显示面板和显示装置的制作方法

1.本技术涉及显示技术领域，具体涉及一种显示面板和具有该显示面板的显示装置。


背景技术：

2.随着用户对于显示装置的高屏占比的要求日益增加，全面屏显示技术迅速发展。为了提高显示面板的屏占比，主流技术是通过在显示面板内部开设开孔作为摄像头、指纹识别等功能元件的透光区。然而，具有开孔的显示装置在产品信赖性测试过程中，在孔区的周围显示区域较易出现黑斑，这就无法满足用户的使用要求。


技术实现要素：

3.本技术的第一方面提供一种显示面板，该显示面板包括基底、第一导电层和第二导电层。基底划分有显示区、挖孔区以及位于显示区和挖孔区之间的非显示区，基底包括隔离柱，隔离柱位于非显示区且环绕于挖孔区。第一导电层位于显示区和非显示区且设置在隔离柱背离基底的一侧。第二导电层位于非显示区且设置在基底和第一导电层之间，第二导电层包括至少一条环绕挖孔区设置的测试导线。隔离柱包括间隔设置的第一隔离柱和第二隔离柱，第一隔离柱背离基底的一侧设有测试导线，并在第一隔离柱的至少一个侧壁上设有缺口。
4.在上述方案中，一方面，所有隔离柱的设置降低了由于切割应力导致的挖孔区边缘黑斑的风险。另一方面，第一隔离柱侧壁上的缺口降低了第一导电层与测试导线搭接的风险，从而降低了在测试导线通电时由于搭接引起的电场强度被加强的风险，进一步降低了挖孔区边缘黑斑的概率。
5.结合第一方面，在一些实施方式中，基底还包括衬底和位于衬底上的功能膜层，缺口设置在衬底上和/或功能膜层上。
6.在上述方案中，缺口的灵活设置增加了本方案的适用性，同时，设置多个缺口或者将缺口设置在衬底上能够更高效地降低第一导电层与测试导线搭的风险。
7.结合第一方面，在一些实施方式中，功能膜层包括至少两个子膜层，缺口设置在至少一个子膜层上。进一步地，功能膜层包括在垂直于衬底的厚度方向上依次叠置的缓冲层、栅绝缘层、电容绝缘层、层间介质层和钝化层。
8.在上述方案中，功能膜层的多个子膜层的设计方案，使得隔离柱具有更高的堆叠方案，这更有利于降低第一导电层与第二导电层中的导线之间搭接的风险。
9.结合第一方面，在一些实施方式中，缺口在垂直于基底的厚度方向上的截面形状为弧线型和/或折线型。进一步地，缺口形成的爬坡角为30
°
～90
°
。
10.在上述方案中，缺口的形状以及爬坡角的设置增加了第一导电层爬过缺口的难度，从而高效地改善了第一导电层与测试导线搭接的问题。
11.结合第一方面，在一些实施方式中，缺口在隔离柱的周向方向上连续或间隔设置。
12.在上述方案中，缺口的设计可以兼顾维持隔离柱的强度和隔断第一导电层，提高了显示面板的综合性能。
13.结合第一方面，在一些实施方式中，第二导电层还包括至少一条环绕挖孔区设置的阻挡导线，所阻挡导线设置在第二隔离柱背离基底的一侧。进一步的，第二隔离柱的至少一个侧壁上设有缺口。
14.在上述方案中，阻挡导线的设计以及第二隔离柱侧壁上的缺口，能够进一步降低第一导电层与阻挡导线搭接的风险。
15.结合第一方面，在一些实施方式中，第二导电层包括多条测试导线，阻挡导线位于其中两条测试导线之间。
16.在上述方案中，阻挡导线和测试导线之间间隔设置的方案，不仅能更进一步改善挖孔区边缘出现黑斑的问题，还能提高显示面板的产品信赖性测试的效率。
17.结合第一方面，在一些实施方式中，测试导线和/或阻挡导线的侧壁上设有限位凹槽。进一步地，测试导线和/或阻挡导线包括至少两层子金属层，至少两层子金属层的材料不同。进一步地，测试导线和/或阻挡导线包括依次叠置的三层子金属层，限位凹槽设置在中间层的子金属层中。
18.在上述方案中，限位凹槽的设计提高了在第一导电层背离基底的一些设置的新的膜层与第二导电层之间的牢固性，从而提高了显示面板的质量。
