用于口腔护理装置的清洁和/或处理单元的制作方法

1.本发明涉及一种用于口腔护理装置的清洁和/或处理单元，特别是具有用于生成电磁发射的电极的清洁和/或处理单元。


背景技术：

2.us2012/233791a1公开了一种用于选择性地将局部电流施加到诸如牙周袋之类的口腔间隙以进行口腔护理的刷体。刷体在刷头中具有多个刷毛束。刷毛束包含具有芯和护套的刷毛。芯包括导电构件并且护套包括覆盖该芯的绝缘构件。在刷毛的尖端部分处，芯比护套突出得更远并且充当电极。
3.us2019/380482a1公开了一种用于口腔护理装置的附件。该附件包括处理元件。处理元件包括第一电极和第二电极，并且电极被布置成使得当第一电极和第二电极被放置成与用户口腔腔体内的组织接触时，所施加的电流能够经由组织从第一电极流到第二电极。
4.wo2017/216606a1公开了一种口腔清洁装置，其包括支撑清洁元件的头部、从头部延伸的柄部、被安置在柄部中的连接到位于头部上的电极的rf生成器，以及附加地或替代地还包括被安置在柄部中的连接到位于柄上的导电表面和位于头部上的电极中的一个电极的微电流源、以及将电极彼此分开的位于头部上的非导电屏障。
5.口腔保健领域中的最新发展是生成射频(rf)电磁场或发射以实现口腔清洁和/或处理功能的口腔护理装置。
6.射频(rf)电磁发射可以被用来在口腔腔体中提供清洁和/或处理功能。特别地，当rf场与牙齿和牙龈的表面相互作用时，它可能会改变口中表面的表面属性，这可能会软化诸如牙菌斑或牙结石之类的表面沉积物，从而使它们更容易被去除。rf发射还可以通过在组织中引发温和的加热动作来提供处理功能。
7.在一些已知的示例中，从清洁和/或处理单元的表面向外延伸的相对硬的电极被用于生成rf发射。然而，这些减少了用于清洁诸如刷毛之类的细丝的可用表面积，从而降低了机械清洁效率。作为替代方案，可以提供柔性发射器，其具有与清洁细丝相似的尺寸和弯曲轮廓。它们可以被集成到清洁细丝领域，而不会显著损失表面积。在一些情况下，它们可以提供机械清洁和rf场生成的双重功能。
8.然而，这种布置的一个困难是柔性发射器由于相邻发射器的电暴露部分之间的接触而处于短路的高风险中。这可能是由于例如发射器的机械变形、弯曲、张开和磨损而导致发生的。短路会损坏发射器的功能性。短路还对用户构成安全隐患，因为发生在口中的短路可能会导致有害的灼伤。
9.能够克服上述问题的用于口腔护理装置的清洁和/或处理单元领域中的改进将是有价值的。


技术实现要素：

10.本发明由独立权利要求来定义。从属权利要求定义了有利的实施例。
11.根据本发明的示例，提供了一种用于口腔护理装置的清洁和/或处理单元，包括：支撑体；从支撑体的表面向外延伸的多个电极，每个电极包括具有至少一部分暴露的导电元件；以及包括一个或多个壁的至少一个屏障，该壁被布置成至少部分地屏蔽暴露部分以防止物理接触，例如防止与多个电极中的至少一个其他电极接触。
12.屏障可以包括物理屏障元件。屏障可以由它所屏蔽的至少一个电极来承载。屏障可以是电绝缘屏障元件。
13.屏障被布置成干预导电元件的暴露部分例如与清洁和/或处理单元的其他组件或与外部物体的物理接触。外部物体可能包括汞合金填充物或牙科矫正器中的金属组件。
14.屏障的一个或多个壁可以与导电元件的暴露部分间隔开。在一些示例中，在屏障和导电元件的暴露部分之间没有接触，即在导电元件的暴露部分和屏障之间存在气隙。在另外的示例中，在屏障的(多个)壁的至少一部分和导电元件之间可以存在固体接触。在本文中，“壁”的概念不限于固体，而是还包括具有可随电极弯折/弯曲的柔性屏障的可能性。但是重要的是壁被布置(例如被成形)以防止电极的暴露部分被物理接触。
15.屏障可以包括单一的(单件的)物理结构，或者它可以包括多材料结构。
