一种显示面板及显示装置的制作方法

1.本发明实施例涉及显示技术，尤其涉及一种显示面板及显示装置。


背景技术：

2.近年来，有机电致发光器件(oled，organic light-emitting diode)已经成为海内外非常热门的平板显示器产业，被喻为下一代的“明星”平板显示技术，这主要是因为oled具有自发光、广视角、反应时间快、发光效率高、面板厚度薄、可制作大尺寸与可弯曲式面板、制程简单、低成本等特点。随着显示技术的发展，全面屏几乎占据了消费品市场中很大的比例，并且成为开发方向的一个热门话题。例如屏下摄像头产品已经得到了应用。
3.此外，触摸屏技术已经逐渐取代按键技术成为移动终端等的主流技术。触摸屏技术是根据手指、笔等接触安装在显示装置前端的触摸屏时，所触摸的位置(以坐标的形式)被检测到并送到cpu，从而确定被输入的信息的一种技术。但对于屏下摄像头产品，摄像头的设置区域需要较高的透光率，现有技术中，一般直接去除摄像头设置区域及附近的触控电极，导致触控盲区较大。


技术实现要素：

4.本发明实施例提供一种显示面板及显示装置，该显示面板提供了一种触控功能层的设计，以提升显示面板的触控性能。
5.第一方面，本发明实施例提供一种显示面板，包括第一显示区和第二显示区，所述第二显示区包括多个非透光区和透光区，所述显示面板包括：
6.衬底基板；
7.多个发光元件，位于所述衬底基板的一侧；
8.触控功能层，位于所述发光元件远离所述衬底基板的一侧，所述触控功能层包括多个阵列排布的触控电极和多个虚设电极；
9.所述触控电极包括第一触控电极和第二触控电极，沿第一方向，多个所述第一触控电极电连接，所述第一触控电极包括沿所述第一方向延伸的第一主干电极，沿第二方向，多个所述第二触控电极电连接，所述第二触控电极包括沿所述第二方向延伸的第二主干电极，所述第一方向和所述第二方向交叉；
10.所述第二显示区在所述衬底基板的投影位于相邻两个沿所述第二方向排列的所述第一主干电极在所述衬底基板的投影之间，和/或所述第二显示区在所述衬底基板的投影位于相邻两个沿所述第一方向排列的所述第二主干电极的投影之间，所述第二显示区在所述衬底基板的投影与所述第一触控电极、所述第二触控电极、所述虚设电极中的至少一者在所述衬底基板的投影无交叠。
11.第二方面，本发明实施例还提供一种显示装置，包括上述的显示面板。
12.本发明实施例提供的显示面板，包括第一显示区和第二显示区，第二显示区包括多个非透光区和透光区，透光区可以透射外界光线，可以使屏下光感元件(例如摄像头)工
作；显示面板包括：衬底基板；多个发光元件，位于衬底基板的一侧；触控功能层，位于发光元件远离衬底基板的一侧，触控功能层包括多个阵列排布的触控电极和多个虚设电极；触控电极包括第一触控电极和第二触控电极，沿第一方向，多个第一触控电极电连接，第一触控电极包括沿第一方向延伸的第一主干电极，沿第二方向，多个第二触控电极电连接，第二触控电极包括沿第二方向延伸的第二主干电极，第一方向和第二方向交叉。通过设置第二显示区在衬底基板的投影位于相邻两个沿第二方向排列的第一主干电极在衬底基板的投影之间，和/或第二显示区在衬底基板的投影位于相邻两个沿第一方向排列的第二主干电极的投影之间，以避免去除在第二显示区和第二显示区周围的触控电极影响触控效果，通过设置第二显示区在衬底基板的投影与第一触控电极、第二触控电极、虚设电极中的至少一者在衬底基板的投影无交叠，以提升透光区的光线透过率，提高摄像头的成像质量，提升显示面板性能。
附图说明
13.图1为本发明实施例提供的一种显示面板的结构示意图；
14.图2～图4分别为本发明实施例提供的一种显示面板的局部结构示意图；
15.图5为本发明实施例提供的另一种显示面板的局部结构示意图；
16.图6～8分别为本发明实施例提供的又一种显示面板的局部结构示意图；
17.图9为沿图5中剖线a1a2的一种剖面结构示意图；
18.图10为沿图5中剖线b2b2的一种剖面结构示意图；
19.图11为本发明实施例提供的又一种显示面板的局部结构示意图；
20.图12为本发明实施例提供的一种第一显示区的剖面结构示意图；
