表面处理剂的制作方法

技术特征：
1.一种表面处理剂，其特征在于：其为含有含氟代聚醚基硅烷化合物和酰胺化合物的表面处理剂，相对于表面处理剂整体，该酰胺化合物含有0.5质量％以上。2.如权利要求1所述的表面处理剂，其特征在于：所述含氟代聚醚基硅烷化合物为以下式(1)或(2)所示的至少1种的含氟代聚醚基硅烷化合物，r
f1α-x
a-r
siβ
ꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀ
(1)r
siγ-x
a-r
f2-x
a-r
siγ
ꢀꢀꢀꢀꢀꢀ
(2)式中：r
f1
在每次出现时分别独立地为rf
1-r
f-o
q-；r
f2
为-rf
2p-r
f-o
q-；rf1在每次出现时分别独立地为可以被1个或1个以上的氟原子取代的c
1-16
烷基；rf2为可以被1个或1个以上的氟原子取代的c
1-6
亚烷基；r
f
在每次出现时分别独立地为2价的氟代聚醚基；p为0或1；q在每次出现时分别独立地为0或1；r
si
在每次出现时分别独立地为含有键合有羟基、水解性基团、氢原子或1价的有机基团的si原子的1价的基团；至少1个r
si
为含有键合有羟基或水解性基团的si原子的1价的基团；x
a
分别独立地为单键或2～10价的有机基团；α为1～9的整数；β为1～9的整数；γ分别独立地为1～9的整数。3.如权利要求2所述的表面处理剂，其特征在于：rf1在每次出现时分别独立地为c
1－16
全氟烷基，rf2在每次出现时分别独立地为c
1－6
全氟亚烷基。4.如权利要求2或3所述的表面处理剂，其特征在于：r
f
在每次出现时分别独立地为式：－(oc6f
12
)
a
－(oc5f
10
)
b
－(oc4f8)
c
－(oc3r
fa6
)
d
－(oc2f4)
e
－(ocf2)
f
－所示的基团，式中，r
fa
在每次出现时分别独立地为氢原子、氟原子或氯原子，a、b、c、d、e和f分别独立地为0～200的整数，a、b、c、d、e和f之和为1以上，标注a、b、c、d、e或f并用括号括起来的各重复单元的存在顺序在式中是任意的，但在全部r
fa
为氢原子或氯原子的情况下，a、b、c、e和f中的至少1个为1以上。5.如权利要求4所述的表面处理剂，其特征在于：r
fa
为氟原子。6.如权利要求2～5中任一项所述的表面处理剂，其特征在于：r
f
在每次出现时分别独立地为以下式(f1)、(f2)、(f3)、(f4)或(f5)所示的基团，－(oc3f6)
d
－(oc2f4)
e
－(f1)式(f1)中，d为1～200的整数，e为0或1，
－(oc4f8)
c
－(oc3f6)
d
－(oc2f4)
e
－(ocf2)
f
－(f2)式(f2)中，c和d分别独立地为0～30的整数；e和f分别独立地为1～200的整数；c、d、e和f之和为10～200的整数；标注角标c、d、e或f并用括号括起来的各重复单元的存在顺序在式中是任意的，－(r6－r7)
g
－(f3)式(f3)中，r6为ocf2或oc2f4；r7为选自oc2f4、oc3f6、oc4f8、oc5f
10
和oc6f
12
中的基团，或者为从这些基团中选择的2或3个基团的组合；g为2～100的整数，
‑‑
(oc6f
12
)
a-(oc5f
10
)
b-(oc4f8)
c-(oc3f6)
d-(oc2f4)
e-(ocf2)
f
‑ꢀꢀꢀ
(f4)式(f4)中，e为1以上200以下的整数，a、b、c、d和f分别独立地为0以上200以下的整数，另外，标注a、b、c、d、e或f并用括号括起来的各重复单元的存在顺序在式中是任意的，-(oc6f
12
)
a-(oc5f
10
)
b-(oc4f8)
c-(oc3f6)
d-(oc2f4)
e-(ocf2)
f
‑ꢀꢀꢀꢀ
(f5)式(f5)中，f为1以上200以下的整数，a、b、c、d和e分别独立地为0以上200以下的整数，另外，标注a、b、c、d、e或f并用括号括起来的各重复单元的存在顺序在式中是任意的。7.如权利要求2～6中任一项所述的表面处理剂，其特征在于：r
