具有改善的阳光控制性能的阳光控制涂层的制作方法

具有改善的阳光控制性能的阳光控制涂层
1.相关申请的交叉引用
2.本技术是中国专利申请201680014023.5的分案申请。本技术要求于2015年2月3日提交的美国临时专利申请no.62/111,235和于2015年9月1日提交的美国临时专利申请62/212,665的优先权，其全部内容通过引用并入本文。
3.发明背景
发明领域
4.本发明总体涉及阳光控制涂层，更具体来说涉及具有至少四个金属功能层的阳光控制涂层。该金属功能层的一个或多个可以为不连续的金属层。
5.技术考量
6.阳光控制涂层阻挡或过滤电磁辐射的选定范围，通常是电磁波谱的红外区域和/或紫外线区域的辐射。这些涂层减少了通过透明体、例如窗户进入建筑物的阳光能量的量，这既而又减少了建筑物内部的热累积。shgc，即热从太阳通过透明体进入建筑物的分量，其是透明体阻挡阳光热的量度。
7.常规阳光控制涂层通常有一到三个连续的红外反射金属层。虽然这些常规涂层提供良好的阳光绝热性能，但进一步降低常规透明体的shgc以提高透明体的阳光控制性能是有用的。为了减少这些常规阳光控制涂层的shgc，可以增加连续红外反射金属层的厚度。然而，这也将使阳光控制涂层对可见光的反射更多。商业市场倾向于具有高透射率但低可见光反射率(内部和外部可见光反射率)的透明体。此外，增加连续红外线反射金属层的厚度会增加阳光控制涂层对构成涂层的膜厚度的随机性或系统性变化的敏感性。这可能会改变或不利地影响涂层的性能或涂层的美观。另外，增加连续红外反射金属层的厚度往往会降低涂层对化学和/或机械攻击的耐久性。此外，常规阳光控制涂层可以达到的美观/色彩空间相对有限。
8.因此，期望提供与常规阳光控制涂层相比能提供改善的阳光控制和/或美学性能的阳光控制涂层。例如，期望提供与常规阳光控制涂层相比具有更低阳光热增益系数(shgc)的阳光控制涂层。例如，期望提供与常规阳光控制涂层相比具有更高的光比阳光增益比率(lsg)的阳光控制涂层。例如，期望提供与常规阳光控制涂层相比具有更商业上期待的美学和/或更大的可获得的颜色空间的阳光控制涂层。例如，期望提供与常规阳光控制涂层相比具有更强化学品和/或机械耐久性的阳光控制涂层。
9.发明概述
10.本发明提供了具有至少四个金属功能层的阳光控制涂层。该金属功能层中的至少一个可以为连续金属功能层。该金属功能层中的至少一个可以为亚临界金属功能层。
11.阳光控制涂层提供发光透光率(t)不大于64％的参考绝热玻璃单元(参考igu)值，和在至少1.85的光比阳光增益(lsg)比率下阳光热增益系数(shgc)不大于0.29。
12.阳光控制涂包含：第一相调节层；位于第一相调节层上方的第一金属功能层；位于第一金属功能层上方的任选的第一底漆层；位于第一金属功能层上方的第二相调节层；位
于第二相调节层上方的第二金属功能层；位于第二金属功能层上方的任选的第二底漆层；上方第二金属功能层位于的第三相调节层；位于第三相调节层上方的第三金属功能层；位于第三金属功能层上方的任选的第三底漆层；位于第三金属功能层上方的第四相调节层；位于第四相调节层上方的第四金属功能层；位于第四金属功能层上方的任选的第四底漆层；位于第四金属功能层上方的任选的第五相调节层；和位于任选的第五相调节层上方的任选的保护层。
13.本技术还涉及如下实施方案：
14.1.阳光控制涂层30，包含：
15.第一相调节层40；
16.位于第一相调节层40上方的第一金属功能层46；
17.位于第一金属功能层46上方的任选的第一底漆层48；
18.位于第一金属功能层46上方的第二相调节层50；
19.位于第二相调节层50上方的第二金属功能层58；
20.位于第二金属功能层58上方的任选的第二底漆层60；
21.位于第二金属功能层58上方的第三相调节层62；
22.位于第三相调节层62上方的第三金属功能层70；
23.位于第三金属功能层70上方的任选的第三底漆层72；
24.位于第三金属功能层70上方的第四相调节层74；
25.位于第四相调节层74上方的第四金属功能层82；
26.位于第四金属功能层82上方的任选的第四底漆层84；
27.位于第四金属功能层82上方的任选的第五相调节层86；和
28.位于任选的第五相调节层86上方的任选的保护层92,
29.其中金属功能层46、58、70、82中的至少一个包括连续层以及该层46、58、70、82中的至少一个包括亚临界层，以及
30.其中该阳光控制涂层提供的发光透光率的参考igu值不大于64％，shgc不大于0.5，以及lsg至少1.85。
31.2.实施方案1所述的阳光控制涂层30，其中第一相调节层40的光学厚度范围在45nm-75nm，特别是光学厚度范围在47nm-71nm，更具体来说光学厚度范围在53nm-65nm。
32.3.实施方案1或2所述的阳光控制涂层30，其中第二相调节层50的光学厚度范围在40nm-200nm，特别是光学厚度范围在100nm-150nm，更具体来说光学厚度范围在115nm-120nm。
33.4.实施方案1-3中任一项所述的阳光控制涂层30，其中第三相调节层62的光学厚度范围在40nm-100nm，特别是光学厚度范围在57nm-87nm，更具体来说光学厚度范围在64nm-80nm。
34.5.实施方案1-4中任一项所述的阳光控制涂层30，其中第四相调节层74的光学厚度范围在40nm-150nm，特别是光学厚度范围在55nm-86nm，更具体来说光学厚度范围在64nm-80nm。
35.6.实施方案1-5中任一项所述的阳光控制涂层30，其中第一金属功能层46为连续层且厚度范围在10nm-15nm，特别是范围在11nm-14nm，更具体来说范围在11.5nm-12.5nm。
36.7.实施方案1-6中任一项所述的阳光控制涂层30，其中第二金属功能层58包含连续层的厚度范围在5nm-20nm，特别是范围在10nm-15nm，更具体来说范围在12nm-13.5nm。
37.8.实施方案1-7中任一项所述的阳光控制涂层30，其中第三金属功能层70包含亚临界层的有效厚度范围在0.2nm-1nm，特别是范围在0.3nm-0.9nm，更具体来说范围在0.4nm-0.5nm。
38.9.实施方案1-8中任一项所述的阳光控制涂层30，其中第四金属功能层82为连续层且厚度范围在5nm-30nm，特别是范围在15nm-26nm，更具体来说范围在19nm-25nm。
39.10.实施方案1-9中任一项所述的阳光控制涂层30，其中任选的第三底漆层72的厚度或有效厚度范围在0.1nm-2nm，特别是范围在0.5nm-1.5nm，更具体来说范围在1nm-1.5nm。
40.11.实施方案1-10中任一项所述的阳光控制涂层30，其中任选的第五相调节层86的光学厚度范围在40nm-100nm，特别是光学厚度范围在45nm-75nm，更具体来说光学厚度范围在54nm-67nm。
41.12.实施方案1-11中任一项所述的阳光控制涂层30，其中任选的保护层92包含至少一个金属氧化物或金属氮化物层，特别是二氧化钛。