21.图13为本发明实施例提供的一种第二显示区的剖面结构示意图；
22.图14为本发明实施例提供的另一种显示面板的结构示意图；
23.图15为本发明实施例提供的一种显示装置的结构示意图。
具体实施方式
24.下面结合附图和实施例对本发明作进一步的详细说明。可以理解的是，此处所描述的具体实施例仅仅用于解释本发明，而非对本发明的限定。另外还需要说明的是，为了便于描述，附图中仅示出了与本发明相关的部分而非全部结构。
25.在本发明实施例中使用的术语是仅仅出于描述特定实施例的目的，而非旨在限制本发明。需要注意的是，本发明实施例所描述的“上”、“下”、“左”、“右”等方位词是以附图所示的角度来进行描述的，不应理解为对本发明实施例的限定。此外在上下文中，还需要理解的是，当提到一个元件被形成在另一个元件“上”或“下”时，其不仅能够直接形成在另一个元件“上”或者“下”，也可以通过中间元件间接形成在另一元件“上”或者“下”。术语“第一”、“第二”等仅用于描述目的，并不表示任何顺序、数量或者重要性，而只是用来区分不同的组成部分。对于本领域的普通技术人员而言，可以根据具体情况理解上述术语在本发明中的具体含义。
26.屏下摄像头(camera under panel，cup或under display camera，udc)是一种新兴技术，该技术将摄像头隐藏于屏幕之下，不进行拍照摄像功能时摄像头区域能正常显示，
提高屏占比，实现真正全屏显示。由于摄像头在进行成像时对光线的要求比较高，而触控功能层一般会设置在发光元件的上方，为了提高屏下摄像头区域的光线透光率，现有产品在设计显示面板时会直接去除摄像头区域的触控电极，只在区域内设计连接线或者设计绕过该区域的绕线，直接去除触控电极可能会导致屏下摄像头区域及周边区域触控不灵敏甚至失去触控功能，影响显示面板的性能。
27.为了解决上述问题，本发明实施例提供一种显示面板，包括第一显示区和第二显示区，第二显示区包括多个非透光区和透光区，显示面板包括：衬底基板；多个发光元件，位于衬底基板的一侧；触控功能层，位于发光元件远离衬底基板的一侧，触控功能层包括多个阵列排布的触控电极和多个虚设电极；触控电极包括第一触控电极和第二触控电极，沿第一方向，多个第一触控电极电连接，第一触控电极包括沿第一方向延伸的第一主干电极，沿第二方向，多个第二触控电极电连接，第二触控电极包括沿第二方向延伸的第二主干电极，第一方向和第二方向交叉；第二显示区在衬底基板的投影位于相邻两个沿第二方向排列的第一主干电极在衬底基板的投影之间，和/或第二显示区在衬底基板的投影位于相邻两个沿第一方向排列的第二主干电极的投影之间，第二显示区在衬底基板的投影与第一触控电极、第二触控电极、虚设电极中的至少一者在衬底基板的投影无交叠。
28.其中，第二显示区为显示面板的光感元件设置区域，光感元件可以为摄像头。第一显示区为常规显示区域，第一显示区和第二显示区均包括多个发光元件，其中发光元件可以为oled，在具体实施时，为了提高第二显示区的光线透过率，可以设置第一显示区的像素密度大于第二显示区的像素密度，和/或第一显示区的发光元件的发光面积大于第二显示区的发光元件的面积，本发明实施例对此不作限定。第二显示区的非透光区用于设置发光元件和对应的像素电路，透光区用于透射外界光线。在另一实施例中，非透过区可以只设置发光元件，而对应的像素电路设置在第一显示区，以增大透光区的面积。衬底基板可以为柔性基板或者刚性基板，本发明实施例对此不作限定。本发明实施例提供的显示面板还包括触控功能层，用于实现触控功能。本实施例中，采用互电容的方式实现触控功能，触控功能层包括多个阵列排布的触控电极，触控电极包括第一触控电极和第二触控电极，其中一者为触控驱动电极，另一者为驱动感应电极，通过检测触控位置的电容变化实现定位。由于触控功能层覆盖显示区，第一触控电极和第二触控电极不是覆盖所有的显示区域，为了提升显示区的显示均匀性，触控功能层还包括多个虚设电极，虚设电极与固定电位(例如接地电位)连接或悬空设置。
