干涉形状测量的测量设备的制作方法

技术特征：
1.一种用于测试物的表面的干涉形状测量的测量设备，包括：-衍射式光学元件，用于从入射的测量辐射生成测试波，所述测试波被配置为辐射到所述测试物的表面上，-偏转元件，在所述测量辐射的束路径中所述衍射式光学元件的上游，以及-用于保持所述偏转元件的保持装置，其被配置为通过倾斜运动和平移运动的组合来改变所述偏转元件的位置。2.根据权利要求1所述的测量设备，其中，所述保持装置被配置为通过所述平移运动将所述偏转元件的位置移位至少2mm。3.根据权利要求1或2所述的测量设备，其中所述保持装置被配置为通过所述倾斜运动将所述偏转元件的倾斜位置改变至少2mrad。4.根据前述权利要求中的任一项所述的测量设备，其中所述保持装置包括用于执行所述倾斜运动的倾斜致动器、和用于执行所述平移运动的分离的位移致动器。5.根据前述权利要求中的任一项所述的测量设备，其中所述保持装置具有弯曲导轨。6.根据前述权利要求中的任一项所述的测量设备，其中所述倾斜运动和所述平移运动的组合通过相对于旋转轴线的旋转运动来实现，其中所述旋转轴线位于距所述偏转元件的几何质心至少2mm的距离处。7.根据权利要求6所述的测量设备，其中所述旋转轴线被布置为使得所述旋转轴线与束平面的交点设置在所述束平面中、相对于由所述入射测量辐射的方向矢量限定的辐照轴线在与所述衍射式光学元件的同一侧，所述束平面由辐射到所述偏转元件上的测量辐射的方向矢量和由所述偏转元件辐射的测量辐射的方向矢量跨越。8.根据权利要求7所述的测量设备，其中布置所述旋转轴线使得所述旋转轴线与所述束平面的交点布置在关于所述衍射式光学元件位于所述辐照轴线的相对侧的区域中，其中，在所述辐照轴线的方向上的区域具有所述衍射式光学元件距所述辐照轴线的距离的至多两倍的范围，并且具有在垂直于所述辐照轴线的方向上的距离的至多三倍的范围。9.根据权利要求8所述的测量设备，其中所述区域具有在所述辐照轴线和横向于所述辐照轴线的方向上的距离的至多1倍的范围。10.根据前述权利要求中的任一项所述的测量设备，其中所述保持装置包括用于实行至少一个旋转运动的至少一个致动器。11.根据前述权利要求中的任一项所述的测量设备，其中所述偏转元件包括偏转反射镜。12.根据权利要求1至10中任一项所述的测量设备，其中所述偏转元件包括棱镜。13.根据前述权利要求中的任一项所述的测量设备，
其具有干涉仪腔，并且所述偏转元件布置在所述干涉仪腔的外部。14.根据权利要求1至12中任一项所述的测量设备，其具有干涉仪腔，并且所述偏转元件布置在所述干涉仪腔内。15.一种用于测试物的相应表面的干涉形状测量方法，包括以下步骤：-通过偏转元件将测量辐射辐射到第一衍射式光学元件上以生成第一测试波，并且通过所述第一测试波干涉测量所述测试物中的第一个的表面形状，-通过倾斜运动和平移运动的组合改变所述偏转元件的位置，以及-通过位置已改变的偏转元件将所述测量辐射辐射到第二衍射式光学元件上以生成第二测试波，并通过所述第二测试波干涉测量所述测试物中第二个的表面形状。16.根据权利要求15所述的方法，其中，代替第一衍射式光学元件，在通过位置已经改变的所述偏转元件辐照所述测量辐射之前，所述第二衍射式光学元件布置在所述干涉测量设备中的测试波生成区段中。17.根据权利要求15或16所述的方法，其中，所述第二衍射式光学元件布置在偏离所述第一衍射式光学元件的旋转位置的旋转位置中。

技术总结
本发明涉及用于测试物(14-1；14-2)的表面(12)的干涉形状测量的测量设备(10)，该测量设备包括：衍射式光学元件(26-1；26-2)，用于从已经辐射进入的测量辐射(18)产生测试波(28)，该测试波被配置为辐射到测试物的表面上；偏转元件(22)，在测量辐射的束路径中衍射式光学元件的上游，以及用于保持偏转元件的保持装置(24，124)，该保持装置被配置为通过倾斜运动和平移运动的组合来改变偏转元件(22)的位置。运动的组合来改变偏转元件(22)的位置。运动的组合来改变偏转元件(22)的位置。


技术研发人员：J.赫茨勒
受保护的技术使用者：卡尔蔡司SMT有限责任公司
技术研发日：2021.02.12
技术公布日：2022/11/22