16.当该单元在口中的表面上移动或电极退化时，电极可能会朝向彼此弯曲，这导致因接触而短路的风险。由于所生成的过多热量以及还由于如果多个电极中的两个或更多电极靠近在一起而生成的高强度rf场，则短路是一种安全隐患。本发明的实施例提供了一种附加屏障，该附加屏障与电极的至少一个子集相关联，例如耦合到电极的至少一个子集或从电极的至少一个子集延伸，并且被布置成阻挡或阻断电极导电元件的暴露部分与电极或与清洁和/或处理单元的其他物理组件的物理接触。这由此有助于防止可能由于不同极性的电极之间的接触而发生的短路。
17.因此，电极的结构设计被配置为防止由清洁和/或处理单元承载的不同电极的暴露的导电元件部分之间的物理接触。
18.屏障优选地是电绝缘的。电绝缘意味着至少比导电元件的材料更加电绝缘。
19.在该上下文中的“暴露”意指导电元件对清洁和/或处理单元周围的环境(例如，在被接收到其中时的口腔腔体的环境)是开放的，或者与其流体连通。
20.导电元件的暴露部分优选地是远侧或尖端部分，从导电元件的终端远侧点延伸到更近侧的点。本公开中的近侧意指更靠近口腔清洁和/或处理单元的表面，而远侧意指远离口腔清洁和/或处理单元的表面。
21.屏障优选地被布置成干预来自相对于电极是横向的方向的接触，其中横向意指垂直于电极的长度维度的方向。
22.在一些示例中，多个电极可以包括多对电极，并且其中，在操作中，给定对的电极由不同(例如，相反极性)的电压驱动。这意味着在这一对电极之间存在电势差，这在该对电极之间生成电场。
23.电极中的至少一个的屏障可以被布置成干预导电元件的暴露部分与在表面上朝向暴露部分弯曲的另一电极(例如相邻电极)的物理接触。
24.屏障元件可以例如被布置成在电极朝向彼此弯曲时干预每对电极的电极的暴露部分的接触。
25.屏障的壁可以被布置成与导电元件的暴露部分间隔开。
26.在一些示例中，清洁和/或处理单元可以是口腔护理装置的整体部分(例如，刷牙接嘴件(mouthpiece)装置的整体接嘴件部段)，或者可以是口腔护理装置的可拆卸附件，例如牙刷的清洁头，或接嘴件装置的可拆卸接嘴件部段。
27.每个电极都可以是柔性的。特别地，每个都可以在横向方向上是柔性的，横向方向垂直于电极的长度，长度从连接到清洁单元表面的构件的近侧端部和远侧端部延伸。
28.根据一个或多个实施例，清洁和/或处理单元还可以包括从支撑体的表面向外延伸的多个清洁元件，用于与使用者口腔腔体中的表面机械接合以实现清洁功能。清洁元件例如包括清洁细丝，诸如刷毛。电极可以位于刷毛丛内。
29.多个清洁元件可以包括清洁元件的至少一个空间群组，该空间群组覆盖支撑体表面的一个区域，并且其中多个电极的至少一个子集在该区域内从支撑体表面上的位置向外延伸。空间群组例如形成一簇清洁元件。
30.电极可以从表面延伸到与清洁元件相同的长度。
31.在一些情况下，至少两个电极可以位于同一簇内。这使得短路的可能性更大。电极可以例如是在操作中以不同电压来驱动的一对电极。因此，屏障在这种情况下是特别有用的。
32.屏障的一个或多个壁可以各自被布置成面对与导电元件的暴露部分的外表面的至少一部分。它们可以与暴露部分的外表面间隔开。
33.由于壁被布置成面对导电元件的暴露部分的外表面，并且与(多个)外表面相对，所以壁形成物理屏蔽以防止从壁的相反侧的方向接近的外部主体与暴露部分的物理接触。壁例如与导电元件的暴露部分的暴露表面轴向对准，其中轴向方向由电极的长度维度来限定。
34.在一些实施例中，屏障可以是具有环形壁的环形元件，该环形壁环形地围绕导电元件的暴露部分。在环形壁和导电元件的暴露部分之间可以存在径向间距。例如，环形壁可以同轴地围绕导电元件的暴露部分。