42.13.实施方案1-12中任一项所述的阳光控制涂层30，其中该阳光控制涂层30提供的参考igu shgc不大于0.24，参考igu发光透光率不大于55％，和参考igu lsg比率为至少1.85。
43.14.制品10，包含基材12和在基材12至少一部分上方的实施方案1-13中任一项所述的阳光控制涂层30。
44.15.实施方案1-13中任一项所述的阳光控制涂层30在绝热玻璃单元或层叠单元中的用途。
45.附图简述
46.本发明将参考以下附图来说明，其中全文中相同的附图标记表示相同部件。
47.图1为具有本发明的阳光控制涂层的整块透明体形式的本发明的透明体的侧视图(未按比例)；
48.图2为图1的透明体的侧视图(未按比例)，显示了示例性本发明的阳光控制涂层的多层结构；
49.图3为图1和2的透明体的侧视图(未按比例)，加入了绝热玻璃单元(igu)；和
50.图4为侧视图(未按比例)图1和2的透明体，加入了层叠单元。
51.优选实施方案的说明
52.本文使用的空间或方向术语，例如“左”、“右”、“内”、“外”、“上”、“下”等等，涉及如附图中所示的本发明。然而，应理解本发明可采用多种替代定向，因此，不应将此类术语考虑为限定。
53.说明书和权利要求书中使用的所有数字都应理解为在所有情况下被术语“约”修饰。“约”是指所述的值加或减10％的范围。本文中披露的所有范围涵盖范围的起始值和终点值，以及属于其中的任何和所有子范围。本文披露的范围代表在所指代的范围内的平均值。
54.关于本本所述的涂层，术语“上方”是指离开该涂层位于的基材(或基层)更远。例
如，第二层位于第一层“上方”是指，第二层位于离开基材(或基层)得比第一层更远。第二层可以直接接触第一层。或者，一个或多个其它层可以位于第一层和第二层之间。
55.术语“膜”是指具有不同成分的区域。“层”包含一个或多个“膜”。“涂层”包含一个或多个“层”。
56.术语“聚合物”或“聚合物的”包括低聚物、均聚物、共聚物和三元聚合物例如由两种或更多类型的单体或聚合物形成的聚合物。
57.术语“紫外辐射”是指波长范围在100nm-低于380nm的电磁辐射。术语“可见光辐射”是指波长范围在380nm-780nm的电磁辐射。术语“红外辐射”是指波长范围在大于780nm-100,000nm的电磁辐射。术语“阳光红外辐射”是指波长范围在1,000nm-3,000nm的电磁辐射。术语“热红外辐射”是指波长范围在大于3,000nm-20,000nm的电磁辐射。
58.本文引用的所有文学都以它们的全部内容通过引用“纳入本技术”。
59.术语“临界厚度”是指这样的厚度，高于该厚度则材料形成连续、不间断的层，而低于该厚度则材料形成该材料的不连续的区域或岛状物，而不是连续层。术语“亚临界厚度”是指低于临界厚度的厚度。术语“岛状”是指材料不是连续层，而是处于分离的区域或岛状物。
60.术语“亚临界层”是指这样的材料，该材料以低于其临界厚度沉积。这被称为亚临界层，即使可以理解的是，它不是真正连续的层。
61.术语“有效厚度”是指这样的材料的理论厚度，该材料以低于其临界厚度但是以下沉积参数(例如沉积速率、线速度等)沉积，所述沉积参数如果以高于材料的临界厚度沉积就会以报告的值提供材料的连续层。例如，如果以沉积线速度x cm/sec沉积的材料已知会形成10nm的连续层，则会预期提高线速度至2x将沉积5nm的涂层。然而，如果5nm低于该材料的临界厚度，则沉积的涂层将不会具有连续的、均匀的5nm厚度，而是会形成不连续的或岛状结构。这在本文中被称为具有5nm的“有效厚度”的“亚临界层”。
62.lsg(光比阳光增益)为发光透光率除以shgc。
63.术语“光学厚度”是指材料的几何厚度除以材料在参考波长550nm的折射率。例如，具有物理厚度5nm和在参考波长550nm的折射率为2的材料的光学厚度为10nm。
[0064]“退火涂层”或“非可回火涂层”是指没有回火或没有设计为为了最终使用而退火的涂层。术语“可回火的涂层”或“回火的涂层”是指设计为为了最终使用而进行回火工艺的涂层。
[0065]
本文中的所有厚度值为以纳米(nm)计的物理厚度，除非另有说明。
[0066]
术语“金属”和“金属氧化物”分别包括硅和二氧化硅，以及传统认为的金属和金属氧化物，虽然硅一般可能不被视为金属。
[0067]“至少”是指“大于或等于”。“不大于”是指“小于或等于”。
[0068]
除非另有说明，雾度和透光度值是使用haze-gard plus雾度计(可从byk-gardner usa商购获得的)或perkin elmer lamda 9分光光度计测定的值。除了另外有说明，薄片电阻值是使用四点探针(例如，nagy ins truments sd-600测量装置)测定的。表面粗糙度值是使用ins trument dimens ion 3100原子力显微镜测定的。
[0069]“参考igu”定义为具有两个隔开的6mm透明玻璃片，它们被填充有空气的0.5英寸(1.2mm)的间隙隔开，其中在2号表面上。“参考igu值”是指当涂层在2号表面上加入了参考
igu时报告的值。
[0070]
术语“阳光控制涂层”是指这样的涂层，其包含一个或多个影响涂覆制品的阳光性能的层或膜，例如由该涂层反射的、吸收的、或通过的阳光辐射的量。
[0071]
对本发明的讨论中可能会把某些特征描述为在某些特定限制内的“特别是”或“优选”(例如，在某些特定限制内的“优选”，“更优选”，或“甚至更优选”)。应理解的是，本发明不限于这些特定的或优选的限制，而是涵盖公开的整个范围。
[0072]
本发明包含以任何组合的本发明以下方面，由它们组成，或基本由它们组成。本发明的各个方面展示于各附图中。然而，应理解的是，这只是为了便于说明和讨论。在本发明的实践中，一个附图中所示的本发明的一个或多个方面可以与一个或多个其它附图中所示的本发明的一个或多个方面组合。
[0073]
本发明将参考用于建筑透明体，例如窗户或绝热玻璃单元(igu)来讨论。本文使用的术语“建筑透明体”是指位于建筑物上的任何透明体，例如窗户和天窗。然而，应理解的是，本发明不限于用于建筑透明体，而是可用于任何期望的领域中的透明体，例如层叠或非层叠的居住型和/或商业型窗户、绝热玻璃单元和/或用于陆地、空中、太空、水上和/或水下运载工具的透明体。因此，应理解的是，具体披露的示例性实施方案只是为了解释本发明的总体概念而给出，并且本发明不限于这些具体的示例性实施方案。另外，虽然典型的“透明体”可以具有足够的可见光透射而使材料可以通过透明体被看到，但在本发明的实践中，“透明体”不需要是对可见光透明，而是可为半透明或不透明的。
[0074]
结合有本发明的特征的透明体10示于图1和2。透明体10包括第一片层12，其具有第一主表面14(1号表面)和相对的第二主表面16(2号表面)。第一主表面14面向建筑物的外部，第二主表面16面向建筑物的内部。片层表面的这样的编号方式与窗户领域的常规实践一致。
[0075]
