减少基板上污染分子沉积的设备的制作方法

技术特征：
1.一种用于减少在基板上的污染分子的沉积的设备，所述基板定位于真空腔室中在台上，所述台至少具有第一尺寸，且所述设备包含：照明模块，所述照明模块从第一侧面向所述台，且沿着所述第一尺寸的至少80％延伸，其中所述照明模块经定位以照明在所述基板上方的空间，且所述照明模块包含用于发射uv辐射的光源；和吸收模块，从相对于所述第一侧的第二侧面向所述台，且沿着所述第一尺寸的至少80％延伸。2.如权利要求1所述的设备，其中所述光源具有所述第一尺寸的至少80％的长度。3.如以上权利要求的任一项所述的设备，其中所述照明模块包含：束引导单元，用于在所述第一尺寸的至少80％上分配所述uv辐射。4.如以上权利要求的任一项所述的设备，其中所述束引导单元构造成修改通过所述光源发射的所述uv辐射的束宽度或束方向的至少一个。5.如以上权利要求的任一项所述的设备，其中所述光源构造成发射具有大于145nm且小于175nm的波长的辐射。6.如以上权利要求的任一项所述的设备，进一步包括束消隐元件，所述束消隐元件定位于所述照明模块与所述台之间，用于保护所述基板抵抗所述uv辐射。7.如以上权利要求的任一项所述的设备，其中在所述基板上方的所述空间中所述uv辐射的最大强度低于3000μw/cm2。8.如以上权利要求的任一项所述的设备，其中所述uv辐射被引导平行于所述台的表面。9.如以上权利要求的任一项所述的设备，其中所述照明的空间具有对应于所述基板面积的底部和20mm的高度。10.如以上权利要求的任一项所述的设备，其中所述照明模块构造成照明所述基板上方的所述空间，使得所述基板实质上不具有所述uv辐射。11.如以上权利要求的任一项所述的设备，进一步包含控制器，所述控制器构造成引发所述照明模块连续照明所述基板上方的所述空间长达所述基板在所述台上之久。12.一种带电粒子束系统，包含：带电粒子束显微镜，所述带电粒子束显微镜构造成对真空腔室中提供的基板的部分成像；和如以上权利要求的任一项所述的设备。13.一种用于减少在基板上的污染分子的沉积的方法，所述基板定位于真空腔室中在台上，所述方法包含以下步骤：以uv辐射照明所述基板上方的空间，其中所述空间具有所述基板的面积的至少80％的底部，和至少5mm的高度；和吸收所述uv辐射的至少一部分。14.如权利要求13所述的方法，进一步包含以下步骤：以束消隐元件保护所述基板抵抗所述uv辐射。15.如权利要求13至14任一项所述的方法，其中所述uv辐射被引导平行于所述台的表面。

技术总结
说明一种用于减少在基板(150)上污染分子的沉积的设备(100)，基板(150)定位于真空腔室(140)中在台(142)上。台(142)至少具有第一尺寸。设备包括照明模块(110)，从第一侧面向台(142)，且沿着第一尺寸的至少80％延伸。照明模块(110)经定位以照明基板(150)上方的空间，且包含用于发射UV辐射的光源。设备(100)进一步包括吸收模块(120)，从相对于第一侧的第二侧面向台(142)，且沿着第一尺寸的至少80％延伸。且沿着第一尺寸的至少80％延伸。且沿着第一尺寸的至少80％延伸。


技术研发人员：伯纳德
受保护的技术使用者：应用材料公司
技术研发日：2020.04.24
技术公布日：2022/12/8