一种纳米气泡制备方法及装置与流程

1.本发明涉及纳米气泡制备技术领域，尤其涉及一种纳米气泡制备方法及装置。


背景技术：

2.目前纳米气泡制备通常采用压力溶气气浮装置制备，可以广泛用于污水处理，但该装置体积大，耗能高，不利于节约成本。
3.在现有技术中，使用电解法制备纳米气泡，向水中通入直流电，即可产生纳米气泡，设备简单，适用性广。
4.但在前述的现有技术中，放入水中的电极使用时间过长后，极易结垢或沾染污垢，需要工作人员不断清理，十分不便。


技术实现要素：

5.本发明的目的在于提供一种纳米气泡制备方法及装置，解决了现有技术中放入水中的电极使用时间过长后，极易结垢或沾染污垢，需要工作人员不断清理，十分不便的问题。
6.为实现上述目的，本发明提供了一种纳米气泡制备装置，包括制备器和制备组件；
7.所述制备组件包括第一气缸、制备单元、固定板、第二气缸、支架和旋转清洗单元，所述第一气缸与所述制备器固定连接，并位于所述制备器的一侧，所述制备单元设置于所述第一气缸的输出端，所述固定板与所述制备器固定连接，并位于所述制备器的下方，所述第二气缸与所述固定板的一侧固定连接，所述第二气缸的输出端与所述支架固定连接，所述旋转清洗单元设置于所述支架的上方。
8.其中，所述制备组件还包括第一加强杆和第二加强杆，所述第一加强杆的两端分别与所述第一气缸的外表壁和所述制备器的上方固定连接，所述第二加强杆的两端分别与所述第二气缸的外表壁和所述固定板的一侧固定连接。
9.其中，所述制备单元包括l形杆和制备电极，所述l形杆与所述第一气缸的输出端固定连接，所述l形杆远离所述第一气缸的一端与所述制备电极固定连接。
10.其中，所述旋转清洗单元包括电机、转轴、固定筒、旋转筒和多个清洗刷，所述固定筒与所述支架固定连接，并位于所述支架的上方，所述旋转筒与所述固定筒转动连接，并位于所述固定筒的内部，所述电机与所述支架固定连接，并位于所述支架的内顶壁，所述转轴的一端与所述电机的输出端固定连接，所述转轴的另一端贯穿所述支架和所述固定筒，并与所述旋转筒固定连接，多个所述清洗刷均与所述旋转筒固定连接，并依次分布在所述旋转筒的内壁。
11.其中，所述纳米气泡制备装置还包括加强组件，所述加强组件设置于所述制备组件上。
12.其中，所述加强组件包括储水箱、第一软管和第一泵体，所述储水箱与所述制备器固定连接，并位于所述制备器的下方，所述第一软管的一端贯穿固定筒，所述第一软管的另
一端与所述第一泵体的出水端连通，所述第一泵体的进水端与所述储水箱的一侧连通。
13.其中，所述加强组件还包括进水管和第一阀门，所述进水管与所述储水箱连通，并位于所述储水箱的一侧，所述第一阀门与所述进水管固定连接。
14.本发明还提供一种纳米气泡制备方法，采用上述的所述纳米气泡制备装置，包括如下步骤：
15.通过所述制备器控制，启动所述第一气缸；
16.通过所述l形杆的连接，使所述制备电极下移进入水中，从而制备纳米气泡；
17.制备结束后，所述制备电极上移，再将所述旋转清洗单元移动至所述制备电极下方；
18.所述制备电极再下移进入所述旋转清洗单元进行旋转清洗，清除污垢；
19.清洗结束后所述制备电极上移，所述旋转清洗单元收回原位。
20.本发明的一种纳米气泡制备方法及装置，所述制备器可以控制所述制备单元、所述第一气缸和所述第二气缸运行，所述固定板对所述第二气缸支撑，所述支架对所述旋转清洗单元支撑，通过所述第一气缸带动所述制备单元上移，同时所述第二气缸带动所述旋转清洗单元移动至所述制备单元下方，然后所述制备单元下移进入所述旋转清洗单元，清除污垢，由此实现自动清洗，通过上述结构设置，无需工作人员手动清洗，大大减轻了劳动强度，且可以更快的清洗完毕重新投入使用，提升了制备纳米气泡的效率。
附图说明