本发明的阳光控制涂层30位于第一片层12之一的至少一个主表面的至少一部分上方。在图1和2中所示的实例中，阳光控制涂层30位于第一片层12的第二主表面16(2号表面)的至少一部分上方。阳光控制涂层30包含第一相调节层40。第一金属功能层46位于第一相调节层40上方。任选的第一底漆层48可以位于第一金属功能层46上方。第二相调节层50位于第一金属功能层46上方(或上方任选的第一底漆层48如存在的)。第二金属功能层58位于第二相调节层50上方。任选的第二底漆层60可以位于第二金属功能层58上方。第三相调节层62位于第二金属功能层58上方(或如存在的任选的第二底漆层60上方)。第三金属功能层70位于第三相调节层62上方。任选的第三底漆层72可以位于第三金属功能层70上方。第四相调节层74位于第三金属功能层70上方(或如存在的任选的第三底漆层72上方)。第四金属功能层82位于第四相调节层74上方。任选的第四底漆层84可以位于第四金属功能层82上方。任选的第五相调节层86可以位于第四金属功能层82上方(或如存在的任选的第四底漆层84上方)。任选的保护层92可以位于如存在的任选的第五相调节层86上方，或第四金属功能层74上方(例如，如存在的任选的第四底漆层84上方)。
[0076]
第一片层12可以为对可见光辐射透明的或半透明的。“透明的”是指具有可见光辐射透光度大于0％至100％。或者，该片层可以为半透明的。“半透明的”是指扩散可见光辐射使得观察者对面侧的物体不能被清晰地看见。合适的材料的实例包括，但不限于，塑料基材(例如丙烯酸类聚合物，聚丙烯酸酯；聚甲基丙烯酸烷基酯，例如聚甲基丙烯酸甲酯，聚甲基
丙烯酸乙酯，聚甲基丙烯酸丙酯等；聚氨酯；聚碳酸酯；聚对苯二甲酸烷基酯，例如聚对苯二甲酸乙二醇酯(pet)，聚对苯二甲酸丙二醇酯，聚对苯二甲酸丁二醇酯等；含聚硅氧烷的聚合物；或用于制备这些的任何单体的共聚物，或任何它们的混合物；陶瓷基底；玻璃基底；或任何以上的混合物或组合。例如，片层可以包含常规钠钙硅酸盐玻璃、硼硅酸盐玻璃或含铅玻璃。玻璃可以为无色玻璃。“无色玻璃”是指未染色或未着色的玻璃。或者，玻璃可以为染色或以其它方式着色的玻璃。玻璃可以为退火的或热处理的玻璃。本文使用的术语“热处理的”是指回火的或至少部分回火的。玻璃可以为任何类型，例如常规浮法玻璃，并且可以具有任何组成，具有任何光学性能例如任何值的可见光辐射透光度、紫外辐射透光度、红外辐射透光度和/或总阳光能量透光度。“浮法玻璃”是指通过常规浮法工艺形成的玻璃，其中熔融的玻璃沉积到熔融的金属浴上，并且受控制地冷却以形成漂浮玻璃带。
[0077]
第一片层12可以为例如无色浮法玻璃或可以为染色或着色玻璃。该片层可以具有任何期望的尺寸，例如长度、宽度、形状或厚度。可以用于本发明的实践的玻璃的非限制性实例包括无色玻璃，gl-35
tm
，solar玻璃，玻璃，玻璃，和玻璃，均可商购自宾夕法尼亚州匹兹堡的ppgindus tr ies inc.。
[0078]
相调节层40、50、62、74为非金属层。例如，相调节层40、50、62、74包含介电或半导体材料。例如，相调节层40、50、62、74可以包含氧化物、氮化物、氮氧化物和/或它们的混合物。用于相调节层40、50、62、74的合适的材料的实例包括钛、铪、锆、铌、锌、铋、铅、铟、锡的氧化物、氮化物或氮氧化物，和它们的混合物。这些可以具有少量其它材料，例如在铋氧化物中的锰，铟氧化物中的锡等。另外，可以使用金属合金或金属混合物的氧化物，例如含有锌和锡的氧化物(例如，锡酸锌)，铟-锡合金的氧化物，氮化硅，硅铝氮化物，或者铝氮化物的氧化物。此外，可使用掺杂的金属氧化物，例如锑或者铟掺杂的锡氧化物。或者镍或硼掺杂的硅氧化物。材料的具体实例包括氧化锌、锡氧化物、硅氮化物、硅-铝氮化物、硅-镍氮化物、硅-铬氮化物、锑掺杂的锡氧化物、铝掺杂的氧化锌、铟掺杂的氧化锌、钛氧化物和/或它们的混合物。
[0079]
相调节层40、50、62、74可以包含单一材料。或者，相调节层40、50、62、74可以包含多种材料和/或多个层。相调节层40、50、62、74可以包含分层顺序的化学上不同的材料或相的膜，和/或可包含一个或多个化学上不同的材料或相的一个或多个复合材料。不同的相调节层40、50、62、74可以包含相同或不同的材料。相调节层40、50、62、74可以具有相同或不同的厚度。
[0080]
相调节层40、50、62、74允许调节由阳光控制涂层30的各个层的各个交界边界部分反射的和/或部分透射的电磁辐射的相长和相消光学干涉。改变相调节层40、50、62、74的厚度和/或组成可以改变阳光控制涂层30的总体反射率、透光度和/或吸光度，这可以改变阳光控制涂层30的阳光控制性能、热红外绝缘性能、颜色和/或美观。另外，相调节层40、50、62、74可以为阳光控制涂层30的其它层、例如金属功能层提供化学和/或机械保护。
[0081]
当高可见光透光度是期望的时，相调节层40、50、62、74可以起到抗反射层的作用以使金属功能层抗反射，从而降低阳光控制涂层30的总体可见光反射率和/或提高阳光控制涂层30的可见光透光度。折射率大约2的材料对于连续和/或亚临界金属功能层的抗反射
来说是特别有用的。
[0082]
一个或多个相调节层可以位于片层12和最下面的金属功能层之间。一个或多个相调节层可以位于最上面的金属功能层和外界环境例如空气之间。
[0083]
在所示的示例性涂层30中，第一相调节层40位于第一片层12的第二主表面16(2号表面)的至少一部分上方。第一相调节层40可以为单一层或可以包含一个或多个上述抗反射材料和/或介电材料的膜。第一相调节层40可以为对可见光透明的。
[0084]
如以上讨论的，第一相调节层40可以包含金属氧化物、金属氧化物的混合物，和/或金属合金氧化物。例如，第一相调节层40可以包含锌和锡的氧化物。
[0085]
第一相调节层40可以具有的光学厚度范围在45nm-75nm。例如，光学厚度范围在47nm-75nm。例如，光学厚度范围在47nm-71nm。例如，光学厚度范围在50nm-65nm。例如，光学厚度范围在53nm-65nm。
[0086]
第一相调节层40可以具有的厚度范围在10nm-45nm。例如，范围在15nm-40nm。例如，范围在20nm-35nm。例如，范围在23nm-35nm。例如，范围在26nm-33nm。
[0087]
第一相调节层40可以包含多层膜结构，其具有任选的第一膜42和/或第二膜44。任选的第一膜42可以为例如金属合金氧化物膜。第二膜44可以为例如金属氧化物膜或氧化物混合物膜。第二膜44可以位于第一膜42上方。
[0088]
任选的第一膜42可以为锌/锡合金氧化物。“锌/锡合金氧化物”是指真正合以及氧化物的混合物。锌/锡合金氧化物可以获自由锌和锡的阴极的磁控溅射真空沉积。阴极可以包含锌和锡的比例为5wt.％-95wt.％锌和95wt.％-5wt.％锡，例如10wt.％-90wt.％锌和90wt.％-10wt.％锡。然而，也可使用锌与锡的其它比率。第一膜42的示例性金属合金氧化物可以写作zn
x
sn
1-xo2-x
(式1)，其中“x”范围在大于0至低于1。例如，“x”可以为大于0并且可以为大于0至低于1的任何分数或小数。式1的化学计量形式为“zn2sno