35.在一些示例中，屏障还可以包括底壁，该底壁从环形壁朝向导电元件径向地延伸。在这个示例中，屏障是杯子的形式。基底优选地在屏障的近侧端部或侧面封闭屏障，即它在基部处封闭杯子。
36.根据一个或多个实施例，环形壁和导电元件之间的径向间距可以是不均匀的。
37.作为一个示例，屏障可以是截头锥形元件，环形壁被布置为在导电元件的远侧端部的方向上从导电元件径向地向外逐渐变细。屏障的远侧面可以是开放的。在这种情况下，壁与导电元件呈一定角度。
38.根据一个或多个实施例，每个电极可以包括电绝缘护套，其具有沿着导电元件的第一长度部分来与导电元件固体接触的第一部段，导电元件的第一长度部分形成导电元件的非暴露部分。
39.屏障的至少一个壁可以由从第一部段的远侧端部延伸的护套的第二部段形成，第二部段与导电元件的第二长度部分径向地间隔开，第二长度部分形成导电元件的暴露部分。因此，屏障由覆盖导电元件的近侧部分的绝缘护套的远侧部分形成。这提供了结构上有效的配置。
40.在一些示例中，绝缘护套的第二部段可以从护套的第一部段的远侧端部、从导电
元件径向地向外逐渐变细。
41.根据一个或多个实施例，屏障可以延伸到大于电极的最大宽度(没有屏障)的最大宽度。这具有如下效果：屏障迫使任何两个电极之间有物理分离，至少在被屏障元件覆盖的电极的各部段之间有物理分离。屏障元件用于偏转物理接触。换句话说，屏障元件形成电极的扩展宽度部分。
42.本发明的其他示例提供了一种口腔护理装置，包括：根据以上概述或以下描述的任何示例或实施例或根据本技术的任何权利要求的口腔清洁和/或处理单元；以及信号生成器，其适于生成一个或多个驱动信号以供应给口腔清洁和/或处理单元的多个电极，例如用于刺激电极生成射频(rf)电磁发射或电流。
43.在本公开的上下文中，“发射”可以指的是静态或随时间变化的电场或电磁场和/或传播的电磁波。
44.口腔护理装置还可以包括机械运动生成器，其被布置成将振荡运动施加到清洁和/或处理单元的支撑体。
45.电极的振荡运动可以增加电极之间接触的机会。因此，屏障对于这样的实施例是特别有用的。
46.根据一个或多个实施例，口腔护理装置可以是牙刷或接嘴件装置。
47.本发明的这些和其他方面将通过参考以下描述的(多个)实施例而显而易见并得到阐明。
附图说明
48.为了更好地理解本发明，并且为了更清楚地表明如何实施本发明，现在将仅通过示例的方式对附图进行参考，其中：
49.图1示出了根据一个或多个实施例的包括屏障的示例电极的透视图；
50.图2示出了图1中描绘的示例电极的正视图；
51.图3示出了图1-图2中描绘的示例电极的平面图；
52.图4示出根据一个或多个实施例的包括另一示例屏障的电极的透视图；
53.图5示出了根据一个或多个实施例的承载一对电极的示例清洁和/或处理单元，每个电极都承载屏障；
54.图6图示了图5的清洁和/或处理单元的电极朝向彼此的弯曲，以及屏障的屏蔽作用；
55.图7图示了根据一个或多个实施例的示例清洁和/或处理单元，其包括围绕该对电极的多个清洁元件；
56.图8图示了图7的示例清洁和/或处理单元的电极朝向彼此的弯曲，以及屏障的屏蔽作用；
57.图9以平面图图示了清洁元件的一组示例空间群组的布局，其中电极位于空间群组的选择内；
58.图10示出了具有由电极的绝缘护套的远侧部段形成的示例屏障的电极；
59.图11示出了用于驱动清洁和/或处理单元的电极生成rf发射的示例驱动电路；
60.图12示出了牙刷头形式的示例清洁和/或处理单元；和
61.图13示出了牙刷形式的示例口腔护理装置。
具体实施方式
62.将参考附图描述本发明。