19.结合第一方面，在一些实施方式中，还包括位于第一导电层背离基底一侧的封装层，封装层包括无机膜层，无机膜层填充于限位凹槽和/或缺口。
20.在上述方案中，封装层中的无机膜层填充测试导线和/或阻挡导线的限位凹槽和/或缺口，不仅能够增强封装效果提高该显示面板的抗水氧能力，还能够降低出现因无机膜层被腐蚀后脱落导致影响显示面板的显示效果的问题的概率，从而提高了显示面板的质量。
21.本技术第二方面提供了一种显示装置。该显示装置包括上述第一方面提供的任意一种的显示面板。
附图说明
22.图1是本技术一实施例的显示面板的俯视图的结构示意图。
23.图2是本技术一实施例的图1中s处的放大图。
24.图3是本技术一实施例的显示面板的部分区域的截面图其包括了图2所示的显示面板沿m1n1的截面图。
25.图4是本技术另一实施例的显示面板的部分区域的截面图其包括了图2所示的显示面板沿m1n1的截面图。
26.图5是本技术另一实施例的显示面板的部分区域的截面图，其包括了图2所示的显示面板沿m1n1的截面图。
27.图6是本技术一实施例的显示面板的显示区域的部分截面图。
28.图7是本技术一实施例中显示面板的部分区域的截面图，其包括了图2所示的显示面板沿m1n1的截面图。
29.图8是本技术另一实施例的图1中s处的放大图。
30.图9是本技术一实施例的显示面板的部分区域的截面图，其包括了图8所示的显示面板沿m2n2的截面图。
31.图10是本技术另一实施例的显示面板的部分区域的截面图，其包括了图8所示的显示面板沿m2n2的截面图。
32.图11是本技术另一实施例的显示面板的部分区域的截面图，其包括了图8所示的显示面板沿m2n2的截面图。
具体实施方式
33.下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。
34.在显示面板的内部设置挖孔区，是提高显示面板屏占比常用手段，但是，在挖孔区的边缘会出现黑斑和封装失效的问题。目前常用的方法是在挖孔区外侧设置侧刻的结构来阻挡切割应力和水氧向显示区延伸，但是这对侧刻结构的槽深度的精度要求较高。如果槽深度太深，则会在槽中残留其他工艺涉及的金属进而造成显示异常问题的发生；如果槽深度太浅，在通过切割制备开孔时产生的切割应力很容易延伸至显示区，使得挖孔区边缘产生黑斑，造成显示异常，并且关于封装失效的问题也没有得到很好的改善。
35.为此，一种新的方案被提出，在挖孔区的周边设置隔离柱结构，该隔离柱结构能够改善挖孔区边缘出现黑斑和封装失效的问题。但是在实际生产中，在对设有挖孔区的显示面板进行产品信赖性测试的过程中，通电运行一段时间后会发生gdsh(growing dark spot)黑斑不良，而在相同测试条件下进行相同时间的存储测试(即断电测试)，显示面板并未发生gdsh不良。经研究发现，第一导电层(例如共用阴极)在挖孔区的边缘区域中与测试导线搭接，和/或第一导电层使测试导线与其他导线(例如阻挡导线)搭接，和/或第一导电层使其他导线搭接，这就使测试导线在通电测试后，其周边的电场强度被加强，而加强后的电场会使显示面板的膜层(例如偏光片)在挖孔区边缘处的断面中的金属离子(例如钾离子、钠离子等)在加强电场的作用下移动到显示面板的其他膜层(例如共用阴极、封装层中朝向共用阴极的无机膜层)。为了保持电荷平衡，在显示面板的其他膜层(例如共用阴极、封装层中朝向共用阴极的无机膜层)存在钾离子、钠离子等离子时，在这些膜层中的钾离子、钠离子等离子存在的区域会聚集氢离子以保正电中和，故泄露的钾和钠等元素与位于挖孔区边缘区域的这些膜层(例如共用阴极、封装层中朝向共用阴极的无机膜层)发生电化学反应，反应方程式包括：
36.sio2 2oh-＝sio
32- h2o(封装层中朝向共用阴极的无机膜层包括sio2)；
37.e- h2o＝oh- h2↑
(共用阴极具有大量电子)。