4”，一般被称为锡酸锌。锡酸锌层可以由具有52wt.％锌和48wt.％锡的阴极在氧气存在下溅射沉积。例如，第一膜42可以包含锡酸锌。
[0089]
第二膜44可以包含金属氧化物膜。例如，第二膜44可以包含氧化锌。氧化锌可以由包含改进阴极的溅射特性的其它材料的锌阴极来沉积。例如，锌阴极可以包括少量锡(例如，至多10wt.％，例如至多5wt.％)以改进溅射。在这样的情况下，所得氧化锌膜将包括少量百分比的锡氧化物，例如至多10wt.％锡氧化物，例如至多5wt.％锡氧化物。具有至多10wt.％锡的锌阴极沉积的涂层在本文中被称为“氧化锌膜”，虽然可能存在少量锡氧化物(例如，至多10wt.％)。据信，阴极中的锡在主要为氧化锌的第二膜44中形成了锡氧化物。
[0090]
任选的第一膜42可以具有的厚度范围在0nm-35nm。例如，范围在10nm-30nm。例如，范围在15nm-25nm。例如，范围在15nm-20nm。
[0091]
例如，第二膜44可以具有的厚度范围在1nm-20nm。例如，范围在2nm-17nm。例如，范围在3nm-15nm。例如，范围在4nm-10nm。例如，范围在4nm-5nm。
[0092]
如图1和2中所示，阳光控制涂层30包括至少四个金属功能层46、58、70、82。
[0093]
金属功能层46、58、70、82中的至少一个可以为连续金属层。“连续”金属层是指未破裂的或非不连续的层，例如均匀层。
[0094]
金属功能层46、58、70、82中的至少一个可以为亚临界层。“亚临界”层破裂的或不连续的层，或非均匀的层。亚临界层可以包含物理上分离的岛状物或颗粒，或为具有空隙或
错综复杂的孔(像瑞士奶酪)的层。这样的亚临界层典型地以材料的临界厚度(例如，渗滤阀值)以下沉积。例如，金属银的临界厚度(渗滤阀值)低于5nm。据信，铜、金和钯会显示低于该厚度的类似的亚临界行为。亚临界层显示典型地不会在相同材料的连续层中观察到的吸收等离子体共振。亚临界层可以包含镶嵌或包封在周围基质中的岛状物或颗粒，所述基质包含上覆的任选的底漆材料(如存在)和/或该材料包含上覆的相邻的相调节层(或如存在的任选的保护层)。
[0095]
阳光控制涂层30可以包含至少一个连续金属功能层和/或至少一个亚临界金属功能层。
[0096]
金属功能层提供(a)在电磁光谱例的红外辐射区域(例如在电磁光谱的阳光红外辐射区域和/或热红外辐射区域)的至少一部分中的电磁辐射的反射，和/或(b)在电磁光谱一个或多个区域(例如电磁光谱的可见光辐射区域和/或红外辐射区域和/或紫外辐射区域)的至少一部分中的电磁辐射的吸收。
[0097]
连续金属功能层在电磁光谱的红外辐射区域(例如在电磁光谱的阳光红外辐射区域和/或热红外辐射区域)典型地具有比亚临界金属功能层更高的反射。然而，亚临界金属功能层比连续金属功能层典型地具有更高的吸收，例如在电磁光谱的可见光辐射区域。
[0098]
可用于金属功能层的材料的实例包括贵或近贵金属。此类金属的实例包括银、金、铂、钯、锇、铱、铑、钌，铜、汞、铼、铝和它们的组合。例如，金属功能层的一个或多个可以包含金属银。
[0099]
第一金属功能层46可以包含任意以上金属。例如，第一金属功能层46可以包含银。
[0100]
第一金属功能层46可以为连续层。或者，第一金属功能层46可以为亚临界层。
[0101]
例如，第一金属功能层46可以为连续层的厚度范围在5nm-20nm。例如，范围在10nm-15nm。例如，范围在11nm-14nm。例如，范围在11.5nm-12.5nm。
[0102]
例如，第一金属功能层46可以为亚临界层的有效厚度范围在1nm-5nm。例如，范围在2nm-5nm。例如，范围在2nm-4nm。
[0103]
任选的底漆层48、60、72、84处于与相关的下面的金属功能层直接接触。底漆层48、60、72、84在涂层工艺和/或加下来的加工，例如热回火期间保护相关金属功能层。底漆材料作为金属沉积。当沉积在亚临界层上方时，据信底漆材料包覆亚临界材料的上不并且填充到不连续的岛状物之间的空间里。在后续的加工、例如沉积上覆的相调节层和/或热回火期间，一些或全部金属底漆氧化。当氧化物或氮化物材料用于相调节层中时，底漆层48、60、72、84可以分别包含亲氧或亲氮材料。底漆层48、60、72、84不必都是相同的材料。底漆层48、60、72、84不必具有相同厚度。
[0104]
可用于底漆层48、60、72、84的材料的实例包括钛、铌、钨、镍、铬、铁、钽、锆、铝、硅、铟、锡、锌、钼、铪、铋、钒、锰及其组合。
[0105]
任选的第一底漆层48位于第一金属功能层46上方。任选的第一底漆层48可以为单一膜层或多膜层。第一底漆层48可以包含任意上述材料。例如，第一底漆层48可以包含钛。
[0106]
例如，对于退火的涂层，第一底漆层48可以具有的厚度或有效厚度范围在0.1nm-3nm。例如，范围在1nm-3nm。例如，范围在1nm-2nm。
[0107]
例如，对于可回火的涂层，第一底漆层48可以具有的厚度或有效厚度范围在0.1nm-5nm。例如，范围在1nm-5nm。例如，范围在2nm-4nm。例如，范围在2.5nm-3.5nm。
[0108]
当下面的第一金属功能层46为亚临界层时，第一底漆层48可以具有的厚度或有效厚度范围在0.1nm-2nm。例如，范围在0.5nm-1.5nm。例如，范围在1nm-1.5nm。
[0109]
第二相调节层50位于第一金属功能层46上方(例如，在任选的第一底漆层48上方)。第二相调节层50可以包含的一种或多种上述材料和/或膜。
[0110]
第二相调节层50可以具有的光学厚度范围在40nm-200nm。例如，光学厚度范围在50nm-150nm。例如，光学厚度范围在100nm-150nm。例如，光学厚度范围在113nm-140nm。例如，光学厚度范围在115nm-120nm。
[0111]
第二相调节层50可以具有的厚度范围在30nm-100nm。例如，范围在40nm-80nm。例如，范围在50nm-75nm。例如，范围在55nm-70nm。
[0112]
第二相调节层50可以为单一层或多层结构。例如，第二相调节层50可以包括第一膜52，第二膜54，和任选的第三膜56。
[0113]
例如，第一膜52可以包含金属氧化物膜。例如，第一膜52可以包含氧化锌膜。
[0114]
例如，第二膜54可以包含金属合金氧化物膜。例如，第二膜54可以包含锡酸锌膜。
[0115]
例如，任选的第三膜56可以包含金属氧化物膜。例如，任选的第三膜56可以包含氧化锌膜。
[0116]
例如，第一膜52(和如存在的任选的第三膜56)可以具有的厚度范围在1nm-20nm。例如，范围在2nm-17nm。例如，范围在3nm-15nm。例如，范围在4nm-10nm。例如，范围在4nm-5nm。第一膜52和如存在的任选的第三膜56可以包含相同或不同的材料并可以具有相同或不同的厚度。
[0117]
第二膜54可以具有的厚度范围在5nm-70nm。例如，范围在10nm-60nm。例如，范围在20nm-55nm。例如，范围在30nm-54nm。例如，范围在32nm-53nm。