63.应当理解，详细描述和具体示例虽然指示了口腔清洁和/或处理单元以及口腔护理装置的示例性实施例，但是其仅旨在用于说明的目的，而不旨在限制本发明的范围。本发明的口腔清洁和/或处理单元以及口腔护理装置的这些和其他特征、方面和优点将从以下描述、所附权利要求和附图中得到更好的理解。附图仅仅是示意性的并且没有按比例绘制。贯穿附图使用相同的附图标记来指示相同或相似的部分。
64.本发明提供了一种由口腔护理装置的清洁和/或处理单元的em发射器元件承载的物理屏蔽元件，被布置用于干预发射器元件的暴露导电部分与其他组件或外部物体的接触。屏蔽元件被布置成使得暴露导电部分仍然至少部分地对发射器元件周围的环境开放。
65.图1-图3示出了根据一个或多个实施例的口腔清洁和/或处理单元12的示例电极22。图1示出了透视图。图2示出了正视图。图3示出了平面图(俯视图)。
66.当被组装时，电极22将被布置成从清洁和/或处理单元12的支撑体14的表面向外延伸。它优选地被提供为多个电极22中的一个。多对电极22可以被提供。
67.电极22包括导电元件24，其轴向地穿过电极结构的芯。导电元件24的远侧部分25被暴露，这意味着导电元件24的这个部分向清洁和/或处理单元12周围的环境开放，或者在方向上与清洁和/或处理单元12周围的环境流体连通，例如开放到空气中。电极22优选地在横向方向上是柔性的，这意味着它在横向于由其长度l所限定的维度的方向上是可弯曲的。
68.进一步提供由电极承载的屏障32。在这个示例中的屏障32是物理屏障元件的形式。屏障32包括与导电元件24的暴露部分25间隔开的一个或多个壁34。壁被布置成至少部分地屏蔽暴露部分25以防止物理接触。屏障32可选地是电绝缘的。
69.在这个示例中，导电元件的暴露部分25形成远侧尖端部分，延伸到导电元件24的终端远侧点。
70.在所图示的示例中，屏障32包括环形壁34，其环形地围绕导电元件24的暴露部分25。在环形壁34和导电元件24的暴露部分25之间存在径向间距s。间距s例如形成气隙。环形壁被布置成面向导电元件24的暴露部分25的外表面的至少一部分，并且与暴露部分25的外表面间隔开。环形壁34可以同轴地围绕导电元件24的暴露部分25。
71.尽管在图1的示例中，环形壁34围绕导电元件24的暴露部分25形成连续的环形环，但是这不是必需的。环形壁34可以是不连续的，在一些示例中具有一个或多个中断。
72.此外，尽管在图1的示例中屏障32具有环形壁34，但是这不是必需的。例如，在变型中，导电元件25可以具有平坦或平面形式，在导电元件25的相反侧上具有平面主表面，并且其中屏障32包括一对被布置成与每个平面主表面相对的壁表面。壁可以是平面的。
73.一个或多个壁34被布置为形成物理屏蔽件以防止导电元件24的暴露部分25与其他电极22物理接触或与从壁34的相反侧上的方向接近的其他外部物体物理接触。壁34干预从电极的侧面接近的物体的接触。
74.在所图示的示例中，环形壁34和导电元件24之间的径向间距s是不均匀的。特别地，环形壁34沿其长度径向地向外逐渐变细。它从具有第一直径的近侧端部到具有更大的
第二直径的远侧端部逐渐变细。远侧端部是开放的。近侧端部耦合到电绝缘盖或护套28的远侧端部，电绝缘盖或护套28覆盖导电元件24的杆部段，杆部段不被暴露。
75.屏障32因此限定截头锥形形状。在这个示例中的壁34的宽度是均匀的，但是这不是必需的。屏障有效地遵循漏斗形状。
76.图4示出了另一个示例，其中屏障32采取杯形的形式。特别地，屏障32还包括底壁36，其从环形壁34朝向导电元件径向地延伸。在所图示的示例中，它从环形壁34的近侧边缘或边沿(基本上)横向地延伸到绝缘护套28的远侧边缘或边沿，绝缘护套28覆盖导电元件24的杆部。底壁36因此闭合屏障32在其底部处。屏障32在其远侧面处保持开放。