29.示例性的，图1为本发明实施例提供的一种显示面板的结构示意图。参考图1，本发明实施例提供的显示面板包括第一显示区100和第二显示区200，第一显示区100为常规显示区，第二显示区200复用为光感元件设置区。第二显示区200包括非透光区201和多个透光区202，非透光区201与第一显示区100均设置有发光元件(图1中未示出)，以实现画面显示，透光区201可以透射外界光线，以被显示面板下方的光感元件接收。
30.在本实施例中，光感元件可以为摄像头，可选的，第二显示区200在衬底基板的投影为圆形。在其他实施例中，第二显示区200不限于包括一个，具体第二显示区的位置也不作具体限定，例如可以位于显示面板的左上角、右上角或者上侧中央位置等区域。
31.图2～图4分别为本发明实施例提供的一种显示面板的局部结构示意图。其中图2～图4示出了第二显示区200和部分第一显示区100的俯视图。参考图2～图4，触控功能层包
括多个阵列排布的触控电极300和多个虚设电极400，其中触控电极300用于实现触控功能，虚设电极400的形状、位置等根据具体触控电极300的结构设置，本发明实施例对此不作限定。触控电极300包括第一触控电极310和第二触控电极320，沿第一方向x，多个第一触控电极310电连接，第一触控电极310包括沿第一方向x延伸的第一主干电极311，沿第二方向y，多个第二触控电极320电连接，第二触控电极320包括沿第二方向y延伸的第二主干电极321，第一方向x和第二方向y交叉。参考图2，第二显示区200在衬底基板的投影位于相邻两个沿第二方向y排列的第一主干电极311在衬底基板的投影之间；参考图3，第二显示区200在衬底基板的投影位于相邻两个沿第一方向x排列的第二主干电极321的投影之间；参考图4，第二显示区200在衬底基板的投影位于相邻两个第一主干电极311之间，同时位于相邻两个第二主干电极321的投影之间，即位于两个第一主干电极311和第二主干电极321围成是四边形轮廓内。通过优化设计触控电极300和第二显示区200的位置关系，可以提升第二显示区200附近区域的触控性能。在具体实施时，为了提高第二显示区200的透光性能，本实施例中，设置第二显示区200在衬底基板的投影与第一触控电极310、第二触控电极320和虚设电极400中的至少一者在衬底基板的投影无交叠。例如图2示出的第二显示区200与第一主干电极311和虚设电极400无交叠，图3示出的第二显示区200与第二主干电极321和虚设电极400无交叠，具体实施时可以根据实际情况设计，本发明实施例对此不作限定。可选的，参考图4，第二显示区200在衬底基板的投影与第一触控电极310、第二触控电极320和虚设电极400在衬底基板的投影均无交叠，这样有利于提升第二显示区200的透光性能，提升摄像头的成像效果。
32.本发明实施例的技术方案，通过设置第二显示区在衬底基板的投影位于相邻两个沿第二方向排列的第一主干电极在衬底基板的投影之间，和/或第二显示区在衬底基板的投影位于相邻两个沿第一方向排列的第二主干电极的投影之间，以避免去除第二显示区和第二显示区周围的触控电极影响触控效果，通过设置第二显示区在衬底基板的投影与第一触控电极、第二触控电极、虚设电极中的至少一者在衬底基板的投影无交叠，以提升透光区的光线透过率，提高摄像头的成像质量，提升显示面板性能。
33.为了提升触控面板的触控精度，在设计触控电极的形状时，除了设计触控电极包括主干电极，还可以设计触控电极包括支电极。示例性的，图5为本发明实施例提供的另一种显示面板的局部结构示意图。参考图5，可选的，第一触控电极310包括至少一个第一支电极312，第一支电极312的至少一端与第一主干电极311连接，第一支电极312的延伸方向与第一方向x交叉；和/或第二触控电极320包括至少一个第二支电极322，第二支电极312的至少一端与第二主干电极321连接，第二支电极322的延伸方向与第二方向y交叉。
34.可以理解的是，图5中示例性示出第一触控电极310和第二触控电极320均包括对应的支电极，在其他实施例中，可以仅设置第一触控电极310或第二触控电极320包括支电极，例如可以设置只包括主干电极的相邻两个触控电极距离较近，以保证触控的精度和灵敏度，其中分支电极的形状仅是示意性的，具体实施时可以根据实际情况设计。