[0118]
第二金属功能层58位于第二相调节层50上方(例如，如存在的第三膜56上方，或者如果不存在则在第二膜54上方)。
[0119]
第二金属功能层58可以为连续层或亚临界层。例如，第二金属功能层58可以包含银。
[0120]
例如，第二金属功能层58可以为厚度范围在5nm-20nm的连续层。例如，范围在10nm-15nm。例如，范围在12nm-13.5nm。
[0121]
例如，第二金属功能层58可以为有效厚度范围在1nm-5nm的亚临界层。例如，范围在2nm-5nm。例如，范围在3nm-5nm。
[0122]
任选的第二底漆层60可以位于第二金属功能层58上方。第二底漆层60可以具有任何以上关于任选的第一底漆层48所述的材料和/或厚度。例如，第二底漆60可以包含钛。
[0123]
例如，对于退火的涂层，第二底漆层60可以具有的物理厚度或有效厚度范围在0.1nm-3nm。例如，范围在1nm-3nm。例如，范围在1nm-2nm。
[0124]
例如，对于可回火的涂层，第二底漆层60可以具有的厚度或有效厚度范围在0.1nm-5nm。例如，范围在1nm-5nm。例如，范围在2nm-4nm。例如，范围在2.5nm-3.5nm。
[0125]
当下面的第二金属功能层58为亚临界层时，第二底漆层60可以具有的厚度或有效厚度范围在0.1nm-2nm。例如，范围在0.5nm-1.5nm。例如，范围在1nm-1.5nm。
[0126]
第三相调节层62位于第二金属功能层58上方(例如，任选的第二底漆膜60上方)。第三相调节层62可以包括任何如以上关于第一和第二相调节层40，50讨论的材料和/或层。
例如，第三相调节层62可以为多层膜结构。例如，第三相调节层62可以包括第一层64，第二层66，和任选的第三层68。
[0127]
第三相调节层62可以具有的光学厚度范围在40nm-100nm。例如，光学厚度范围在50nm-90nm。例如，光学厚度范围在57nm-87nm。例如，光学厚度范围在64nm-80nm。
[0128]
第三相调节层62可以具有的厚度范围在20nm-100nm。例如，范围在25nm-45nm。例如，范围在30nm-40nm。例如，范围在35nm-37nm。
[0129]
第一层64可以包含金属氧化物层。例如，氧化锌层。第二层66可以包含金属合金氧化物材料。例如，锡酸锌。任选的第三层68可以包含金属氧化物层。例如，氧化锌层。
[0130]
例如，第一层64可以具有的厚度范围在1nm-20nm。例如，范围在2nm-17nm。例如，范围在3nm-15nm。例如，范围在4nm-10nm。例如，范围在4nm-5nm。
[0131]
第二层66可以具有的厚度范围在5nm-70nm。例如，范围在10nm-60nm。例如，范围在15nm-50nm。例如，范围在20nm-40nm。例如，范围在21nm-31nm。
[0132]
任选的第三层68可以具有的厚度范围在0nm-20nm。例如，范围在1nm-17nm。例如，范围在3nm-15nm。例如，范围在4nm-10nm。
[0133]
第三金属功能层70可以包括任何以上关于第一或第二金属功能层46，58讨论的材料。例如，第三金属功能层70可以包含银。
[0134]
第三金属功能层70可以为连续层或亚临界层。
[0135]
例如，第三金属功能层70可以为厚度范围在5nm-20nm的连续层。例如，范围在5nm-15nm。例如，范围在5nm-10nm。
[0136]
例如，第三金属功能层70可以为有效厚度范围在0.2nm-5nm的亚临界层。例如，范围在0.3nm-1nm。例如，范围在0.4nm-0.9nm。例如，范围在0.4nm-0.5nm。
[0137]
任选的第三底漆层72可以为以上关于第一或第二底漆层所述的。例如，第三底漆层72可以包含钛。
[0138]
例如，对于退火的涂层，第三底漆层72可以具有的厚度或有效厚度范围在0.1nm-3nm。例如，范围在1nm-3nm。例如，范围在1nm-2nm。
[0139]
例如，对于可回火的涂层，第三底漆层72可以具有的厚度或有效厚度范围在0.1nm-5nm。例如，范围在1nm-5nm。例如，范围在2nm-4nm。例如，范围在2.5nm-3.5nm。
[0140]
当下面的第二金属功能层58为亚临界层时，第三底漆层72可以具有的厚度或有效厚度范围在0.1nm-2nm。例如，范围在0.5nm-1.5nm。例如，范围在1nm-1.5nm。
[0141]
第四相调节层74可以为包含以上关于第一、第二或第三相调节层40、50、62所讨论的的一种或多种材料和/或层。
[0142]
第四相调节层74可以具有的光学厚度范围在40nm-150nm。例如，光学厚度范围在50nm-90nm。例如，光学厚度范围在55nm-86nm。例如，光学厚度范围在64nm-80nm。
[0143]
第四相调节层74可以具有的厚度范围在20nm-100nm。例如，范围在25nm-50nm。例如，范围在30nm-45nm。例如，范围在32nm-40nm。
[0144]
第四相调节层74可以为多层膜层，其具有任选的第一层76，第二层78，和第三层80。
[0145]
例如，任选的第一层可以包括金属氧化物层。例如，氧化锌层。第二层78可以包括金属合金氧化物层。例如，锡酸锌层。第三层80可以包括金属氧化物层。例如，氧化锌层。
[0146]
第二层78可以具有的厚度范围在5nm-70nm。例如，范围在10nm-60nm。例如，范围在15nm-50nm。例如，范围在20nm-45nm。例如，范围在20nm-35nm。例如，范围在21nm-31nm。
[0147]
任选的第一层76可以具有的厚度范围在0nm-20nm。例如，范围在1nm-20nm。例如，范围在2nm-17nm。例如，范围在3nm-15nm。例如，范围在4nm-10nm。例如，范围在4nm-5nm。
[0148]
第三层80可以具有的厚度范围在1nm-20nm。例如，范围在2nm-17nm。例如，范围在3nm-15nm。例如，范围在4nm-10nm。例如，范围在4nm-5nm。
[0149]
第四金属功能层82可以具有任何以上关于第一、第二和/或第三金属功能层讨论的材料。例如，第四金属功能层82可以包含银。
[0150]
第四金属层82可以为连续层或亚临界层。
[0151]
例如，第四金属功能层82可以为厚度范围在5nm-30nm的连续层。例如，范围在15nm-26nm。例如，范围在17nm-26nm。例如，范围在19nm-25nm。
[0152]
例如，第四金属功能层82可以为有效厚度范围在1nm-5nm的亚临界层。例如，范围在1.5nm-5nm。例如范围在2nm-5nm。例如范围在2nm-4nm。例如，范围在2nm-3nm。
[0153]
任选的第四底漆层84可以如关于任何其它任选的底漆层所述的那样。例如，第四底漆层84可以包含钛。
[0154]
例如，对于退火的涂层，第四底漆层84可以具有的厚度或有效厚度范围在0.1nm-3nm。例如，范围在1nm-3nm。例如，范围在1nm-2nm。