77.作为屏障32的结果，导电元件24的暴露部分25被部分地物理保护免于被从横向于电极22的方向接近的元件接触，同时仍然允许导电元件24的远侧部分被暴露，允许em能量从电极22的有效输出和/或电流的流动。屏障32减少了暴露部分25被口腔清洁和/或处理单元的表面上的相邻电极接触的可能性，从而减少了短路的机会。
78.如所提及，屏障32可以由非导电材料形成并且可以在导电元件24的暴露部分25周围形成介电屏障，以防止短路。屏障32的开放形状及其与导电元件的间距仍然允许在尖端处生成rf场，这在使用中有利地形成最接近目标表面(牙齿和牙龈)的点。作为非限制性示例，屏障32可以由诸如橡胶之类的介电弹性体材料形成。
79.在一些实施例中，屏障32的一个或多个壁34可以包括小孔，其允许离子流动同时仍然防止电极22之间的机械接触。屏障32因此具有类似于滤膜的结构。孔的尺寸可以落在尺寸范围内的任何位置，其下限受限于离子能够通过的需要，而其上限受限于保持屏障32的结构完整性的需要。例如，合适的范围可以在10nm和50μm(直径)之间。
80.如上面所提及，优选地，每个电极22是柔性的。在一些有利的示例中，至少电极22的子集可以适于兼作清洁细丝。因此，除了rf发射功能之外，至少电极22的子集可以适于执行机械清洁功能。这种布置可能是优选的，因为不需要在机械刷洗功效和rf场输出功效之间做出折衷。电极22的存在不会占用清洁和/或处理单元表面12上用于存在机械清洁元件(例如刷毛)的可用空间。
81.根据本发明的实施例的屏障32在这种情况下是特别有利的，因为柔性电极22更有可能弯曲并且可能彼此接触，从而导致短路。
82.因此，由每个电极22承载的屏障32可以优选地被布置成在电极22朝向彼此弯曲时干预每对相邻电极22的电极22导电元件24的暴露部分25的接触。
83.尽管在以上示例中，屏障32的环形壁34相对于电极22(的长度)成角度或倾斜(即锥形)，但是这不是必需的。(多个)壁34可以平行于电极22的长度维度延伸。
84.尽管在上面概述的示例中，屏障32的整个壁34与导电元件24的暴露部分间隔开一个气隙，但是这不是必需的。在另外的示例中，屏障32的一部分或全部可以与导电元件24接触。例如，屏障32可以包括围绕导电元件24的环形壁34，并且在环形壁34和导电元件24之间具有填充物。填充物可以是介电填充物。代替具有介电填充物的壁34，屏障32可以是单一的(单件的)固体结构，例如由单个材料形成，被成形为防止一个电极22的暴露部分25与另一电极22物理接触。在这些情况下，导电元件的暴露部分可以从屏障32的顶部突出。
85.作为一个示例，屏障32可以包括截头锥形或杯形元件，如图1和图5的示例中那样，但是其中屏障32被固体地填充在导电元件24和壁34之间，并且其中导电元件24从屏障32的
远侧端部突出，该突起形成导电元件24的暴露部分25。在这种情况下，屏障32仍对导电元件24的暴露部分25提供保护，因为与电极22的下部(屏障元件的近侧)相比，其延伸的最大宽度起到偏转物理接触的作用，或迫使附近电极的远侧区域之间有更大的物理分离。
86.优选地，屏障32在所有情况下都不是涂层，其中涂层具有本领域通常使用的含义，即导电元件的薄的、通常厚度均匀的表皮或覆盖物。
87.图5和图6示意性地图示了根据本发明的一个或多个实施例的用于口腔护理装置的示例清洁和/或处理单元12。清洁和/或处理单元12包括支撑体14和从支撑体14的表面16向外延伸的多个电极22。虽然在图5和图6中仅示出了两个电极22，但是可以提供超过两个。多个电极22可以包括一对或多对电极22。在操作中，可以用不同的电压驱动给定对的电极22，使得它们之间存在电势差。因此，电极22之间的接触会导致通过短路生成热量。