38.并且，由于这些电化学反应，加速了阴极和封装层中朝向共用阴极的无机膜层的老化，进而会导致封装层失效的同时，还引发显示面板的gdsh黑斑不良。
39.为此，本技术提供了一种显示面板，在隔离柱的侧壁上设置缺口，使第一导电层在缺口处断开，降低了第一导电层与第二导电层中的导线搭接的风险，从而改善了挖孔区边缘出现黑斑的问题。
40.本技术的实施例提供一种显示面板，该显示面板包括基底、第一导电层和第二导电层。基底划分有显示区、挖孔区以及位于显示区和挖孔区之间的非显示区，基底包括隔离柱，隔离柱位于非显示区且环绕于挖孔区。第一导电层位于显示区和非显示区且设置在隔离柱背离基底的一侧。第二导电层位于非显示区且设置在基底和第一导电层之间，第二导电层包括至少一条环绕挖孔区设置的测试导线。隔离柱包括间隔设置的第一隔离柱和第二隔离柱，第一隔离柱背离基底的一侧设有测试导线，并在第一隔离柱的至少一个侧壁上设有缺口。
41.应理解的是，测试导线通过电流实现对显示面板的质量检测，其在挖孔区两侧分别设置有触点，用于连接引线导入外部电流，关于引线的设计可以根据具体的测试条件进行设计，在此就不做赘述。
42.在该显示面板中，一方面，第二导电层朝向基底侧的隔离柱阻挡了挖孔区形成过程中进行切割显示面板时产生的切割应力通过无机膜层延伸至显示区，降低了由于切割应力导致挖孔区边缘黑斑的概率。另一方面，第一隔离柱侧壁上的缺口使第一导电层经过该缺口时容易断开，降低了第一导电层与第二导电层中的测试导线搭接的风险，从而降低了在测试导线通电时由于测试导线与第一导电层搭接增加了电场强度，进而降低了显示面板的膜层中的离子扩散到其他膜层中使其他膜层加速老化的概率，即进一步降低了挖孔区边缘黑斑的概率。
43.示例性地，如图1和图2所示，显示面板包括基底10、第一导电层20和第二导电层30。显示面板被划分为显示区aa、挖孔区da以及位于显示区aa与挖孔区da之间的非显示区na显示区aa，该非显示区na显示区aa围绕挖孔区da设置。对应地，基底10也划分有显示区aa、挖孔区da以及非显示区na显示区aa三个区域，并且基底10包括间隔设置的第一隔离柱11和第二隔离柱12，且每个隔离柱均位于非显示区na显示区aa且环绕挖孔区da设置。第一导电层20位于显示区aa和非显示区na显示区aa且设置在隔离柱背离基底10的一侧。第二导电层30位于非显示区na显示区aa且设置在基底10和第一导电层20之间，第二导电层30包括至少一条环绕挖孔区da设置的测试导线31。并且，如图3所示，第一隔离柱11背离基底10的一侧设有测试导线31，并且在设有测试导线31的第一隔离柱11远离挖孔区da一侧的侧壁上设有缺口13，该缺口13增大了从显示区aa延伸过来的第一导电层20在此处断裂的概率，从而降低了第一导电层20与测试导线31搭接的风险。
44.缺口13的在第一隔离柱11的侧壁上设置的方案有多种，示例性地，如图4所示，在设有测试导线31的第一隔离柱11远离挖孔区da的侧壁上以及靠近挖孔区da的侧壁上均设有缺口13，这能够更进一步地降低第一导电层20与第二导电层30中的导线搭接的风险。
45.应理解的是，缺口还可以设置在第一隔离柱靠近挖孔区的一侧，此外，在第一隔离柱的两个侧壁上设置都设置缺口时，两侧壁上缺口的相对位置、每个的深度以及缺口的形状可以根据显示面板的需求进行设计，在此就不做赘述。同时，挖孔区为其他感光器件例如前置摄像组件设置的位置，其位置和形状不局限于图1所示的方案，可以根据显示面板的具体功能需求来设计。并且，该显示面板还包括其他非显示区，例如围绕显示区且远离挖孔区的位置设置的非显示区，可作为其他功能区例如邦定区、弯折区。
46.在隔离柱的侧壁上设置的缺口的具体方案与隔离柱的膜层有直接的关系，下面对于二者之间的关系进行了详细介绍。
