用于双室处理模块的衬底对准组件的制作方法

本公开总体涉及半导体处理方法和系统的领域，并且涉及器件和集成电路制造的领域。更具体地，本公开总体涉及半导体处理系统的衬底调节组件，以允许在半导体处理系统的不同反应室内精确地定位衬底。

背景技术：

1、在本部分中阐述的任何讨论(包括对问题和解决方案的讨论)仅出于提供本公开的背景的目的而包括在本公开中，并且不应被视为承认任何或所有讨论在做出本发明时是已知的或以其他方式构成现有技术。

2、半导体处理系统可以包括一个或多个双室处理模块。在每个双室处理模块中，两个独立的处理室可以容纳在单个系统框架或平台内。每个处理室可以执行相同或不同的处理步骤，比如蚀刻、沉积或清洁。例如，如果处理室中的一个正在执行蚀刻，则另一个处理室可以执行沉积。两个处理室可以同时处理晶片，与单室处理模块相比，生产率几乎翻倍。

3、双室处理模块的两个处理室可包括用于在处理室中处理衬底的不同部件，比如气体供应单元、衬底支撑单元、排气单元和其他附属部件。为了维持平滑的衬底搬运和稳定的处理结果，可能需要将衬底适当地放置在处理室内的指定位置中。例如，执行沉积的双室处理模块的两个处理室之一中的衬底可能需要正确地定位在处理室中，使得衬底的平坦圆形表面与设置在衬底上方的气体供应单元平行。否则，沉积在衬底上的薄膜的均匀性可能降低。

4、此外，在高温过程中，由于热膨胀或施加到处理室的真空力，处理室内的部件可能从处理室内的指定位置错位，或者可能彼此不对准。例如，包括气体供应单元的反应器盖的热变形可能导致气体供应单元与由基座支撑的衬底之间的距离。在所描述的情况下，由基座支撑的衬底可能需要重新对准。对准可允许衬底在处理室内的水平置中。

5、此外，双室中的两个处理室可以在不同的温度、压力水平和/或真空水平下执行两个不同的过程。因此，处理室之一中的衬底所需的对准可不同于另一处理室中的另一衬底所需的对准。因此，在双室处理模块中需要一种用于独立对准两个处理室内的衬底的机构。

技术实现思路

1、本 技术实现要素： 以简化的形式介绍了一些概念，这些概念将在下面进一步详细描述。本发明内容不旨在必须标识所要求保护的主题的关键特征或必要特征，也不旨在用于限制所要求保护的主题的范围。

2、本公开的各种实施例涉及衬底在双室处理模块中的适当定位和/或对准。

3、根据本公开的示例，本文描述的半导体处理系统可以包括在双室处理模块的第一处理室中的第一基座，其中第一基座可以配置为保持第一衬底。半导体处理系统还可以包括在双室处理模块的第二处理室中的第二基座，其中第二基座可以配置为保持第二衬底。半导体处理系统可还包括衬底对准组件，其配置成致使第一基座的第一平面定向的第一调节和第二基座的第二平面定向的第二调节，其中第一调节独立于第二调节。

4、根据本公开的示例，衬底对准组件可以包括联接到第一基座的第一对准板和联接到第二基座的第二对准板。第一对准板和第二对准板中的每个可以包括第一侧和平行于第一侧的第二侧。第一对准板的第一倾斜可以致使第一基座中的第一对应倾斜，并且第二对准板的第二倾斜可以致使第二基座中的第二对应倾斜。

5、根据本公开的示例，衬底对准组件还可以包括第一倾斜单元，其配置成通过使第一对准板的第一侧倾斜来使第一基座围绕第一平面轴线倾斜，以及第二倾斜单元，其配置成通过使第二对准板的第一侧倾斜来使第二基座围绕第一平面轴线倾斜。

6、根据本公开的示例，第一倾斜单元和第二倾斜单元中的每个可包括楔形件和联接到楔形件的调节机构。在第一方向上转动第一倾斜单元的调节机构可以驱动第一倾斜单元的楔形件在第一对准板的第一侧下方，并使第一对准板的第一侧向上倾斜。在第二方向上转动第一倾斜单元的调节机构可以将第一倾斜单元的楔形件从第一对准板的第一侧下方移除，并使第一对准板的第一侧向下倾斜。在第一方向上转动第二倾斜单元的调节机构可以驱动第二倾斜单元的楔形件在第二对准板的第一侧下方，并使第二对准板的第一侧向上倾斜。在第二方向上转动第二倾斜单元的调节机构可以将第二倾斜单元的楔形件从第二对准板的第一侧下方移除，并使第二对准板的第一侧向下倾斜。

7、根据本公开的示例，衬底对准组件还可包括紧固件，其联接第一倾斜单元的调节机构和第二倾斜单元的调节机构。

8、根据本公开的示例，第一倾斜单元的调节机构的杆可以平行于第二倾斜单元的调节机构的杆。

9、根据本公开的示例，第一对准板和第二对准板中的每个可以包括梯形形状。

10、根据本公开的示例，衬底对准组件还可以包括第三倾斜单元，其配置成通过使第一对准板的第二侧的第一角部倾斜来使第一基座围绕第二轴线倾斜，以及第四倾斜单元，其配置成通过使第二对准板的第二侧的第一角部倾斜来使第二基座围绕第二轴线倾斜。