si
为以下式(s1)、(s2)、(s3)、(s4)或(s5)所示的基团，-sir
11n1
r
123-n1
ꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀ
(s2)-sir
a1k1
r
b111
r
c1m1
ꢀꢀꢀꢀꢀꢀ
(s3)-cr
d1k2
r
e112
r
f1m2
ꢀꢀꢀꢀꢀꢀ
(s4)-nr
g1
r
h1
ꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀ
(s5)式中：r
11
在每次出现时分别独立地为羟基或水解性基团；r
12
在每次出现时分别独立地为氢原子或1价的有机基团；n1在每个(sir
11n1
r
123-n1
)单元中分别独立地为0～3的整数；x
11
在每次出现时分别独立地为单键或2价的有机基团；r
13
在每次出现时分别独立地为氢原子或1价的有机基团；t在每次出现时分别独立地为2以上的整数；r
14
在每次出现时分别独立地为氢原子、卤原子或-x
11-sir
11n1
r
123-n1
；r
a1
在每次出现时分别独立地为－z1－sir
21p1
r
22q1
r
23r1
；z1在每次出现时分别独立地为氧原子或2价的有机基团；r
21
在每次出现时分别独立地为－z1′
－sir
21
′
p1
′
r
22
′
q1
′
r
23
′
r1
′
；r
22
在每次出现时分别独立地为羟基或水解性基团；r
23
在每次出现时分别独立地为氢原子或1价的有机基团；
p1在每次出现时分别独立地为0～3的整数；q1在每次出现时分别独立地为0～3的整数；r1在每次出现时分别独立地为0～3的整数；p1、q1和r1的合计为3；z1′
在每次出现时分别独立地为氧原子或2价的有机基团；r
21
′
在每次出现时分别独立地为－z1″
－sir
22
″
q1
″
r
23
″
r1
″
；r
22
′
在每次出现时分别独立地为羟基或水解性基团；r
23
′
在每次出现时分别独立地为氢原子或1价的有机基团；p1
′
在每次出现时分别独立地为0～3的整数；q1
′
在每次出现时分别独立地为0～3的整数；r1
′
在每次出现时分别独立地为0～3的整数；p1
′
、q1
′
和r1
′
的合计为3；z1″
在每次出现时分别独立地为氧原子或2价的有机基团；r
22
″
在每次出现时分别独立地为羟基或水解性基团；r
23
″
在每次出现时分别独立地为氢原子或1价的有机基团；q1
″
在每次出现时分别独立地为0～3的整数；r1
″
在每次出现时分别独立地为0～3的整数；q1
″
和r1
″
的合计为3；r
b1
在每次出现时分别独立地为羟基或水解性基团；r
c1
在每次出现时分别独立地为氢原子或1价的有机基团；k1在每次出现时分别独立地为0～3的整数；l1在每次出现时分别独立地为0～3的整数；m1在每次出现时分别独立地为0～3的整数；k1、l1和m1的合计为3；r
d1
在每次出现时分别独立地为－z2－cr
31p2
r
32q2
r
33r2
；z2在每次出现时分别独立地为单键、氧原子或2价的有机基团；r
31
在每次出现时分别独立地为－z2′
－cr
32
′
q2
′
r
33
′
r2
′
；r
32
在每次出现时分别独立地为－z3－sir
34n2
r
353－n2
；r
33
在每次出现时分别独立地为氢原子、羟基或1价的有机基团；p2在每次出现时分别独立地为0～3的整数；q2在每次出现时分别独立地为0～3的整数；r2在每次出现时分别独立地为0～3的整数；p2、q2和r2的合计为3；z2′
在每次出现时分别独立地为单键、氧原子或2价的有机基团；r
32
′
在每次出现时分别独立地为－z3－sir
34n2
r
353－n2
；r
33
′
在每次出现时分别独立地为氢原子、羟基或1价的有机基团；q2
′
在每次出现时分别独立地为0～3的整数；r2
′
在每次出现时分别独立地为0～3的整数；q2
′
和r2
′
的合计为3；