47.在一些实施例中，基底10还包括衬底14和位于衬底14上的功能膜层15，缺口13设置在衬底14上和/或功能膜层15上。缺口13可以设置在基底10包括的多个膜层中的任意一个或多个膜层中，即缺口13的灵活设置增加本方案的适用性，同时，设置多个缺口13或者将缺口13设置在衬底14上能够更高效地降低在测试导线31通电时由于搭接引起的电场强度被加强的风险。
48.示例性地，如图5所示，在该显示面板中，基底10包括衬底14和功能膜层15，且第一隔离柱11的两个侧壁上均设有缺口13，并且设置在第一隔离柱11靠近挖孔区da的侧壁上的缺口13位于衬底14中，设置在第一隔离柱11远离挖孔区da即靠近显示区aa的侧壁上的缺口13位于功能膜层15中。
49.应理解的是，缺口的设计方案不局限于上述示例的方案，在第一个隔离柱的两个侧壁上的缺口可以都设置在相同的膜层位置上，例如都在功能膜层中或者都在衬底上，并且，同一个缺口还可以同时设置功能膜层和衬底中，这些均可以根据实际生产要求进行设计，在此就不做赘述。
50.此外，缺口可以在形成隔离柱的制备过程中形成，具体地可以对基板进行三次干法刻蚀。第一次干法刻蚀后，蚀刻掉部分功能膜层，形成隔断槽的开口部，该隔断槽的开口的截面直径逐渐减少。第二次干法刻蚀后，刻蚀掉大部分功能膜层，暴露出功能膜层中靠近衬底的膜层即缓冲层的端面，形成了隔断槽的中间部，该中间部的截面直径也是逐渐减少，且由于开口部的最小截面直径大于中间部的最大截面直径，使得开口部与中间部连接处形成有台阶。例如，使用干刻形成的环状结构缺口(开口部和中间部)，以环状结构缺口为中心两边对称，开口部的最大截面直径为10um，中间部的最大截面直径为5um，中间部的taper角为70
°‑
80
°
。开口部与中间部连接处的台阶在衬底上的正投影的长度为2.5um，即第二导电层上的导线距离中间部的边缘长度为2.5um。第三次干法刻蚀后，刻蚀掉开口部与中间部连接处的台阶，使二者平滑相接，即开口部的最小截面直径等于中间部的最大截面直径，并且还刻蚀掉部分衬底，形成隔断槽的底部，最终形成了隔离柱。并且在第一次干法刻蚀和/或第二次干法刻蚀和/或第三次干法刻蚀的过程中，可以在隔离槽的侧壁上形成缺口。
51.在兼顾到显示面板的尺寸要求以及生产工艺时，调整功能膜层的厚度还能缓解切割的应力传递的问题以及改善第一导电层与第二导电层中的导线搭接的问题。在一些实施例中，功能膜层包括至少两个子膜层，缺口设置在至少一个子膜层上。在至少一些实施例中，功能膜层包括在垂直于衬底的厚度方向上依次叠置的缓冲层、栅绝缘层、电容绝缘层、层间介质层和钝化层。功能膜层的多个子膜层的设计方案，使得隔离柱具有更高的堆叠方案，不仅从增加了隔离柱的高度方面考虑，还是从在第一隔离柱的侧壁上设置距离第一导电层更远的缺口或更多的缺口来考虑，都更有利于降低第一导电层与第二导电层中的导线之间搭接的风险。
52.示例性地，如图6和图7所示，显示面板包括依次叠置的衬底14、功能膜层15、第二导电层30和第一导电层20。功能膜层15包括在衬底14到第二导电层30方向上依次叠置的缓冲层151、栅绝缘层152、电容绝缘层153、层间介质层154和钝化层155五层子膜层。功能膜层15位于显示区aa和非显示区na显示区aa，第一隔离柱11和第二隔离柱12均包括功能膜层15的所有子膜层，并且在第一隔离柱11上设置的缺口13位于功能膜层15的一层子膜层中即电容绝缘层153中。基于相同的材料进行刻蚀，便于控制刻蚀的速度和效果来考虑，该方案便
于缺口13的生产，节约了生产成本。