[0155]
例如，对于可回火的涂层，第四底漆层84可以具有的厚度或有效厚度范围在0.1nm-5nm。例如，范围在1nm-5nm。例如，范围在2nm-4nm。例如，范围在2.5nm-3.5nm。
[0156]
当下面的第四金属功能层82为亚临界层时，第四底漆层84可以具有的厚度或有效厚度范围在0.1nm-2nm。例如，范围在0.5nm-1.5nm。例如，范围在1nm-1.5nm。
[0157]
任选的第五相调节层86可以为包含如以上关于第一、第二或第三相调节层讨论的一种或多种材料和/或层。
[0158]
任选的第五相调节层86可以具有的光学厚度范围在40nm-100nm。例如，光学厚度范围在40nm-80nm。例如，光学厚度范围在45nm-75nm。例如，光学厚度范围在54nm-67nm。
[0159]
任选的第五相调节层86可以具有的厚度范围在10nm-100nm。例如，范围在20nm-50nm。例如，范围在24nm-37nm。例如，范围在27nm-34nm。
[0160]
第五相调节层86可以包含第一层88和任选的第二层90。
[0161]
第一层88可以包含金属氧化物层。例如，氧化锌层。任选的第二层90可以包含金属-合金氧化物层。例如，锡酸锌层。
[0162]
第一层88可以具有的厚度范围在1nm-20nm。例如，范围在2nm-17nm。例如，范围在3nm-15nm。例如，范围在4nm-10nm。例如，范围在4nm-5nm。
[0163]
任选的第二层90可以具有的厚度范围在0nm-40nm。例如，范围在10nm-35nm。例如，范围在15nm-30nm。例如，范围在20nm-30nm。例如，范围在20nm-25nm。
[0164]
任选的保护层92可以为阳光控制涂层30的端面层。任选的保护层92可以包含一种或多种非金属材料，例如以上关于相调节层描述的那些。或者，保护层92可以包含金属材料。任选的保护层92可以为下面的涂层提供化学和/或机械保护。任选的保护层92可以提供相调节和/或吸收。
[0165]
除了或代替端面任选的保护层92，一个或多个其它任选的保护层92可以位于阳光
控制涂层30内。例如，在两个或更多个相调节层之间。
[0166]
任选的保护层92可以为例如金属氧化物或金属氮化物层。
[0167]
例如，保护层92可以包含二氧化钛。
[0168]
任选的保护层92可以具有的厚度范围在0nm-10nm。例如，范围在1nm-10nm。例如，范围在2nm-8nm。例如，范围在3nm-7nm。例如，范围在4nm-7nm。
[0169]
本发明的阳光控制涂层30可以具有至少四个连续金属功能层。
[0170]
或者，阳光控制涂层30可以具有至少四个金属功能层，其中该金属功能层中的至少一个为亚临界层。例如，亚临界层可以定位在两个连续层之间。和/或亚临界层可以在基材和第一相调节层之间。和/或，亚临界层可以在最上面的连续层和环境之间。
[0171]
例如，第三金属功能层70可以对称地或基本上对称地位于第三相调节层62和第四相调节层74之间。例如，第三相调节层62和第四相调节层74可以具有相同或相似的厚度。例如，第三相调节层62和第四相调节层74的厚度可以在彼此的加或减10％以内。例如在彼此的加或减5％以内。例如，在彼此的加或减2％以内。
[0172]
例如，第三金属功能层70可以为亚临界层。第三金属功能层70可以位于第三和第四相调节层62、74中间(对称设计)。或者，第三和第四相调节层62、74可以具有更不相干的厚度，其中亚临界第三金属功能层70位于第三和第四相调节层62、74之间(但不必是中间)。
[0173]
本发明提供涂层，例如阳光控制涂层30，其包含至少四个金属功能层。所有金属功能层均可以为连续层。或者，如上所述，金属功能层中的一个或多个可以为亚临界层。
[0174]
阳光控制涂层30可以通过任何常规方法沉积。所述方法的实例包括常规化学气相沉积(cvd)和/或物理气相沉积(pvd)方法。cvd工艺的实例包括喷雾裂解。pvd工艺的实例包括电子束蒸镀和真空溅射(例如磁控溅射气相沉积(msvd))。也可使用其它涂层方法，例如但不限于，溶胶-凝胶沉积。在一种非限制性实施方案中，涂层30可以通过msvd沉积。
[0175]
阳光控制涂层30可以具有至少四个金属功能层，且该金属功能层中的至少一个为亚临界层。例如，亚临界层可以位于两个连续金属功能层之间。和/或亚临界金属层可以位于基材和第一相调节层之间。和/或，亚临界金属功能层可以位于最上面的连续金属功能层和环境之间。
[0176]
图3显示了图1和2的透明体10，加入了绝热玻璃单元(igu)100。第一主表面14(1号表面)面向建筑物外部，即为外主表面，而第二主表面16(2号表面)面向建筑物内部。绝热玻璃单元100包括具有朝外的主表面120(3号表面)和朝内的主表面122(4号表面)的第二片层118。第二片层118与第一片层12隔开。该片层表面的这种编号与制窗领域的常规实践一致。
[0177]
第一和第二片层12，118可以以任何合适的方式连接在一起，例如通过常规间隔体框124胶粘在一起。间隙或空室126形成在两个片层12，118之间。空室126可以填充有有选择的气氛，例如气体、例如空气，或非反应性气体，例如氩气或氪气。在所示的实例中，阳光控制涂层30位于2号表面16上。然而，阳光控制涂层30可位于任何其它表面上。
[0178]
第二片层118可以具有任何上述用于第一片层12的材料。第二片层118可以与第一片层12相同，或第二片层118可以与第一片层12不同。第一和第二片层12，118可以各自为例如无色浮法玻璃或可以为染色或着色玻璃，或片层12，118中的一个可以为无色玻璃而片层12，118中的另一个为着色玻璃。
[0179]
阳光控制涂层30提供参考igu shgc不大于0.3。例如，不大于0.29。例如，不大于
0.28。例如，不大于0.27。例如，不大于0.26。例如，不大于0.25。例如，不大于0.24。
[0180]
例如，阳光控制涂层30提供参考igu shgc范围在0.3-0.25。例如，范围在0.23-0.24。
[0181]
阳光控制涂层30提供参考igu发光透光率不大于70％。例如，不大于65％。例如，不大于60％。例如，不大于57％。例如，不大于55％。例如，不大于52％。
[0182]
阳光控制涂层30提供参考igu lsg比率至少1.8。例如，至少1.85。例如，至少1.9。例如，至少2。
[0183]
阳光控制涂层30提供参考igu shgc不大于0.29并且lsg比率至少1.85。例如，shgc不大于0.24并且lsg比率至少1.85。例如，shgc不大于0.24并且lsg比率至少2。
[0184]
图4显示了透明体10，加入了层叠单元130。层叠单元130包括通过聚合物中间层132连接的第一片层12和第二片层118。阳光控制涂层30示于2号表面16上。然而，如以上igu 100所述，阳光控制涂层30可在任何表面14、16、120或122上。
[0185]
