一种晶圆表面擦拭装置的制作方法

本技术涉及半导体制造，尤其涉及一种晶圆表面擦拭装置。

背景技术：

1、在晶圆的制造过程中，晶圆的表面易粘附粉尘等异物。晶圆的表面洁净度直接影响到制程与产品的合格率，因此在制程中要不断的检查及清洁，以保持其洁净度。

2、目前，传统的晶圆擦拭方式为人工擦拭。人工擦拭一般是通过人工握持片状的无尘布擦拭，擦拭力度不均匀，擦拭效率低，且易出现无尘布重复使用或者浪费使用的问题，不但造成无尘布浪费，还影响擦拭效果。

技术实现思路

1、本实用新型旨在提供一种晶圆表面擦拭装置，以克服现有技术中存在的不足。

2、为解决上述技术问题，本实用新型的技术方案是：一种晶圆表面擦拭装置，包括旋转台、擦拭机构，所述旋转台上设有定位机构，用于定位晶圆，并能驱动晶圆旋转，所述擦拭机构包括擦拭板、擦拭布，所述擦拭板设于旋转台外侧，所述擦拭布绕设在擦拭板上，清洁时所述擦拭布与晶圆背面相贴，且绕设在擦拭板下方的所述擦拭布与放卷料盘连接，绕设在擦拭板上方的所述擦拭布与收卷料盘连接，所述放卷料盘用于放料擦拭布，所述收卷料盘用于收卷使用后的擦拭布。

3、进一步的，上述的晶圆表面擦拭装置，所述定位机构包括真空载台、定位座，所述真空载台设于旋转台上方，其顶部设有吸附晶圆的真空槽，所述真空槽为环形栅格设置，在晶圆的吸附范围内均匀排布，所述定位座套设在真空载台外侧，定位座上方设有围绕真空载台设置的多组支撑块，每组所述支撑块包括两个相对设置的固定支撑块和移动支撑块，所述固定支撑块通过固定座固定在定位座上，所述移动支撑块与安装在定位座上的移动气缸的输出端连接，并通过移动气缸能沿真空载台的径向移动。优选的，还包括升降组件，所述升降组件包括升降电机、导杆，所述升降电机固定在旋转底座上，其输出端通过接头与定位座连接，所述定位座的下方设有多个导杆，所述导杆下端插设在旋转底座上并与旋转底座滑动连接。

4、进一步的，上述的晶圆表面擦拭装置，所述固定支撑块和移动支撑块上均设有多个支撑部，多个所述支撑部沿真空载台径向方向呈多级台阶设置，且所述支撑部包括水平支撑部和垂直限位部，所述水平支撑部用于支撑晶圆，所述垂直限位部与水平支撑部垂直设置，垂直限位部与晶圆外侧面相配合限位晶圆位置。

5、进一步的，上述的晶圆表面擦拭装置，所述擦拭机构还包括擦拭盒、擦拭支座，所述擦拭支座一端与旋转台连接，一端伸入擦拭盒内与擦拭盒连接，所述放卷料盘、收卷料盘均设于擦拭盒内，并与擦拭安装板转动连接，所述擦拭安装板与擦拭盒固定连接，所述擦拭板还与位于其下方的升降气缸连接，所述升降气缸固定在擦拭盒的外侧。

6、进一步的，上述的晶圆表面擦拭装置，所述放卷料盘设于料盘轴一的前端，所述料盘轴一通过设于擦拭安装板上的带座轴承与擦拭安装板转动连接，且料盘轴一的后端穿过擦拭安装板套设有弹簧一，所述弹簧一的一端与擦拭安装板抵接，另一端设有与料盘轴一螺纹连接的螺母。

7、进一步的，上述的晶圆表面擦拭装置，所述收卷料盘设于料盘轴二上，所述料盘轴二的后侧端穿过擦拭安装板与设于擦拭安装板上的驱动组件连接，所述驱动组件用于驱动料盘轴二旋转，所述料盘轴二的前侧端沿从后到前的方向依次设有带座轴承、收卷料盘、压板、弹簧二，所述弹簧二的远离压板的一端设有与料盘轴二螺纹连接的螺母。

8、进一步的，上述的晶圆表面擦拭装置，所述驱动组件包括设于擦拭安装板后侧的主同步轮、从同步轮、张紧轮，所述主同步轮与设于擦拭安装板前侧的电机连接，所述从同步轮与料盘轴二连接，并通过环形带与主同步轮带传动连接，所述张紧轮设于环形带外侧，用于张紧环形带。

9、进一步的，上述的晶圆表面擦拭装置，所述擦拭机构还包括导引擦拭布移动的导引组件，所导引组件包括导引轮一、导引轮二，所述放卷料盘与擦拭板之间设有多个导引轮一，所述收卷料盘与擦拭板之间设有多个导引轮二。优选的，所述导引轮一之间至少设有一个限位块，所述限位块上设有供擦拭布通过的限位槽。

10、进一步的，上述的晶圆表面擦拭装置，所述导引组件还包括导引轮三、导引轴，所述导引轴通过带座轴承与擦拭安装板转动连接，且导引轴前端与导引轮三连接，导引轴后端穿过擦拭安装板与位于擦拭安装板后侧的导引驱动轮连接，所述导引驱动轮与驱动收卷料盘旋转的驱动组件连接，并通过驱动组件能与收卷料盘同步旋转，所述导引轮三与一个导引轮二相配合导引擦拭布。