21.为了更清楚地说明本技术实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍。
22.图1是本发明的第一实施例的整体的结构示意图。
23.图2是本发明的第一实施例的整体的俯视图。
24.图3是本发明的图2的a-a线剖视图。
25.图4是本发明的第二实施例的整体的结构示意图。
26.图5是本发明的第二实施例的整体的剖视图。
27.图6是本发明的第二实施例的整体的结构示意图。
28.图7是本发明的第二实施例的整体的俯视图。
29.图8是本发明的图7的b-b线剖视图。
30.图9是本发明的纳米气泡制备方法的步骤流程图。
31.101-制备器、102-第一气缸、103-固定板、104-第二气缸、105-支架、106-第一加强杆、107-第二加强杆、108-l形杆、109-制备电极、110-电机、111-转轴、112-固定筒、113-旋转筒、114-清洗刷、201-储水箱、202-第一软管、203-第一泵体、204-进水管、205-第一阀门、301-收集箱、302-第二软管、303-第二泵体、304-出水口、305-出水管、306-第二阀门。
具体实施方式
32.下面详细描述本发明的实施例，所述实施例的示例在附图中示出，下面通过参考附图描述的实施例是示例性的，旨在用于解释本发明，而不能理解为对本发明的限制。
33.第一实施例：
34.请参阅图1至图3，其中图1是本发明的第一实施例的整体的结构示意图，图2是本发明的第一实施例的整体的俯视图，图3是本发明的图2的a-a线剖视图。本发明提供一种纳米气泡制备装置，包括制备器101和制备组件，所述制备组件包括第一气缸102、制备单元、固定板103、第二气缸104、支架105、旋转清洗单元、第一加强杆106和第二加强杆107，所述制备单元包括l形杆108和制备电极109，所述旋转清洗单元包括电机110、转轴111、固定筒112、旋转筒113和多个清洗刷114。
35.针对本具体实施方式，通过所述第一气缸102收缩，带动所述制备电极109上移，然后所述第二气缸104伸出，所述旋转清洗单元移动至所述制备电极109的下方，所述第一气缸102再伸出，所述制备电极109进入所述旋转筒113的内部，所述电机110带动所述转轴111转动，使所述旋转筒113在所述固定筒112内部旋转，带动多个所述清洗刷114旋转，对所述制备电极109清洗。
36.其中，所述第一气缸102与所述制备器101固定连接，并位于所述制备器101的一侧，所述制备单元设置于所述第一气缸102的输出端，所述固定板103与所述制备器101固定连接，并位于所述制备器101的下方，所述第二气缸104与所述固定板103的一侧固定连接，所述第二气缸104的输出端与所述支架105固定连接，所述旋转清洗单元设置于所述支架105的上方。所述制备器101可以控制所述制备单元、所述第一气缸102和所述第二气缸104运行，所述固定板103对所述第二气缸104支撑，所述支架105对所述旋转清洗单元支撑，通过所述第一气缸102带动所述制备单元上移，同时所述第二气缸104带动所述旋转清洗单元移动至所述制备单元下方，然后所述制备单元下移进入所述旋转清洗单元，清除污垢，由此实现自动清洗。
37.其次，所述第一加强杆106的两端分别与所述第一气缸102的外表壁和所述制备器101的上方固定连接，所述第二加强杆107的两端分别与所述第二气缸104的外表壁和所述固定板103的一侧固定连接。所述第一加强杆106对所述第一气缸102进行加强支撑，所述第二加强杆107对所述第二气缸104进行加强支撑。
38.同时，所述l形杆108与所述第一气缸102的输出端固定连接，所述l形杆108远离所述第一气缸102的一端与所述制备电极109固定连接。所述l形杆108对所述制备电极109支撑，所述制备电极109进入水中后，通入直流电，可以制备纳米气泡。