88.图5示出了处于电极22的低磨损或退化状态(例如出厂新状态)的示例清洁和/或处理单元12，其中电极22是直的，并且没有朝向彼此弯曲。当电极22不因与口中表面的接触而偏转时，它可以替代地表示单元的静止状态。
89.图6示出了处于较高磨损或退化状态的示例清洁和/或处理单元12，其中电极22弯曲或变形，使得它们朝向彼此弯曲，或者已经失去它们抵抗在使用过程中朝向彼此弯曲的结构刚度。替代地，它可以表示低磨损状态，但是其中在口中使用该单元期间电极22朝向彼此弯曲，导致在电极22上施加力。在任一情况下，在现有技术的装置中，由于电极22的导电元件24的暴露部分25之间的接触，这将有短路的风险。如图6中所图示，根据本发明的实施例，由每个电极22承载的屏障32是被布置成阻挡每个电极的导电元件24的暴露部分与另一电极22接触(由于(多个)电极22朝向彼此的相对弯曲)的物理屏障元件的形式。
90.尽管在图5和图6中所图示的一对电极22的两个电极都包括屏障32，但是这不是必需的。更一般地，一对电极22中只有一个可以包括屏障32，因为这本身就防止了一对电极的两个电极的暴露的导电部分25之间的物理接触。更一般地，仅清洁和/或处理单元12所包括的多个电极22中的一个或多个的子集需要包括物理屏障元件。
91.如上面所讨论的，清洁和/或处理单元12还可以包括从支撑体14的表面向外延伸的多个机械清洁元件52，用于与使用者的口腔腔体中的表面机械接合以实现清洁功能。清洁元件可以例如包括诸如刷毛之类的清洁细丝，和/或可以包括诸如刷毛之类的清洁细丝束。电极22可以各自位于一丛清洁元件之中。
92.图7-图8示意性地图示了根据本发明的一个或多个实施例的包括多个清洁元件52和多个电极22的示例清洁和/或处理单元12。电极22可以被布置成使得它们被清洁元件52或清洁元件52束包围。例如，多个清洁元件52可以包括清洁元件52的至少一个空间群组，该空间群组覆盖支撑体14表面16的区域，并且其中多个电极22的至少一个子集在该区域内从支撑体表面16上的位置向外延伸。空间群组可以形成一簇清洁元件52或一丛清洁元件52，其中丛可以包括多个簇或多个个体清洁细丝。
93.电极22优选地在横向方向上是柔性的，这意味着在横向于由其长度l所限定的维度的方向上是可弯曲的。
94.多个电极22的至少一个子集可以延伸到与清洁元件52相同的高度(从清洁和/或处理单元14的表面16起)。清洁元件的空间群组的清洁元件52的远侧尖端可以限定高度分布，该高度分布可以是也可以不是从表面16起的统一高度，并且其中电极的远侧尖端位于
高度分布内。
95.由不同驱动电压驱动的一对或多对电极22可以位于清洁元件52的相同空间群组内。这使得更可能发生短路，这使得屏障32在这种情形中特别有用。
96.图8图示了清洁和/或处理单元12的机械磨损或退化状态，其中电极22和刷毛52部分变形和弯曲，或者已经失去它们的抗弯刚度，使得它们更容易弯曲。替代地，它可以表示处于在口中的操作中的单元，其中电极22由于与口中表面接触或由于机械振荡器的振荡而偏转。如图所示，电极22的远侧部分可以具有更大的彼此接触的风险，特别是如果位于清洁元件52的同一丛(或其他空间群组)中。根据本发明的实施例的屏障32将干预至少电极导电元件24的暴露部分25之间的接触，从而防止短路。
97.图9进一步示意性地图示了电极22和清洁元件52的示例空间配置(在平面图中)。如所图示，清洁和/或处理单元可以包括清洁元件52的多个空间群组62。在图9中，这些以清洁元件52簇的形式被图示出。清洁元件52的空间群组的一个子集62a包括位于该群组的清洁元件52之中的电极22(位于从在空间群组的足迹区域内的清洁和/或处理单元表面16上的点延伸)。在清洁元件的相同空间群组(例如簇)中提供多个电极22在功能上是有利的，因为它允许每单位面积递送更大的电磁(em)能量。清洁元件的空间群组的第一子集62a中的每一个可以包括至少一对电极22，其在操作中由不同的电压驱动。