11、进一步的，上述的晶圆表面擦拭装置，还包括调节组件，所述调节组件通过调节擦拭板伸入晶圆的距离调节擦拭范围，包括滑轨，所述滑轨设于擦拭支座上方，所述擦拭盒内下端设有安装板，所述安装板下方设有与滑轨滑动连接的滑块，安装板下方还设有锁定滑轨的导轨钳制器。

12、与现有技术相比，本实用新型的有益效果是：本实用新型能自动擦拭晶圆，擦拭时晶圆旋转，擦拭布与晶圆表面相贴自动擦拭晶圆，擦拭力度均匀，擦拭效率高，擦拭布通过收卷料盘按节连续擦拭，并以自动收料的方式收卷擦拭后的擦拭布，精确的控制每节擦拭布的擦拭时间，保证擦拭布的有效使用，也避免了擦拭布浪费，节约资源。

1.一种晶圆表面擦拭装置，其特征在于：包括旋转台、擦拭机构，所述旋转台上设有定位机构，用于定位晶圆，并能驱动晶圆旋转，所述擦拭机构包括擦拭板、擦拭布，所述擦拭板设于旋转台外侧，所述擦拭布绕设在擦拭板上，清洁时所述擦拭布与晶圆背面相贴，且绕设在擦拭板下方的所述擦拭布与放卷料盘连接，绕设在擦拭板上方的所述擦拭布与收卷料盘连接，所述放卷料盘用于放料擦拭布，所述收卷料盘用于收卷使用后的擦拭布。

2.根据权利要求1所述的晶圆表面擦拭装置，其特征在于：所述定位机构包括真空载台、定位座，所述真空载台设于旋转台上方，其顶部设有吸附晶圆的真空槽，所述真空槽在晶圆的吸附范围内均匀排布，所述定位座套设在真空载台外侧，定位座上方设有围绕真空载台设置的多组支撑块，每组所述支撑块包括两个相对设置的固定支撑块和移动支撑块，所述固定支撑块通过固定座固定在定位座上，所述移动支撑块与安装在定位座上的移动气缸的输出端连接，并通过移动气缸能沿真空载台的径向移动。

3.根据权利要求2所述的晶圆表面擦拭装置，其特征在于：所述固定支撑块和移动支撑块上均设有多个支撑部，多个所述支撑部沿真空载台径向方向呈多级台阶设置，且所述支撑部包括水平支撑部和垂直限位部，所述水平支撑部用于支撑晶圆，所述垂直限位部与水平支撑部垂直设置，垂直限位部与晶圆外侧面相配合限位晶圆位置。

4.根据权利要求1所述的晶圆表面擦拭装置，其特征在于：所述擦拭机构还包括擦拭盒、擦拭支座，所述擦拭支座一端与旋转台连接，一端伸入擦拭盒内与擦拭盒连接，所述放卷料盘、收卷料盘均设于擦拭盒内，并与擦拭安装板转动连接，所述擦拭安装板与擦拭盒固定连接，所述擦拭板还与位于其下方的升降气缸连接，所述升降气缸固定在擦拭盒的外侧。

5.根据权利要求4所述的晶圆表面擦拭装置，其特征在于：所述放卷料盘设于料盘轴一的前端，所述料盘轴一通过设于擦拭安装板上的带座轴承与擦拭安装板转动连接，且料盘轴一的后端穿过擦拭安装板套设有弹簧一，所述弹簧一的一端与擦拭安装板抵接，另一端设有与料盘轴一螺纹连接的螺母。

6.根据权利要求4所述的晶圆表面擦拭装置，其特征在于：所述收卷料盘设于料盘轴二上，所述料盘轴二的后侧端穿过擦拭安装板与设于擦拭安装板上的驱动组件连接，所述驱动组件用于驱动料盘轴二旋转，所述料盘轴二的前侧端沿从后到前的方向依次设有带座轴承、收卷料盘、压板、弹簧二，所述弹簧二的远离压板的一端设有与料盘轴二螺纹连接的螺母。

7.根据权利要求6所述的晶圆表面擦拭装置，其特征在于：所述驱动组件包括设于擦拭安装板后侧的主同步轮、从同步轮、张紧轮，所述主同步轮与设于擦拭安装板前侧的电机连接，所述从同步轮与料盘轴二连接，并通过环形带与主同步轮带传动连接，所述张紧轮设于环形带外侧，用于张紧环形带。

8.根据权利要求1所述的晶圆表面擦拭装置，其特征在于：所述擦拭机构还包括导引擦拭布移动的导引组件，所导引组件包括导引轮一、导引轮二，所述放卷料盘与擦拭板之间设有多个导引轮一，所述收卷料盘与擦拭板之间设有多个导引轮二。

9.根据权利要求8所述的晶圆表面擦拭装置，其特征在于：所述导引组件还包括导引轮三、导引轴，所述导引轴通过带座轴承与擦拭安装板转动连接，且导引轴前端与导引轮三连接，导引轴后端穿过擦拭安装板与位于擦拭安装板后侧的导引驱动轮连接，所述导引驱动轮与驱动收卷料盘旋转的驱动组件连接，并通过驱动组件能与收卷料盘同步旋转，所述导引轮三与一个导引轮二相配合导引擦拭布。

10.根据权利要求4所述的晶圆表面擦拭装置，其特征在于：还包括调节组件，所述调节组件包括滑轨，所述滑轨设于擦拭支座上方，所述擦拭盒内下端设有安装板，所述安装板下方设有与滑轨滑动连接的滑块，安装板下方还设有锁定滑轨的导轨钳制器。