11、根据本公开的示例，第三倾斜单元和第四倾斜单元中的每个包括楔形件和联接到楔形件的调节机构。在第一方向上转动第三倾斜单元的调节机构可以驱动第三倾斜单元的楔形件在第一对准板的第二侧的第一角部下方，并使第一对准板的第二侧的第一角部向上倾斜。在第二方向上转动第三倾斜单元的调节机构可以将第三倾斜单元的楔形件从第一对准板的第二侧的第一角部下方移除，并使第一对准板的第二侧的第一角部向下倾斜。在第一方向上转动第四倾斜单元的调节机构可以驱动第四倾斜单元的楔形件在第二对准板的第二侧的第一角部下方，并使第二对准板的第二侧的第一角部向上倾斜。在第二方向上转动第三倾斜单元的调节机构可以将第四倾斜单元的楔形件从第二对准板的第二侧的第一角部下方移除，并使第二对准板的第二侧的第一角部向下倾斜。

12、根据本公开的示例，衬底对准组件还可以包括第五倾斜单元，其配置成通过使第一对准板的第二侧的第二角部倾斜来使第一基座围绕第二轴线倾斜，以及第六倾斜单元，其配置成通过使第二对准板的第二侧的第二角部倾斜来使第二基座围绕第二轴线倾斜。

13、根据本公开的示例，第五倾斜单元和第六倾斜单元中的每个可包括第二楔形件和联接到第二楔形件的第二调节机构。在第一方向上转动第五倾斜单元的第二调节机构可以驱动第五倾斜单元的第二楔形件在第一对准板的第二侧的第二角部下方，并使第一对准板的第二侧的第二角部向上倾斜。在第二方向上转动第五倾斜单元的第二调节机构可以将第五倾斜单元的第二楔形件从第一对准板的第二侧的第二角部下方移除，并使第一对准板的第二侧的第二角部向下倾斜。在第一方向上转动第六倾斜单元的第二调节机构可以驱动第四倾斜单元的第二楔形件在第二对准板的第二侧的第二角部下方，并使第二对准板的第二侧的第二角部向上倾斜。在第二方向上转动第六倾斜单元的第二调节机构可以将第六倾斜单元的楔形件从第二对准板的第二侧的第二角部下方移除，并使第二对准板的第二侧的第二角部向下倾斜。

14、根据本公开的示例，第三倾斜单元的调节机构的杆可以平行于第五倾斜单元的第二调节机构的杆。第四倾斜单元的调节机构的杆可以平行于第六倾斜单元的第二调节机构的杆。

15、根据本公开的示例，衬底对准组件可包括联接到第一对准板的第一移位板和联接到第一移位板的第二移位板。第一移位板的第一移位可以致使第一基座沿着第一轴线的第一对应移位。第二对准板的第二移位可以致使第一基座沿着第二轴线的第二对应移位。第一移位板的第一移位或第二移位板的第二移位不改变第一基座的第一平面定向。

16、根据本公开的示例，衬底对准组件还可包括第一移位单元，其联接到第一移位板并且包括第一调节机构。转动第一调节机构可使第一基座沿着第一轴线移位。

17、根据本公开的示例，衬底对准组件还可包括第二移位单元，其联接到第二移位板并且包括第二调节机构。转动第二调节机构可使第一基座沿着第二轴线移位。

18、根据本公开的示例，衬底对准组件还可包括联接到第二对准板的第三移位板和联接到第三移位板的第四移位板。第三移位板的第三移位可以致使第二基座沿着第一轴线的第三对应移位，并且第四移位板的第四移位可以致使第二基座沿着第二轴线的第四对应移位。

19、根据本公开的示例，衬底对准组件还可包括第三移位单元，其联接到第三移位板并且包括第三调节机构。转动第三调节机构可以使第二基座沿着第一轴线移位。

20、根据本公开的示例，衬底对准组件还可包括第四移位单元，其联接到第四移位板并且包括第四调节机构。转动第四调节机构可以使第二基座沿着第二轴线移位。

21、根据本公开的示例，第一调节或第二调节可以由人类操作者或可编程机器人执行。

22、出于概述本发明和相对于现有技术所实现的优点的目的，上文已经描述了本发明的某些目的和优点。当然，应当理解，根据本发明的任何特定实施例，不一定可以实现所有这些目的或优点。因此，例如，本领域技术人员将认识到，本发明可以实现或优化本文所教导或建议的一个优点或一组优点的方式来体现或执行，而不必实现本文可能教导或建议的其他目的或优点。

23、所有这些实施例旨在落入本文公开的本发明的范围内。本领域技术人员将从以下参考附图对某些实施例的详细描述中很容易地看出这些及其他实施例，本发明不限于所公开的任何特定实施例。