98.清洁元件52的空间群组的另一子集62b不包括电极22。然而，这不是必需的，并且在另外的实施例中，清洁元件52的所有空间群组可以包括一个或多个电极22。正如可以看出的，当多个电极22被包括在清洁元件52的同一空间群组(例如簇或丛)内时，电极22之间接触的可能性为高。簇在空间上是受限的，例如相邻的清洁元件52即使在静止、中性状态下也彼此接触。因此，屏障32的使用在此类示例中是特别有利的。
99.在另一组示例中，电极22可以被定位在清洁元件52的空间群组之外，例如在清洁元件52的两个或更多空间群组之间。优选地，在这种情况下，电极22可以延伸至距表面的高度小于清洁元件52的高度。这避免了电极22机械地干扰清洁元件52与口腔腔体中的表面接合的动作。
100.图10示意性地图示了根据一个或多个实施例的用于在清洁和/或处理单元12上使用的具有屏障32的示例电极22的结构。电极22包括电绝缘护套42，其具有沿着导电元件的第一长度部分与电极的导电元件24固体接触的第一部段42a。护套的第一部段42a同轴地围绕并覆盖导电元件24的第一长度部分，其中第一长度部分形成电极的芯。导电元件24的第一长度部分形成导电元件24的非暴露部分。
101.护套还包括从第一部段42a的远侧端部向外延伸的第二部段42b。护套的第二部段42b形成屏障32。特别地，在图示的示例中，护套的第二部段42b形成环形壁34，其与导电元件24的第二长度部分径向地间隔开并且环形地围绕导电元件24的第二长度部分，环形壁限定屏障32。第二长度部分形成导电元件24的暴露部分25。
102.图10(左)示出了电极22的透视图。图10(右上)示出了电极22的平面图，其中形成屏障32的护套的第二部段42b是可见的。图10(右下)示出了穿过电极、穿过垂直于电极的长度l维度(即轴向维度)的平面并且穿过被护套的第一部段42a覆盖的电极部分的横截面。如图所示，护套的第一部段42a与导电元件24的第一长度部分固体接触。
103.因此，在这个示例中的屏障32由绝缘护套的远侧部分42b形成，该绝缘护套也覆盖
导电元件的近侧部分。因此这是一种结构上有效的配置。
104.绝缘护套的第二部段42b在电极22的远侧尖端的方向上从护套的第一部段42a的远侧端部径向地向外逐渐变细。换句话说，它限定了截头锥形形状，在(开放的)远侧端部处比在近侧端部处具有更大直径，近侧端部耦合到护套的第一部段42a的远侧端部。
105.根据本发明的另一方面的示例提供口腔护理装置70。
106.图11示出了根据一个或多个实施例的示例口腔护理装置70的基本组件。口腔护理装置70包括：根据上文概述或下文描述的任何示例或实施例或根据本技术的任何权利要求的口腔清洁和/或处理单元12。口腔护理装置70还包括信号生成器72，其适于生成一个或多个驱动信号以供应给口腔清洁和/或处理单元12的多个电极22a、22b，以用于刺激从电极生成rf电磁发射。
107.尽管图11的示例示出了单对电极22a、22b，但是在另外的示例中更多的电极22可以成对地或者作为另外的独立电极而被提供。
108.信号生成器72可以生成交流电或电压形式的驱动信号，以供应给电极22a、22b。驱动信号用于刺激由电极生成时变电磁场和/或射频频带的电磁波。举例来说，合适的频率范围可以在30hz和300ghz之间。