z3在每次出现时分别独立地为单键、氧原子或2价的有机基团；r
34
在每次出现时分别独立地为羟基或水解性基团；r
35
在每次出现时分别独立地为氢原子或1价的有机基团；n2在每次出现时分别独立地为0～3的整数；r
e1
在每次出现时分别独立地为－z3－sir
34n2
r
353－n2
；r
f1
在每次出现时分别独立地为氢原子、羟基或1价的有机基团；k2在每次出现时分别独立地为0～3的整数；l2在每次出现时分别独立地为0～3的整数；m2在每次出现时分别独立地为0～3的整数；k2、l2和m2的合计为3；r
g1
和r
h1
在每次出现时分别独立地为－z4－sir
11n1
r
123－n1
、－z4－sir
a1k1
r
b1l1
r
c1m1
或－z4－cr
d1k2
r
e1l2
r
f1m2
；z4在每次出现时分别独立地为单键、氧原子或2价的有机基团；其中，式(s1)、(s2)、(s3)、(s4)和(s5)中，至少存在1个键合有羟基或水解性基团的si原子。8.如权利要求2～7中任一项所述的表面处理剂，其特征在于：α、β和γ为1。9.如权利要求7或8所述的表面处理剂，其特征在于：所述式(s1)所示的基团为以下式(s1－b)所示的基团，式中，r
11
、r
12
、r
13
、x
11
、n1和t的含义与上述式(s1)中的记载相同。10.如权利要求1～9中任一项所述的表面处理剂，其特征在于：相对于表面处理剂整体，所述酰胺化合物的含量为0.5～10.0质量％。11.如权利要求1～10中任一项所述的表面处理剂，其特征在于：所述酰胺化合物的大气压下的沸点为150～300℃。12.如权利要求1～11中任一项所述的表面处理剂，其特征在于：所述酰胺化合物为以下式(a)所示的酰胺化合物，nr
61
r
62
－cor
63
(a)式中：r
61
为氢原子或c
1－10
烷基；r
62
为c
1－10
烷基；r
63
为氢原子、c
1－10
烷基、nr
652
、或－r
66x
－r
67y
－r
68
；或者r
62
和r
63
分别键合而形成－r
62
－r
63
－，该－r
62
－r
63
－为c
3－4
亚烷基或－c
2－3
亚烷基－nr
65
－；r
65
分别独立地为氢原子或c
1－10
烷基；r
66
在每次出现时分别独立地为c
1－6
亚烷基；
r
67
为氧原子或co；r
68
为c
1－10
烷基；x为1～6的整数；y为1～6的整数；在此，－r
66x
－r
67y
－r
68
中，r
66
和r
67
各自的存在顺序是任意的。13.如权利要求12所述的表面处理剂，其特征在于：r
63
为－r
66x
－r
67y
－r
68
。14.如权利要求12所述的表面处理剂，其特征在于：r
63
为－r
66
－r
67
－r
68
。15.如权利要求12所述的表面处理剂，其特征在于：r
62
和r
63
分别键合而形成－r
62
－r
63
－，该－r
62
－r
63
－为c
3－4
亚烷基。16.如权利要求1～15中任一项所述的表面处理剂，其特征在于：还含有选自含氟油、硅油和催化剂中的1种或1种以上的其他成分。17.如权利要求1～16中任一项所述的表面处理剂，其特征在于：还含有溶剂。18.如权利要求1～17中任一项所述的表面处理剂，其特征在于：该表面处理剂作为防污性涂层剂或防水性涂层剂使用。19.一种粒料，其特征在于：含有权利要求1～18中任一项所述的表面处理剂。20.一种物品，其特征在于：包括基材、和在该基材上由权利要求1～18中任一项所述的表面处理剂形成的层。21.如权利要求20所述的物品，其特征在于：所述基材为玻璃基材。22.如权利要求20所述的物品，其特征在于：该物品为光学部件。

技术总结
本发明涉及含有含氟代聚醚基硅烷化合物和酰胺化合物的表面处理剂，相对于表面处理剂整体，该酰胺化合物的含量含有0.5质量％以上。该酰胺化合物的含量含有0.5质量％以上。


技术研发人员：内藤真人 G
受保护的技术使用者：大金工业株式会社
技术研发日：2022.01.07
技术公布日：2023/9/9