53.应理解的是，显示面板包括的功能膜层不局限于上述五层子膜层结构，还可以包含两层、三层、四层或者更多的例如六层子膜层，并且第一隔离柱和第二隔离柱在基底到第一导电层的方向上的厚度可以如上述示例中的相等也可以不相等，例如第一隔离柱的厚度大于第二隔离柱的厚度，这样有利于改善隔离柱之间的间隙内金属残留的问题。此外，缺口在功能膜层中设置的方案也不局限于上述示例性的方案，缺口可以设置其他的子膜层中，或者同时设置在不同的子膜层中，这些可以根据显示面板的功能需求以及实际生产工艺进行选择，在此就不做赘述。
54.在一些实施例中，第二导电层还包括至少一条环绕挖孔区设置的阻挡导线，阻挡导线设置在第二隔离柱背离基底的一侧。阻挡导线能够进一步阻挡切割时无机膜层产生的应力延伸至显示区，从而进一步改善了挖孔区边缘黑斑的问题。
55.基于在显示面板中设置了阻挡导线，在一些实施例中，第二隔离柱的至少一个侧壁上设有缺口，这降低了第一导电层与阻挡导线搭接的风险，从而降低了挖孔区边缘出现黑斑的概率。
56.在一些实施例中，第二导电层包括多条测试导线，阻挡导线位于其中两条测试导线之间。阻挡导线和测试导线之间，这不仅能够降低切割应力延伸至显示区的风险，还能更进一步改善挖孔区边缘出现黑斑的问题。此外，两条测试导线间隔设置，能够高效地检测出由于切割应力对显示面板的影响，提高了显示面板的产品信赖性测试的效率。
57.示例性地，如图8和图9所示，在该显示面板中，第二导电层30包括设置在第一隔离柱11背离基底10一侧的测试导线31和设置在第二隔离柱12背离基底10侧的阻挡导线32。具体地，测试导线31设置有两条，阻挡导线32设置有一条且设置在两条测试导线31之间，且相邻导线之间的间距10μm，这能降低测试导线31由于切割应力产生断裂的风险，提高了显示面板的产品信赖性测试的可靠性。此外，测试导线31设置成两条且二者不相邻，能够高效地检测出由于设置挖孔区da产生的切割应力对显示面板的影响，即检测出显示面板的靠近挖孔区da的区域是否产生裂纹，提高了显示面板的产品信赖性测试的效率，提高了其生产效率。具体地，在显示面板测试时候，如果靠近挖孔区da的测试导线31不能工作，则证明了由于挖孔区da产生的切割应力已经在挖孔区da周边产生了应力裂纹，如果靠近显示区aa的测试导线31不能工作，则证明切割应力已经延伸到显示面板的显示区aa，影响了显示面板的质量。也就是说，只要最外侧最靠近显示区aa的测试导线31能够工作，那么就证明了设置挖孔区da对显示面板的正常使用没有产生影响。
58.应当理解的是，关于第二导电层中包括的测试导线以及阻挡导线的方案不局限于上述示例性地方案，例如第二导电层可以只包括测试导线，每条测试导线设置在间隔设置的隔离柱上，或者阻挡导线设置有多条，测试导线也可以设置有大于两条，阻挡导线设置在相邻的两条测试导线之间，这些均可以根据产品的需求进行选择设计，在此就不做赘述。
59.在一些实施例中，缺口在垂直于基底的厚度方向上的截面形状为弧线型和/或折线型。在至少一个实施例中，缺口形成的爬坡角为30
°
～90
°
。缺口的形状以及爬坡角的设置增加了第一导电层爬过缺口的难度，从而高效地改善了第一导电层与测试导线搭接的问题。在至少一个实施例中，缺口在隔离柱的周向方向上连续或间隔设置。缺口可以兼顾不影响隔离柱的强度的同时隔断第一导电层，提高了显示面板的综合性能。
60.示例性地，如图9所示，在该显示面板中，相邻且间隔设置的第一隔离柱11和第二隔离柱12上分别设有位于衬底14上的缺口13，且设置在第一隔离柱11上的缺口13在垂直于基底10的厚度方向上的截面形状为弧线型，该弧线与衬底14所在平面之间的夹角为爬坡角α，设置在第二隔离柱12上的缺口13在垂直于基底10的厚度方向上的截面形状为折线型，该折线与衬底14所在平面之间的夹角为爬坡角α，爬坡角α为锐角，且大于等于30
°
小于等于90
°
。并且远离挖孔区da设置的第二隔离柱12上设置的缺口13是间隔设置的，靠近挖孔区da设置的第二隔离柱12，以及位于两个第二隔离柱12之间的第一隔离柱11上的缺口13是连续设置。