35.继续参考图5，可选的，第一支电极312包括沿第三方向a延伸的第一子支电极3121和沿第四方向b的第二子支电极3122，第一子支电极3121与第一主干电极311电连接和/或与第二子支电极3122电连接，第二子支电极3122与第一主干电极311电连接和/或第一子支电极3121电连接；第一方向x和第二方向y均与第三方向a交叉，第一方向x和第二方向y均与
第四方向b交叉；或者，第二支电极322包括沿第三方向a延伸的第三子支电极3221和沿第四方向b延伸的第四子支电极3222，第三子支电极3221与第二主干电极321电连接和/或与第四子支电极3222电连接，第四子支电极3222与第二主干电极321电连接和/或第三子支电极3221电连接，其中图5中仅示意性示出第三子支电极3221与第二主干电极321连接，第四子支电极3222与第二主干电极321连接，在其他实施例中，也可以设置第二支电极322的形状与第一支电极312类似，具体实施时可以根据实际情况设计。
36.可选的，继续参考图5，沿第四方向b，至少一组第一子支电极3121、第三子支电极3221和第一子支电极3121交替排布，如图5中与虚线箭头交叠的三个子支电极；或者至少一组第三子支电极3221、第一子支电极3121和第三子支电极3221交替排布(图5中未示出)；和/或沿第三方向a，至少一组第二子支电极3122、第四子支电极3222和第二子支电极3122交替排布，如图5中与实线箭头交叠的三个支电极；或者至少一组第四子支电极3222、第二子支电极3122和第四子支电极3222交替排布(图5中未示出)。
37.其中，虚设电极400设置于触控电极300的缝隙内，第一触控电极310、第二触控电极320和虚设电极400的图形相互绝缘嵌套，图5中示意性示出的是各个电极的形状，第一触控电极310、第二触控电极320和虚设电极400之间两两相互绝缘设置，通过合理设置第一触控电极310和第二触控电极320的形状，有利于形成第一触控电极310和第二触控电极320之间的电容，提高触控性能。在其他实施例中，具体支电极的形状和数量可以根据实际情况设计，本发明实施例对此不作限定。
38.可选的，沿垂直于衬底基板的方向，第二显示区的中心与相邻两个沿第二方向排列的第一主干电极中心连线的中心重合；和/或第二显示区的中心与相邻两个沿第一方向排列的第二主干电极中心连线的中心重合。
39.示例性的，图6～图8分别为本发明实施例提供的又一种显示面板的局部结构示意图。参考图6，第二显示区200的中心与第一主干电极311中心a与第一主干电极311中心b的连线ab的中心c重合；参考图7，第二显示区200的中心与第二主干电极321中心d和第二主干电极321中心e的连线de的中心f重合；参考图8，第二显示区200的中心与ab的中心c和de的中心f均重合。其中，本实施例所描述的“重合”指的是在工艺误差允许范围内的重合，通过合理设计第二显示区200与触控电极的位置关系，可以在保证第二显示区200的透光性的基础上提高触控性能。进一步的，继续参考图8，在具体实施时，可以设计第二显示区200的边缘与相邻的主干电极边缘相切，这样有利于定位第二显示区200的位置，可以在存在工艺误差导致位置错位时尽可能减少与主干电极的交叠面积。
40.图9为沿图5中剖线a1a2的一种剖面结构示意图，图10为沿图5中剖线b1b2的一种剖面结构示意图。其中图9和图10示出了触控功能层的结构，参考图9，可选的，触控功能层包括第一导电层501；第一导电层501包括第一主干电极311、第二主干电极321和虚设电极400。参考图10，可选的，触控功能层还包括第二导电层502和第一绝缘层503，第一绝缘层503位于第一导电层501和第二导电层502之间；第二导电层502包括相邻两个第一触控电极(相邻两个第一主干电极311)之间的连接线。
