一种纳米压印硬模板的清洗方法与流程

技术特征：
1.一种纳米压印硬模板的清洗方法，其特征在于，具体包括以下步骤：s1：将纳米压印硬模板浸泡于dhf溶液中；s2：利用纯水去除纳米压印硬模板表面的dhf溶液；s3：利用spm溶液去除纳米压印硬模板表面的有机物，spm溶液为硫酸与双氧水的混合溶液；s4：利用纯水去除纳米压印硬模板表面的spm溶液；s5：利用sc1溶液去除纳米压印硬模板表面的金属离子，sc1溶液为氨水、双氧水与水的混合溶液；s6：利用纯水去除纳米压印硬模板表面的sc1溶液；s7：利用srd甩干机对纳米压印硬模板进行干燥处理。2.根据权利要求1所述的清洗方法，其特征在于，s2、s4、s6分别具体包括以下内容：将纳米压印硬模板放置于纯水槽内后，对其进行以下操作：(a)向纯水槽内纯水充入气体至纯水鼓泡，纯水槽内纯水从上溢流排出，并持续一定时间；(b)纯水喷淋后，纯水从纯水槽的排水口排出，并持续一定时间；(c)纯水喷淋后，纯水槽内纯水从上溢流排出，并持续一定时间；(d)纯水槽内纯水从上溢流排出，持续一定时间；其中，操作(a)、(b)、(c)、(d)按序进行或错序进行。3.根据权利要求2所述的清洗方法，其特征在于，纯水槽内的纯水的温度为25℃～30℃之间。4.根据权利要求2所述的清洗方法，其特征在于，s2、s4、s6中，操作(a)、(b)、(c)、(d)执行一次或多次。5.根据权利要求1所述的清洗方法，其特征在于，s3具体包括以下步骤：s3.1：将纳米压印硬模板放置于spm溶液槽内；s3.2：向spm溶液槽内spm溶液充入气体至spm溶液鼓泡，并持续一定时间；s3.3：spm溶液槽内卡塞定位装置抖动，且向spm溶液槽内spm溶液充入气体至spm溶液鼓泡，并持续一定时间；s3.4：向spm溶液槽内spm溶液充入气体至spm溶液鼓泡，并持续一定时间。6.根据权利要求1所述的清洗方法，其特征在于，s5具体包括以下步骤：s5.1：将纳米压印硬模板放置于sc1溶液槽内；s5.2：利用超声使sc1溶液震动，且向sc1溶液槽内sc1溶液充入气体至sc1溶液鼓泡，并持续一定时间。7.根据权利要求1所述的清洗方法，其特征在于，s7具体包括以下步骤：s7.1：将纳米压印硬模板放置于srd甩干机内；s7.2：srd甩干机内腔体加热至60℃～80℃，对纳米压印硬模板进行喷淋冲洗，以600～800转每分钟旋转，并持续一定时间；s7.3：srd甩干机内腔体加热至60℃～80℃，利用喷嘴对纳米压印硬模板进行吹干，以1200-1800转每分钟旋转，并持续一定时间；s7.4：srd甩干机内腔体加热至60℃～80℃，冲入60℃～80℃氮气，利用热氮烘干纳米
压印硬模板，以800-1200转每分钟旋转，并持续一定时间。8.根据权利要求1-7任一项所述的清洗方法，其特征在于，spm溶液为硫酸与双氧水按照体积比3：1～4：1进行配比，且温度为120℃-130℃的混合溶液。9.根据权利要求1-7任一项所述的清洗方法，其特征在于，sc1溶液为氨水、双氧水与水按照体积比1：1：5～1：1：6进行配比，且温度为50℃～80℃的混合溶液。

技术总结
本发明公开一种纳米压印硬模板的清洗方法，具体包括以下步骤：S1：将纳米压印硬模板浸泡于DHF溶液中；S2：利用纯水去除纳米压印硬模板表面的DHF溶液；S3：利用SPM溶液去除纳米压印硬模板表面的有机物，SPM溶液为硫酸与双氧水的混合溶液；S4：利用纯水去除纳米压印硬模板表面的SPM溶液；S5：利用SC1溶液去除纳米压印硬模板表面的金属离子，SC1溶液为氨水、双氧水与水的混合溶液；S6：利用纯水去除纳米压印硬模板表面的SC1溶液；S7：利用SRD甩干机对纳米压印硬模板进行干燥处理。本发明可以有效的清洗掉硬模板表面的软膜胶，使硬模板可以重复利用降低生产成本。利用降低生产成本。利用降低生产成本。


技术研发人员：徐明金 史晓华
受保护的技术使用者：苏州光越微纳科技有限公司
技术研发日：2022.12.07
技术公布日：2023/3/10