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液晶取向剂、液晶取向膜以及液晶显示元件的制作方法

2023-06-09 15:04:33 来源:中国专利 TAG:

技术特征:
1.一种液晶取向剂,其特征在于,所述液晶取向剂含有选自由聚酰亚胺前体、以及作为该聚酰亚胺前体的酰亚胺化物的聚酰亚胺构成的组中的至少一种聚合物a,所述聚酰亚胺前体使用包含下述式(1a)所示的二胺和下述式(1b)所示的二胺的二胺成分和包含芳香族四羧酸二酐或其衍生物的四羧酸衍生物成分而得到,所述二胺成分中,相对于所使用的二胺成分1摩尔包含5~95摩尔%的所述式(1a)所示的二胺,苯环上的任意氢原子任选地被一价取代基取代,h2n-不-nh2(1b)y表示在分子内具有选自由任选地被取代的含氮原子的杂环和下述式(b)所示的胺结构构成的组中的至少一个结构的二价有机基团,r表示氢原子、碳原子数1~10的链状烃基、或所述碳原子数1~10的链状烃基的碳-碳键间具有-o-的基团;苯环上的任意氢原子任选地被选自由碳原子数1~3的烷基、碳原子数1~3的烷氧基、碳原子数1~3的含氟原子烷基、碳原子数1~3的含氟原子烷氧基以及氟原子构成的组中的至少一种取代。2.根据权利要求1所述的液晶取向剂,其中,式(1a)所示的二胺为下述式(1a-1)~(1a-3)所示的二胺,3.根据权利要求1~2中任一项所述的液晶取向剂,其中,所述二胺成分中的5~95摩尔%为所述式(1b)所示的二胺。4.根据权利要求1~3中任一项所述的液晶取向剂,其中,所述芳香族四羧酸二酐由下述式(t
a
)表示,
x
a
表示选自由下述式(a-1)~(a-9)构成的组中的结构,j和k为0或1的整数,a1和a2各自独立地表示单键、-o-、-co-、-coo-、亚苯基、-so2-、或-nrco-,其中r表示氢原子或甲基;*表示与酸酐基键合的键合键;在式(a-2)中,两个a2任选地相同或不同。5.根据权利要求4所述的液晶取向剂,其中,所述式(a-1)或(a-2)表示选自由下述式(a-10)~(a-25)构成的组中的结构,
式中的“*”表示与酸酐基键合的键合键。6.根据权利要求4或5所述的液晶取向剂,其中,相对于所使用的四羧酸衍生物成分1摩尔,所述四羧酸衍生物成分包含10~100摩尔%的所述式(t
a
)所示的芳香族四羧酸二酐或其衍生物。7.根据权利要求1~6中任一项所述的液晶取向剂,其中,上述y为下述式(y1)~(y8)所示的二价有机基团,
r与上述式(b)为相同含义;q表示任选地被取代的含氮原子的杂环;l各自独立地表示单键、-o-、-c(=o)-、-nr-、-nrco-、-ch2-、-(ch2)
n
-、或将所述-(ch2)
n
-中的-ch2-的至少一部分由-o-、-c(=o)-、-nr-、或-nrco-取代而成的基团,其中,r与上述式(b)为相同含义,n表示2~12的整数;l’各自独立地表示单键、-c(=o)-、-ch2-、-(ch2)
n
-、或将所述-(ch2)
n
-中的-ch2-的至少一部分由-o-或-c(=o)-取代而成的基团,其中,n表示2~12的整数;苯环上的任意氢原子任选地被选自由碳原子数1~3的烷基、碳原子数1~3的烷氧基、碳原子数1~3的含氟原子烷基、碳原子数1~3的含氟原子烷氧基以及氟原子构成的组中的至少一种取代;l、q、r以及l’在一个式中存在多个的情况下,任选地各自独立地相同或不同。8.根据权利要求1~7中任一项所述的液晶取向剂,其中,所述式(1b)所示的二胺选自下述式(1b-1)~(1b-20)所示的二胺、下述式(1b’-1)~(1b’-11)所示的二胺、2,6-二氨基吡啶、3,4-二氨基吡啶、2,4-二氨基嘧啶、3,6-二氨基咔唑以及n-甲基-3,6-二氨基咔唑中,
9.一种液晶取向膜,其由如权利要求1~8中任一项所述的液晶取向剂得到。10.一种液晶显示元件,其具备如权利要求9所述的液晶取向膜。11.一种液晶取向膜的制造方法,其包括下述的工序1~3,工序1:将如权利要求1~8中任一项所述的液晶取向剂涂布于基板上的工序;工序2:对涂布后的液晶取向剂进行烧成的工序;以及工序3:对工序2中得到的膜进行取向处理的工序。

技术总结
本发明提供一种能使残影迅速地消失、能在高精细的液晶显示装置中显示高显示品质的液晶取向膜。一种液晶取向剂,其特征在于,所述液晶取向剂含有选自由聚酰亚胺前体、以及作为该聚酰亚胺前体的酰亚胺化物的聚酰亚胺构成的组中的至少一种聚合物(A),所述聚酰亚胺前体使用包含下述式(1a)所示的二胺和下述式(1b)所示的二胺的二胺成分和包含芳香族四羧酸二酐或其衍生物的四羧酸衍生物成分而得到,所述二胺成分中,相对于所使用的二胺成分1摩尔包含5~95摩尔%的所述式(1a)所示的二胺。(式(1a)中,苯环上的任意氢原子任选地被一价取代基取代。)(式(1b)中,Y按照说明书定义。)))


技术研发人员:结城达也 日向野敏行 福田一平
受保护的技术使用者:日产化学株式会社
技术研发日:2021.07.08
技术公布日:2023/6/7
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