41.可以理解的是，本实施例中，触控功能层的大部分结构均位于第一导电层501，其中为了避免第一触控电极和第二触控电极连接，设计第一主电极311为多个分离结构，然后通过位于第二导电层502的跨桥结构电连接，在另一实施例中，也可以设置第二主电极321
为分离结构，在第二导电层502设计两个第二主电极321的跨桥。
42.在具体实施时，可选的，第一导电层还包括至少一个第一支电极312(例如图5所示的结构)，第一支电极312的至少一端与第一主干电极311连接，第一支电极312的延伸方向与第一方向交叉；和/或第二触控电极包括至少一个第二支电极322，第二支电极322的至少一端与第二主干电极322连接，第二支电极322的延伸方向与第二方向交叉。第一支电极312和第二支电极322的形状可以根据实际情况设计，本发明实施例不作限定。
43.在某一实施例中，触控电极可以利用网状结构的金属走线形成，即metal mesh结构，可选的，第一导电层包括多条网状结构的金属走线，沿垂直于衬底基板的方向，金属走线与第二显示区无交叠。由于金属走线一般设置在像素定义层的非开口区，此位置正好对应显示面板设计透光区的位置，通过设置金属走线与第二显示区无交叠，有利于增大透光区面积，提高第二显示区的光线透过率，提高摄像头的成像效果。
44.在另一实施例中，可选的，第一导电层包括透明导电层，沿垂直于衬底基板的方向，透明导电层与第二显示区无交叠。
45.其中，触控功能层可以利用透明导电层(例如氧化铟锡ito)形成，由于透明导电层对光线的透过率也具有一定的影响，而第二显示区对光线透过率的要求较高，通过设置透明导电层与第二显示区无交叠，可以提高第二显示区的光线透过率，提高摄像头的成像效果。
46.继续参考图5和图10，可选的，沿第一方向x，第一触控电极310包括多个分离的第一主干电极311，沿第一方向x相邻两个第一主干电极311通过位于第二导电层502的连接线电连接，多个电连接的第一主干电极311组成第一主干电极组313，多个第一主干电极组313沿第二方向y排布；沿第二方向y，第二触控电极320包括一体设置的第二主干电极311，多个第二主干电极321沿第一方向x排布；多个第一主干电极组300和多个第二主干电极321交叉形成网状结构，第二显示区200在衬底基板的投影位于网状结构的一个网孔在衬底基板的投影内。
47.通过设置第二显示区200位于网状结构的网孔结构内，可以保证第二显示区200的四周设置有触控电极，从而保证第二显示区200周围区域触控功能正常，通过去除与第二显示区200交叠区域的触控电极以及虚设电极，从而在保证第二显示区200周围触控功能稳定的情况下，提升第二显示区200的光线透过率，提高摄像头的成像效果。
48.图11为本发明实施例提供的又一种显示面板的局部结构示意图。参考图11，可选的，位于第一显示区且与第二显示区200不相邻的第一触控电极310a为对称图形，即第一触控电极310a关于其对应的第一主干电极311a的轴线对称；位于第一显示区且与第二显示区200不相邻的第二触控电极320a为对称图形，即第二触控电极320a关于其对应的第二主干电极321a的轴线对称；与第二显示区200相邻的第一触控电极310b为非对称图形，即第一触控电极310b关于其对应的第一主干电极311b不对称，与第二显示区200相邻的第二触控电极320b为非对称图形，即第二触控电极320b关于其对应的第二主干电极321b不对称。
49.可以理解的是，本实施例的技术方案，去除了第二显示区200位置处对应的触控电极以及虚设电极，因此与第二显示区200相邻的触控电极为非对称图形，具体实施时，可以去除部分与第二显示区200对应的支电极，即设计部分触控电极包括部分分支缺失的部分。继续参考图11，可选的，与第二显示区200相邻的第一触控电极310b包括第三支电极312a和
第四支电极312b，第三支电极312a位于第一主干电极311b靠近第二显示区200的一侧，第四支电极312b位于第一主干电极311b远离第二显示区200的一侧，第三支电极312a与第四支电极312b为关于第一主干电极311b的非对称结构；与第二显示区200相邻的第二触控电极320b包括第五支电极322a和第六支电极322b，第五支电极322a位于第二主干电极321b靠近第二显示区200的一侧，第六支电极322b位于第二主干电极321b远离第二显示区200的一侧，第五支电极322a与第六支电极322b为关于第二主干电极321b的非对称结构。
