光学测定装置和光学测定方法与流程

本发明涉及一种光学测定装置和光学测定方法。

背景技术：

1、以往，提出了对各种试样进行光学测定的方法。

2、例如，日本特开2009-092454号公报(专利文献1)公开了能够以更高的精度测定具有波长依赖性的多层膜试样的膜厚的多层膜分析装置等。

3、另外，日本特开2021-156828号公报(专利文献2)公开了以下一种技术：使用双梳光谱法，在不加工试样的情况下解决相位的不确定性问题，高精度地测量测定对象物的复折射率的实部和虚部、以及厚度。双梳光谱法是以光频梳技术为基础的高精度的激光光谱测量技术。

4、现有技术文献

5、专利文献

6、专利文献1：日本特开2009-092454号公报

7、专利文献2：日本特开2021-156828号公报

技术实现思路

1、发明要解决的问题

2、本发明的一个目的在于提供一种也能够应用于试样的膜厚的测定等的新的光学测定装置。

3、用于解决问题的方案

4、本发明的一实施方式的光学测定装置包括：第一光频梳光源，其产生第一重复频率的第一光频梳；第二光频梳光源，其产生第二重复频率的第二光频梳；叠加部，其将第一光频梳入射到试样而产生的反射光与第二光频梳在空间上叠加；以及处理部，其基于通过反射光与第二光频梳的空间上的叠加而产生的第三光频梳，来计算试样的反射率谱。

5、处理部可以基于试样的反射率谱，来计算试样中包含的一层或多层的膜厚。

6、光学测定装置还可以包括：第一光学带通滤波器，其使第一光谱频带的光透过；第二光学带通滤波器，其使第二光谱频带的光透过；以及分离部，其将反射光和第二光频梳在空间上叠加所得到的光的一部分引导至第一光学带通滤波器，并且将另一部分引导至第二光学带通滤波器。处理部可以基于透过第一光学带通滤波器后的光和透过第二光学带通滤波器后的光，来计算试样的反射率谱。

7、光学测定装置还可以包括：第一光检测器，其与第一光学带通滤波器进行了关联；以及第二光检测器，其与第二光学带通滤波器进行了关联。处理部也可以基于由所述第一光检测器检测出的时间波形和由第二光检测器检测出的时间波形，按光谱频带计算试样的反射率谱。

8、光学测定装置还可以包括：第一可变nd(neutral density：中性密度)滤波器，其配置于第一光学带通滤波器与第一光检测器之间；以及第二可变nd滤波器，其配置于第二光学带通滤波器与第二光检测器之间。

9、本发明的另一实施方式的光学测定方法包括以下步骤：使用第一光频梳光源来产生第一重复频率的第一光频梳；使用第二光频梳光源来产生第二重复频率的第二光频梳；使用叠加部来将第一光频梳入射到试样而产生的反射光与第二光频梳在空间上叠加；以及基于通过反射光与第二光频梳的空间上的叠加而产生的第三光频梳，来计算试样的反射率谱。

10、发明的效果

11、根据本发明的一实施方式，能够实现也能够应用于试样的膜厚的测定等的新的光学测定装置。

1.一种光学测定装置，具备：

2.根据权利要求1所述的光学测定装置，其中，

3.根据权利要求1或2所述的光学测定装置，其中，

4.根据权利要求3所述的光学测定装置，其中，

5.根据权利要求4所述的光学测定装置，其中，

6.一种光学测定方法，包括以下步骤：