀步骤，在同一所述基板上形成完整蒸镀图案。

20、有益效果：

21、本发明通过在蒸镀室内增设临时支撑架作为外部多指叉与内部多指叉之间的中转交接载体，使外部多指叉与内部多指叉无需直接交叉对接、叉指无需相互避让，二者结构解耦，同一支外部多指叉能够交替向结构互补的多个蒸镀室输送基板，无需配置两套独立外部传送机构，有利于降低设备成本与占地空间、提升多腔分步互补蒸镀的工艺兼容性；临时支撑架承托基板边缘并通过摆动或转向实现无干涉避让，支撑件顶端沿圆弧轨迹脱离基板，有利于避免基板被刮伤、抑制基板下垂并减少崩边破片；掩膜板上设置避让槽使内部多指叉在蒸镀时收纳其中，有利于避免内部多指叉遮挡蒸镀区域、保证蒸镀图形完整。

1.一种双互补基板中转支撑传送镀膜机，其特征在于，包括至少两个蒸镀室、设于至少两个所述蒸镀室外的传送室以及设置于所述传送室内的外部多指叉，每个所述蒸镀室内设置有临时支撑架、内部多指叉和掩膜板；

2.根据权利要求1所述的双互补基板中转支撑传送镀膜机，其特征在于，所述临时支撑架可摆动或转向，以在所述内部多指叉接板或交板时避让所述内部多指叉。

3.根据权利要求1所述的双互补基板中转支撑传送镀膜机，其特征在于，所述掩膜板上设置有避让槽，蒸镀时所述内部多指叉位于所述避让槽中。

4.根据权利要求1所述的双互补基板中转支撑传送镀膜机，其特征在于，不同所述蒸镀室内的所述临时支撑架结构相同。

5.根据权利要求1所述的双互补基板中转支撑传送镀膜机，其特征在于，所述蒸镀室上设置有对位ccd相机，用于对蒸镀室内的所述基板与所述掩膜板进行对位识别。

6.根据权利要求1所述的双互补基板中转支撑传送镀膜机，其特征在于，所述内部多指叉可沿竖直方向升降，以完成从所述临时支撑架接板、下降对位及蒸镀后取板的动作。

7.根据权利要求1所述的双互补基板中转支撑传送镀膜机，其特征在于，所述传送室位于所述至少两个蒸镀室之间，各所述蒸镀室的腔门朝向所述传送室开启；或者至少两个所述蒸镀室并排设置，各所述蒸镀室的腔门共同朝向传送室的一侧；所述外部多指叉通过所述腔门进出各所述蒸镀室。

8.根据权利要求1或7所述的双互补基板中转支撑传送镀膜机，其特征在于，所述传送室内设置有机械手，所述外部多指叉由所述机械手驱动。

9.根据权利要求1所述的双互补基板中转支撑传送镀膜机，其特征在于，所述至少两个蒸镀室包括第一蒸镀室和第二蒸镀室，所述第一蒸镀室内设置有第一临时支撑架、第一内部多指叉和第一掩膜板，所述第二蒸镀室内设置有第二临时支撑架、第二内部多指叉和第二掩膜板，所述第一掩膜板与所述第二掩膜板互补，所述第一内部多指叉与所述第二内部多指叉互补。

10.一种镀膜机基板中转支撑传送方法，其特征在于，应用于权利要求1至9任一项所述的双互补基板中转支撑传送镀膜机，包括以下步骤：