50.通过以上设置，可以保证第二显示区200周围区域的触控性能。
51.继续参考图11，可选的，与第二显示区200相邻的两个第一触控电极(第二显示区200上方的第一触控电极和下方的第一触控电极)的面积相等，和/或与第二显示区200相邻的两个第二触控电极(第二显示区200左侧的第二触控电极和右侧的第二触控电极)的面积相等。
52.通过设置两个第一触控电极和两个第二触控电极的面积相等，可以使第一触控电极和第二触控电极缺失的支电极面积基本一致，减小由于触控面积差异导致的电容不均匀的影响，提升显示面板的触控性能。
53.可选的，显示面板还包括沿远离衬底基板方向依次层叠的第一电极层、发光层和第二电极层；第一电极层包括多个与发光元件对应的第一电极，在第二显示区内，第二电极层包括图案化的第二电极，第二电极包括多个与透光区对应的开口。
54.图12为本发明实施例提供的一种第一显示区的剖面结构示意图。参考图12，该显示面板包括衬底基板10；其中，衬底基板10可以是柔性的，因而可伸展、可折叠、可弯曲或可卷曲，使得显示面板可以是可伸展的、可折叠的、可弯曲的或可卷曲的。衬底基板10可以由具有柔性的任意合适的绝缘材料形成。衬底基板10可用于阻挡氧和湿气，防止湿气或杂质通过衬底基板10扩散，并且在衬底基板10的上表面可形成平坦的表面。例如，可以由聚酰亚胺(pi)、聚碳酸酯(pc)、聚醚砜(pes)、聚对苯二甲酸乙二醇酯(pet)、聚萘二甲酸乙二醇酯(pen)、多芳基化合物(par)或玻璃纤维增强塑料(frp)等聚合物材料形成，衬底基板10可以是透明的、半透明的或不透明的。可选的，显示面板还可以包括位于衬底基板10上的缓冲层(图12中未示出)，缓冲层可以覆盖衬底基板10的整个上表面。衬底基板10也可以为刚性的，例如可以是玻璃基板，从而形成刚性的显示面板。
55.位于衬底基板10一侧的像素电路层20；具体的像素电路层20位于衬底基板10朝向显示面板显示面或触摸表面的一侧。像素电路层20可以包括多个薄膜晶体管21(thin film transistor，tft)以及由薄膜晶体管21构成的像素电路，用于驱动显示层中的发光元件。示例性的，本实施例以顶栅型的薄膜晶体管为例进行的结构说明。薄膜晶体管层21包括：位于衬底基板10上的有源层211；有源层211可以是非晶硅材料、多晶硅材料或金属氧化物材料等。其中有源层211采用多晶硅材料时可以采用低温非晶硅技术形成，即将非晶硅材料通过激光熔融形成多晶硅材料。在某一实施例中，可选的，像素电路层21包括多个薄膜晶体管21，薄膜晶体管21包括基于低温多晶硅的薄膜晶体管和基于金属氧化物半导体的薄膜晶体管。其中氧化物半导体可以包括铟镓锌氧化物igzo，igzo相比于ltps有透过率高、电子迁移率低、开关比大和功耗低等特点，利用两种晶体管形成的像素电路具有更好的性能。此外，还可以利用诸如快速热退火(rta)法、固相结晶(spc)法、准分子激光退火(ela)法、金属诱导结晶(mic)法、金属诱导横向结晶(milc)法或连续横向固化(sls)法等各种方法。有源层
211还包括通过掺杂n型杂质离子或p型杂质离子而形成的源极区域和漏极区域，在源极区域和漏极区域之间形成沟道区域。像素电路层20还包括位于有源层211上的栅极绝缘层212；栅极绝缘层212包括诸如氧化硅、氮化硅的无机层，并且可以包括单层或多个层。薄膜晶体管层21还包括位于栅极绝缘层212上的栅极213；栅极213可以包括金(au)、银(ag)、铜(cu)、镍(ni)、铂(pt)、钯(pd)、铝(al)、钼(mo)或铬(cr)的单层或多层，或者诸如铝(al)：钕(nd)合金或钼(mo)：钨(w)合金，具体实施时可以根据实际情况选择。像素电路层20还包括位于栅极213上的层间绝缘层214；层间绝缘层214可以包括无机材料或有机材料。无机材料可以包括从氮化硅、氮化铝、氮化锆、氮化钛、氮化铪、氮化钽、氧化硅、氧化铝、氧化钛、氧化锡、氧化铈和氮氧化硅中选择的至少一种。有机材料可以包括从丙烯酸类树脂、甲基丙烯酸类树脂、聚异戊二烯、乙烯基类树脂、环氧类树脂、氨基甲酸乙酯类树脂、纤维素类树脂和苝类树脂中选择的至少一种。薄膜晶体管层21还包括位于层间绝缘层214上的源电极2151和漏电极2152。源电极2151和漏电极2152分别通过接触孔电连接到源极区域和漏极区域，接触孔可以是通过选择性地去除栅极绝缘层212和层间绝缘层214而形成的。