61.应理解的是，显示面板中缺口在基底厚度方向上的截面图不局限于上述示例性的结构，还可以是其他的形状例如倒“u”型，并且同一隔离柱上的缺口形状可以相等也可以不等，这些均可以根据实际生产工艺以及显示面板的功能需求进行设计，在此就不做赘述。
62.除了改善显示面板的黑斑问题能提高显示面板的质量外，在一些实施例中，测试导线和/或阻挡导线的侧壁上设有限位凹槽。限位凹槽的设计提高了在第一导电层背离基底的一些设置的新的膜层与第二导电层之间的牢固性，从而提高了显示面板的质量。在至少一个实施例中，测试导线和/或阻挡导线包括至少两层子金属层，至少两层子金属层的材料不同。在至少一个实施例中，测试导线和/或阻挡导线包括依次叠置的三层子金属层，限位凹槽设置在中间层的子金属层中。
63.示例性地，如图8和图10所示，测试导线31包括依次叠置的第一子金属层311、第二子金属层312和第三子金属层313，且第一子金属层311第三子金属层313的材料相同，例如采用钛材料制备，第二子金属层312的材料与二者不同，例如采用铝材料制备。铝材料的抗腐蚀能力小于钛材料抗腐蚀能力，因此在相同的腐蚀操作中，第一子金属层311和第三子金属层313的腐蚀程度相同，而第二子金属层312的腐蚀程度大于第一子金属层311和第三子金属层313的腐蚀程度，从而在测试导线31侧壁上形成了第一限位凹槽314。同理，阻挡导向包括依次叠置的第四子金属层321、第五子金属层322和第六子金属层323，第四子金属层321和第六子金属层323分别采用钛材料制备，第五子金属层322采用铝材料制备，利用了不同子金属层的抗腐蚀能力不同，在阻挡导线32的侧壁上形成了第二限位凹槽324。
64.在一些实施例中，显示面板还包括位于第一导电层背离基底一侧的封装层，封装层包括无机膜层，无机膜层填充于限位凹槽和/或缺口。封装层中的无机膜层填充测试导线和/或阻挡导线的限位凹槽和/或缺口，这不仅能够增强封装效果，更进一步阻止水氧入侵，提高该显示面板的抗水氧能力，还能通过限位凹槽的限位作用改善封装层的第二无机膜层与显示面板中的其他膜层中游离的离子，例如偏光片断面处发生泄漏的离子如钾离子、钠离子，发生电化学反应后容易脱落的问题，进而提高了显示面板的显示效果和使用寿命。
65.示例性地，如图6和图11所示，该显示面板还包括位于第一导电层20背离基底10的一侧的封装层40。该封装层40包括依次叠置的第一无机膜层41、有机膜层42和第二无机膜层43，并且第一无机膜层41填充第一限位凹槽314、第二限位凹槽324和第一个隔离柱和第二隔离柱12的侧壁上的缺口13。
66.在一些实施例中，如图6和图11所示，该显示面板还包括位于封装层40背离基底10的一侧偏光片50。在至少一个实施例中，该显示面板为柔性显示面板，在封装层40和偏光片50之间或者偏光片50背离封装层40的面上没有设置盖板，提高了偏光片50的柔性，进而提
高了显示面板的柔性。
67.本技术实施例还提供了一种显示装置。该显示装置包括上述实施例提供的任意一种的显示面板。
68.例如，本技术至少一个实施例提供的显示装置还包括用于实现触控的触控传感器、触控芯片以及柔性电路板。为了实现触控显示装置的轻薄化，触控传感器设置在封装层中，触控芯片设置在柔性电路板上，且通过触控信号线向触控传感器传输信号。
69.例如，本技术的实施例中的显示装置可以为电视、数码相机、手机、手表、平板电脑、笔记本电脑、导航仪、圆形穿戴产品等任何具有显示功能的产品或者部件。
70.以上所述，仅为本技术的具体实施方式，但本技术的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本技术揭露的技术范围内，可想到变化或替换，都应涵盖在本技术的保护范围之内。因此，本技术的保护范围应以权利要求的保护范围为准。