39.另外，所述固定筒112与所述支架105固定连接，并位于所述支架105的上方，所述旋转筒113与所述固定筒112转动连接，并位于所述固定筒112的内部，所述电机110与所述支架105固定连接，并位于所述支架105的内顶壁，所述转轴111的一端与所述电机110的输出端固定连接，所述转轴111的另一端贯穿所述支架105和所述固定筒112，并与所述旋转筒113固定连接，多个所述清洗刷114均与所述旋转筒113固定连接，并依次分布在所述旋转筒113的内壁。所述固定筒112对所述旋转筒113承载，所述电机110带动所述转轴111转动，使所述旋转筒113在所述固定筒112内部旋转，带动多个所述清洗刷114旋转，进而对所述制备电极109清洗。
40.使用本实施例的一种纳米气泡制备装置时，当所述制备电极109存在污垢时，首先通过所述第一气缸102收缩，通过所述l形杆108的连接，带动所述制备电极109上移，然后所述第二气缸104伸出，带动整个所述旋转清洗单元移动至所述制备电极109的下方，然后所述第一气缸102再伸出，使所述制备电极109进入所述旋转筒113的内部，此时启动所述电机
110，带动所述转轴111转动，使所述旋转筒113在所述固定筒112内部旋转，带动多个所述清洗刷114旋转，进而对所述制备电极109清洗，通过上述结构设置，无需工作人员手动清洗，大大减轻了劳动强度。
41.第二实施例：
42.在第一实施例的基础上，请参阅图4和图5，其中图4是本发明的第二实施例的整体的结构示意图，图5是本发明的第二实施例的整体的剖视图。本发明提供一种纳米气泡制备装置，还包括加强组件，所述加强组件包括储水箱201、第一软管202、第一泵体203、进水管204和第一阀门205。
43.针对本具体实施方式，当进行清洗所述制备电极109时，通过打开所述第一泵体203，将水抽入所述第一软管202，然后流入所述旋转筒113内，清水从上至下沾湿所述清洗刷114。
44.其中，所述加强组件设置于所述制备组件上。所述加强组件对清洗过程进行加强优化，提升清洗效果。
45.其次，所述储水箱201与所述制备器101固定连接，并位于所述制备器101的下方，所述第一软管202的一端贯穿固定筒112，所述第一软管202的另一端与所述第一泵体203的出水端连通，所述第一泵体203的进水端与所述储水箱201的一侧连通。所述储水箱201可以储存清水，通过打开所述第一泵体203，将水抽入所述第一软管202，然后流入所述旋转筒113内，清水从上至下沾湿所述清洗刷114，提高清洗效果。
46.同时，所述进水管204与所述储水箱201连通，并位于所述储水箱201的一侧，所述第一阀门205与所述进水管204固定连接。所述进水管204便于往所述储水箱201内添加清洗清水，所述第一阀门205便于开关所述进水管204。
47.使用本实施例的一种纳米气泡制备装置时，当进行清洗所述制备电极109时，通过打开所述第一泵体203，将水抽入所述第一软管202，然后流入所述旋转筒113内，清水从上至下沾湿所述清洗刷114，由此提高清洗效果，更加便于清洗所述制备电极109使用。
48.第三实施例：
49.所述纳米气泡制备装置还包括收集组件，所述收集组件设置于所述储水箱201的下方。所述收集组件包括收集箱301、第二软管302和第二泵体303，所述收集箱301与所述储水箱201固定连接，并位于所述储水箱201的下方，所述旋转筒113具有多个出水口304，所述第二软管302的一端贯穿所述支架105，并与所述固定筒112的下方连通，所述第二软管302的另一端与所述第二泵体303的进水端连通，所述第二泵体303的出水端与所述收集箱301的一侧连通。所述收集组件还包括出水管305和第二阀门306，所述出水管305与所述收集箱301连通，并位于所述收集箱301的另一侧，所述第二阀门306与所述出水管305固定连接。