阳光控制涂层30提供薄片电阻低于10欧姆每平方(ω/
□
)。例如，低于5ω/
□
。例如，低于2ω/
□
。例如，低于1ω/
□
。
[0186]
层叠单元130的透射的l*范围在70-90。例如，范围在75-90。例如，范围在80-90。例如，范围在85-90。
[0187]
层叠单元130的透射的a*范围在0至-5。例如，范围在-3至-4.5。例如，范围在-3.5至-4。
[0188]
层叠单元130的透射的b*范围在0至5。例如，范围在3至5。例如，范围在3-5。例如，范围在3.5至4.5。
[0189]
层叠单元130的反射的(外部)l*范围在20至40。例如，范围在25至35。例如，范围在30至35。
[0190]
层叠单元130的反射的(外部)a*范围在0至-5。例如，范围在0至-4。例如，范围在-1至-3。
[0191]
层叠单元130的反射的(外部)b*范围在0至-5。例如，范围在0至-4。例如，范围在0至-3。例如，范围在0至-2。
[0192]
层叠单元130的反射的(内部)l*范围在20至40。例如，范围在25至35。例如，范围在30至35。
[0193]
层叠单元130的反射的(内部)a*范围在0至-5。例如，范围在0至-4。例如，范围在-1至-3。
[0194]
层叠单元130的反射的(内部)b*范围在-2至4。例如，范围在-1至3。例如，范围在-1至2。
实施例
[0195]
表1显示了各个本发明的涂层的实例。所述值以纳米计。样品1-8使用airco ils-1600涂覆器制作。样品9-13是使用可获自lawrenceberkeley国家实验室的视窗软件计算机建模的样品。“a”是指退火的涂层。“t”是指可回火的涂层。“zs”是指锡酸锌。“zo”是指氧化锌(其可包括至多10wt.％锡氧化物)。“ag”是指银。“ti(o
x
)”是指钛底漆。如以上讨论的，底漆作为金属沉积，并且所有或至少部分底漆在后续的加工步骤期间被后续氧化。“to”是指
二氧化钛。
[0196]
表2显示了一些表1样品的参考igu光学数据。“ht”是指经热处理的。“t”是指透光度(cie发光体a)。“re”是指外部反射率。“ri”是指内部反射率。“e”是指发光度。“shgc”是指阳光热增益系数。“lsg”是指光比阳光增益比率。l*、a*和b*依照cie颜色坐标。表2中样品9-11的光学数据使用可获自lawrence berkeley国家实验室的视窗软件计算。所述值基于参考igu计算，该参考igu具有两个隔开的6mm无色玻璃片，它们通过填充有空气的0.5英寸(1.2mm)间隙分离，并且涂层在2号表面上。
[0197]
本发明可以进一步参考以下编号的条目来说明。
[0198]
条目1：阳光控制涂层30，包含：第一相调节层40；位于第一相调节层40上方的第一金属功能层46；位于第一金属功能层46上方的任选的第一底漆层48；位于第一金属功能层46上方的第二相调节层50；位于第二相调节层50上方的第二金属功能层58；位于第二金属功能层58上方的任选的第二底漆层60；位于第二金属功能层58上方的第三相调节层62；位于第三相调节层62上方的第三金属功能层70；位于第三金属功能层70上方的任选的第三底漆层72；位于第三金属功能层70上方的第四相调节层74；位于第四相调节层74上方的第四金属功能层82；位于第四金属功能层82上方的任选的第四底漆层84；位于第四金属功能层82上方的任选的第五相调节层86；和位于任选的第五相调节层86上方的任选的保护层92。
[0199]
条目2：条目1的阳光控制涂层30，其中相调节层40、50、62、74包含非金属层。
[0200]
条目3：条目1或2的阳光控制涂层30，其中相调节层40、50、62、74包含介电或半导体材料。
[0201]
条目4：条目1至3中任一项的阳光控制涂层30，其中相调节层40、50、62、74包含氧化物，氮化物，氮氧化物和/或它们的混合物。
[0202]
条目5：条目1至4中任一项的阳光控制涂层30，其中相调节层40、50、62、74包含钛、铪、锆、铌、锌、铋、铅、铟、锡的氧化物、氮化物或氮氧化物氧化物、氮化物或氮氧化物和它们的混合物。
[0203]
条目6：条目1至5中任一项的阳光控制涂层30，其中相调节层40、50、62、74包含锡氧化物，硅氮化物，硅-铝氮化物，硅-镍氮化物，硅-铬氮化物，锑掺杂的锡氧化物，铝掺杂的氧化锌，铟掺杂的氧化锌，钛氧化物，和/或它们的混合物。
[0204]
条目7：条目1至6中任一项的阳光控制涂层30，其中第一相调节层40包含金属氧化物，金属氧化物的混合物，和/或金属合金氧化物，例如锌和锡的氧化物。
[0205]
条目8：条目1至7中任一项的阳光控制涂层30，其中第一相调节层40的光学厚度范围在45nm-75nm，特别是光学厚度范围在47nm-71nm，更具体来说光学厚度范围在53nm-65nm。
[0206]
条目9：条目1至8中任一项的阳光控制涂层30，其中第一相调节层40的厚度范围在20nm-35nm，特别是范围在23nm-35nm，更具体来说范围在26nm-33nm。
[0207]
条目10：条目1至9中任一项的阳光控制涂层30，其中第一相调节层40包含任选的第一膜42和第二膜44。
[0208]
条目11：条目10的阳光控制涂层30，其中任选的第一膜42包含金属合金氧化物膜，并且其中第二膜44包含金属氧化物膜或氧化物混合物膜。
[0209]
条目12：条目10或11的阳光控制涂层30，其中任选的第一膜42包含锌/锡合金氧化
70nm，特别是范围在30nm-54nm，更具体来说范围在32nm-53nm。
[0229]
条目32：条目1至31中任一项的阳光控制涂层30，其中第二金属功能层58包含连续层或亚临界层，特别是连续层。
[0230]
条目33：条目1至32中任一项的阳光控制涂层30，其中第二金属功能层58的厚度范围在5nm-20nm，特别是范围在10nm-15nm，更具体来说范围在12nm-13.5nm。
[0231]
条目34：条目1至33中任一项的阳光控制涂层30，其中第二底漆层60的厚度或有效厚度范围在0.1nm-5nm，特别是范围在1nm-5nm，更具体来说范围在2nm-4nm。
[0232]
条目35：条目1至34中任一项的阳光控制涂层30，其中第三相调节层62包括第一层64，第二层66，和任选的第三层68。
[0233]
条目36：条目1至35中任一项的阳光控制涂层30，其中第三相调节层62的光学厚度范围在40nm-100nm，特别是光学厚度范围在57nm-87nm，更具体来说光学厚度范围在64nm-80nm。
[0234]
条目37：条目1至36中任一项的阳光控制涂层30，其中第三相调节层62的厚度范围在20nm-100nm，特别是范围在30nm-40nm，更具体来说范围在35nm-37nm。
[0235]
条目38：条目35-37中任一项的阳光控制涂层30，其中第一层64和/或任选的第三层68包含金属氧化物层，特别是氧化锌层。
[0236]
条目39：条目35-38中任一项的阳光控制涂层30，其中第二层66包含金属合金氧化物材料，特别是锡酸锌。