109.信号生成器72可以向该对中的两个电极22a、22b供应不同的电压。它可以向两者供应相反极性的电压。它可以被布置成向每个电极22或每对电极供应相同的驱动信号，或者可以可操作地向电极22的不同子集(例如，清洁和/或处理单元12所包括的电极的不同空间群组)供应不同的驱动信号。电极22适于在被来自信号生成器72的驱动信号驱动时生成电磁发射。
110.可选地，口腔护理装置70还可以包括控制器74，其被布置成控制信号生成器72的操作。例如，它可以控制电极22的驱动方案，例如控制电极22的不同空间群组的激活和去激活和/或控制rf发射(rf场或rf波)生成的时序。
111.在优选实施例中，口腔护理装置70的清洁和/或处理单元12还包括多个清洁元件(例如刷毛)52。
112.在优选实施例中，口腔护理装置还包括机械运动生成器(图11中未示出)，其被布置成向清洁和/或处理单元12的支撑体施加振荡运动。这可以耦合到控制器74。振荡运动引起清洁元件52的振荡，这在清洁元件52被施加到口腔表面上时增强了清洁和/或处理作用。
113.振荡运动也可以引起电极22的运动。电极22的振荡运动可以增加电极22之间接触的机会。因此，屏障32对于此类实施例是特别有用的。
114.图12-图13示出了一种牙刷形式的示例口腔护理装置70。在这个示例中，口腔清洁和/或处理单元12是用于牙刷的可拆卸刷头的形式，并且其中承载电极22和刷毛丛52的支撑体14由刷头的压板部分形成。在这个示例中的刷头形成到牙刷的基部82的可移除附件，基部形成用于该装置的手柄。信号生成器72和可选的控制器74被容纳在基部82内。振荡运动生成器也可以被提供容纳在基部(82)内，并被布置成向清洁和/或处理单元12施加振荡运动。
115.基座单元82和清洁和/或处理单元12可以包括互补的电连接器，其被布置成使得在清洁和/或处理单元12机械耦合或对接至基座单元时，在信号生成器72与由清洁和/或处理单元包括的电极22之间建立电连接。
116.虽然图12-图13的示例示出了牙刷形式的口腔护理装置70，但是这不是必需的。作为另外的非限制性示例，口腔护理装置可以采取接嘴件装置的形式，包括限定牙齿接收通道的主体，并且刷毛被布置成突出到通道中以用于牙齿清洁功能。主体例如可以是u形、c形或j形。另外的示例包括口腔冲洗器、电动牙线装置或任何其他口腔护理装置。
117.通过对附图、公开内容和所附权利要求的研究，本领域技术人员在实践要求保护的发明时可以理解和实现对所公开的实施例的变型。在权利要求中，词语“包括”不排除其他元件或步骤，不定冠词“一”或“一个”不排除复数。
118.如上面所讨论的，某些实施例可以使用控制器。控制器可以通过软件和/或硬件以多种方式来实现，以执行所需的各种功能。处理器是控制器的一个示例，它采用了一个或多个微处理器，微处理器可以使用软件(例如，微代码)来进行编程以执行所需的功能。然而，控制器可以使用或不使用处理器来实现，并且还可以被实现为执行一些功能的专用硬件和执行其他功能的处理器(例如，一个或多个编程的微处理器和相关电路)的组合。
119.可以在本公开的各种实施例中采用的控制器组件的示例包括但不限于常规微处理器、专用集成电路(asic)和现场可编程门阵列(fpga)。
120.在各种实现中，处理器或控制器可以与一个或多个存储介质相关联，诸如易失性和非易失性计算机存储器，诸如ram、prom、eprom和eeprom。存储介质可以用一个或多个程序来进行编码，当在一个或多个处理器和/或控制器上执行时，这些程序执行所需的功能。各种存储介质可以被固定在处理器或控制器内或者可以是可传送的，使得存储在其上的一个或多个程序可以被加载到处理器或控制器中。
121.可以有利地组合相互不同的从属权利要求中记载的措施。如果在权利要求或说明书中使用术语“适于”，则应注意术语“适于”旨在等同于术语“配置为”。权利要求中的任何参考标记不应被解释为限制范围。