50.在第二实施例的基础上，请参阅图6至图8，其中图6是本发明的第二实施例的整体的结构示意图，图7是本发明的第二实施例的整体的俯视图，图8是本发明的图7的b-b线剖视图。本发明提供一种纳米气泡制备装置，还包括收集组件，所述收集组件包括收集箱301、第二软管302、第二泵体303、出水管305和第二阀门306，所述旋转筒113具有多个出水口304。
51.针对本具体实施方式，清水经过使用后，通过多个所述出水口304流出，然后通过所述旋转筒113的不断旋转，逐渐进入所述第二软管302，同时所述第二泵体303将所述第二
软管302的污水抽入所述收集箱301内。
52.其中，所述收集组件设置于所述储水箱201的下方。所述收集组件对清洗后的污水进行收集。
53.其次，所述收集箱301与所述储水箱201固定连接，并位于所述储水箱201的下方，所述旋转筒113具有多个出水口304，所述第二软管302的一端贯穿所述支架105，并与所述固定筒112的下方连通，所述第二软管302的另一端与所述第二泵体303的进水端连通，所述第二泵体303的出水端与所述收集箱301的一侧连通。所述收集箱301用于储存清洗后的污水，以便统一排放，清水经过使用后，通过多个所述出水口304流出，然后通过所述旋转筒113的不断旋转，逐渐进入所述第二软管302，同时所述第二泵体303将所述第二软管302的污水抽入所述收集箱301内。
54.同时，所述出水管305与所述收集箱301连通，并位于所述收集箱301的另一侧，所述第二阀门306与所述出水管305固定连接。打开所述第二阀门306，通过所述出水管305可排除收集的污水，进行统一处理。
55.使用本实施例的一种纳米气泡制备装置时，清水经过使用后，通过多个所述出水口304流出，然后通过所述旋转筒113的不断旋转，逐渐进入所述第二软管302，同时所述第二泵体303将所述第二软管302的污水抽入所述收集箱301内，然后打开所述第二阀门306，通过所述出水管305可排除收集的污水，进行统一处理，由此便于收集污水进行集中处理，避免对环境造成污染。
56.请参阅图9，本发明还提供一种纳米气泡制备方法，采用上述的所述纳米气泡制备装置，包括如下步骤：
57.s1：通过所述制备器101控制，启动所述第一气缸102；
58.s2：通过所述l形杆108的连接，使所述制备电极109下移进入水中，从而制备纳米气泡；
59.s3：制备结束后，所述制备电极109上移，再将所述旋转清洗单元移动至所述制备电极109下方；
60.s4：所述制备电极109再下移进入所述旋转清洗单元进行旋转清洗，清除污垢；
61.s5：清洗结束后所述制备电极109上移，所述旋转清洗单元收回原位。
62.其中，通过制备器101的控制，启动所述第一气缸102伸出，通过所述l形杆108的连接，带动所述制备电极109下移进入水中，从而制备纳米气泡，制备结束后，所述制备电极109上移离开水面，同时所述第二气缸104伸出，带动所述支架105移动至所述制备电极109的下方，此时所述制备电极109再下移进入所述旋转筒113的内部，同时所述电机110启动，带动所述转轴111旋转，使所述旋转筒113在所述固定筒112内部旋转，通过多个所述清洗刷114与所述制备电极109接触，进行旋转清洗，清除污垢，清洗结束后所述制备电极109上移，所述旋转清洗单元收回原位。
63.以上所揭露的仅为本技术一种或多种较佳实施例而已，不能以此来限定本技术之权利范围，本领域普通技术人员可以理解实现上述实施例的全部或部分流程，并依本技术权利要求所作的等同变化，仍属于本技术所涵盖的范围。