[0237]
条目40：条目35-39中任一项的阳光控制涂层30，其中第一层64和/或任选的第三层68具有的厚度范围在1nm-20nm，特别是范围在3nm-15nm，更具体来说范围在4nm-10nm。
[0238]
条目41：条目35-40中任一项的阳光控制涂层30，其中第二层66的厚度范围在5nm-70nm，特别是范围在15nm-50nm，更具体来说范围在21nm-31nm。
[0239]
条目42：条目1至41中任一项的阳光控制涂层30，其中第三金属功能层70包含连续层或亚临界层，特别是亚临界层。
[0240]
条目43：条目1至42中任一项的阳光控制涂层30，其中第三金属功能层70的有效厚度范围在0.2nm-1nm，特别是范围在0.3nm-0.9nm，更具体来说范围在0.4nm-0.5nm。
[0241]
条目44：条目1至43中任一项的阳光控制涂层30，其中任选的第三底漆层72的厚度或有效厚度范围在0.1nm-2nm，特别是范围在0.5nm-1.5nm，更具体来说范围在1nm-1.5nm。
[0242]
条目45：条目1至44中任一项的阳光控制涂层30，其中第四相调节层74的光学厚度范围在40nm-150nm，特别是光学厚度范围在55nm-86nm，更具体来说光学厚度范围在64nm-80nm。
[0243]
条目46：条目1至45中任一项的阳光控制涂层30，其中第四相调节层74的厚度范围在20nm-100nm，特别是范围在30nm-45nm，更具体来说范围在32nm-40nm。
[0244]
条目47：条目1至46中任一项的阳光控制涂层30，其中第四相调节层74包含任选的第一层76，第二层78，和第三层80。
[0245]
条目48：条目47的阳光控制涂层30，其中任选的第一层76和/或第三层80包含金属氧化物层，特别是氧化锌层。
[0246]
条目49：条目47或48的阳光控制涂层30，其中第二层78包含金属合金氧化物层，特别是锡酸锌层。
[0247]
条目50：条目47-49中任一项的阳光控制涂层30，其中第二层78的厚度范围在5nm-70nm，特别是范围在20nm-45nm，更具体来说范围在21nm-31nm。
[0248]
条目51：条目47-50中任一项的阳光控制涂层30，其中任选的第一层76和/或第三层80具有的厚度范围在0nm-20nm，特别是范围在3nm-15nm，更具体来说范围在4nm-10nm。
[0249]
条目52：条目1至51中任一项的阳光控制涂层30，其中第四金属功能层82包含连续层或亚临界层，特别是连续层。
[0250]
条目53：条目1至52中任一项的阳光控制涂层30，其中第四金属功能层82的厚度范围在5nm-30nm，特别是范围在15nm-26nm，更具体来说范围在19nm-25nm。
[0251]
条目54：条目1至53中任一项的阳光控制涂层30，其中任选的第四底漆层84的厚度或有效厚度范围在0.1nm-5nm，特别是范围在1nm-5nm，更具体来说范围在2nm-4nm。
[0252]
条目55：条目1至54中任一项的阳光控制涂层30，其中第五相调节层86的光学厚度范围在40nm-100nm，特别是光学厚度范围在45nm-75nm，更具体来说光学厚度范围在54nm-67nm。
[0253]
条目56：条目1至55中任一项的阳光控制涂层30，其中第五相调节层86的厚度范围在10nm-100nm，特别是范围在24nm-37nm，更具体来说范围在27nm-34nm。
[0254]
条目57：条目1至56中任一项的阳光控制涂层30，其中第五相调节层86包含第一层88和任选的第二层90。
[0255]
条目58：条目57的阳光控制涂层30，其中第一层88包含金属氧化物层，特别是氧化锌层。
[0256]
条目59：条目57或58的阳光控制涂层30，其中任选的第二层90包含金属-合金氧化物层，特别是锡酸锌层。
[0257]
条目60：条目57-59中任一项的阳光控制涂层30，其中第一层88的厚度范围在1nm-20nm，特别是范围在3nm-15nm，更具体来说范围在4nm-10nm。
[0258]
条目61：条目57-60中任一项的阳光控制涂层30，其中任选的第二层90的厚度范围在0nm-40nm，特别是范围在15nm-30nm，更具体来说范围在20nm-30nm。
[0259]
条目62：条目1至61中任一项的阳光控制涂层30，其中保护层92包含至少一个金属氧化物或金属氮化物层，特别是二氧化钛。
[0260]
条目63：条目1至62中任一项的阳光控制涂层30，其中保护层92的厚度范围在1nm-10nm，特别是范围在3nm-7nm，更具体来说范围在4nm-7nm。
[0261]
条目64：条目1至63中任一项的阳光控制涂层30，其中阳光控制涂层30提供参考igu shgc不大于0.29，特别是不大于0.25，更具体来说不大于0.24。
[0262]
条目65：条目1至64中任一项的阳光控制涂层30，其中阳光控制涂层30提供参考igu发光透光率不大于65％，特别是不大于57％，更具体来说不大于55％。
[0263]
条目66：条目1至65中任一项的阳光控制涂层30，其中阳光控制涂层30提供参考igu lsg比率至少1.8，特别是至少1.85，更具体来说至少2。
[0264]
条目67：条目1至66中任一项的阳光控制涂层30，其中阳光控制涂层30提供的薄片电阻低于10欧姆每平方(ω/
□
)，特别是低于5ω/
□
，更具体来说低于1ω/
□
。
[0265]
条目68：条目1至67中任一项的阳光控制涂层30，其中阳光控制涂层30包含第一底漆层48。
[0266]
条目69：条目1至68中任一项的阳光控制涂层30，其中阳光控制涂层30包含第二底漆层60。
[0267]
条目70：条目1至69中任一项的阳光控制涂层30，其中阳光控制涂层30包含第三底漆层72。
[0268]
条目71：条目1至70中任一项的阳光控制涂层30，其中阳光控制涂层30包含第四底漆层84。
[0269]
条目72：条目1至71中任一项的阳光控制涂层30，其中阳光控制涂层30包含第五相调节层86。
[0270]
条目73：条目1至72中任一项的阳光控制涂层30，其中阳光控制涂层30包含保护层92。
[0271]
条目74：条目1至73中任一项的阳光控制涂层30，其中阳光控制涂层30包含任选的层中的至少一个，例如所有任选的层。
[0272]
条目75：条目1至74中任一项的阳光控制涂层30在绝热玻璃单元或层叠单元中的用途。
[0273]
条目76：制品10，其包含基材12和在基材12至少一部分上方的条目1至74中任一项的阳光控制涂层30。
[0274]
本领域技术人员容易领会的是，可对本发明做出改变但不会背离前述说明中披露的理念。因此，本文中详细描述的特定的实施方案只是说明性的并且不限制本发明的范围，本发明的范围被赋予所附权利要求以及任何及全部其等同物的完整宽度。
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