56.像素电路层20还可以包括钝化层22。可选的，钝化层22位于薄膜晶体管21的源电极2151和漏电极2152上。钝化层22可以由氧化硅或氮化硅等的无机材料形成，也可以由有机材料形成。显示面板还可以包括平坦化层23。可选的，平坦化层23位于钝化层22上。平坦化层23可以包括亚克力、聚酰亚胺(pi)或苯并环丁烯(bcb)等的有机材料，平坦化层23具有平坦化作用。
57.位于像素电路层20背离衬底基板10一侧的显示层30，显示层30包括多个发光元件31。可选的，显示层30位于平坦化层23上。显示层30包括沿远离衬底基板10的方向依次设置的第一电极层301、发光层302以及第二电极层303。第一电极层301可以由各种导电材料形成。例如，第一电极层301可以为阳极层，可以根据它的用途形成为透明电极或反射电极。当阳极形成为透明电极时，可以包括氧化铟锡(ito)、氧化铟锌(izo)、氧化锌(zno)或氧化铟(in2o3)等，当阳极形成为反射电极时，反射层可以由银(ag)、镁(mg)、铝(al)、铂(pt)、钯(pd)、金(au)、镍(ni)、钕(nd)、铱(ir)、铬(cr)或者它们的混合物形成，并且ito、izo、zno或in2o3等可以形成在该反射层上。发光层302可以包括低分子材料或高分子材料。当发光层302包括低分子材料时，发光层302可以包括发射层(eml)，并且还可以包括空穴注入层(hil)、空穴传输层(htl)、电子传输层(etl)和电子注入层(eil)中的至少一个。发光层302可以包括各种有机材料，例如，铜酞菁(cupc)、n,n'-二(萘-1-基)-n,n'-二苯基-联苯胺(npb)或三-8-羟基喹啉-铝(alq3)等。发光层302可以通过气相沉积来形成。
58.当发光层302包括高分子材料时，发光层302可以包括htl和eml。htl可以包括pedot，eml可以包括聚苯撑乙烯撑(ppv)类和聚芴类高分子材料。发光层302可以通过丝网印刷、喷墨印刷或激光诱导热成像(liti)等来形成。
59.然而，发光层302不限于上面的示例。发光层302可以包括横跨多个第一电极层301的单层或相对于第一电极层301中的每个被图案化的多个层。显示层30还包括位于第一电极层301远离像素电路层20一侧的像素定义层32。像素定义层32可以由诸如聚酰亚胺(pi)、聚酰胺、苯并环丁烯(bcb)、压克力树脂或酚醛树脂等的有机材料形成，或由诸如sinx的无机材料形成。当第二电极层303(阴极层)形成为透明电极时，具有诸如锂(li)、钙(ca)、氟化锂/钙(lif/ca)、氟化锂/铝(lif/al)、铝(al)、镁(mg)或它们的组合的功函数小的化合物可
以通过蒸发初始沉积在发光层上，并且诸如ito、izo、zno或in2o3等的透明电极形成材料可以沉积在该化合物上。当阴极形成为反射电极时，可以通过在基板的整个表面上使li、ca、lif/ca、lif/al、al、mg或它们的混合物蒸发来形成阴极。
60.可选的，第一电极层301包括多个与像素一一对应的阳极图案，第一电极层301中的阳极图案通过平坦化层23上的过孔与薄膜晶体管21的源电极2151或漏电极2152连接。像素定义层32包括多个暴露第一电极层301的开口，并且像素定义层32可以覆盖第一电极层301图案的边缘。发光层302至少部分填充在像素定义层32的开口内，并与第一电极层301接触。
61.可选的，每个像素定义层32的开口所限定的第一电极层301、发光层302以及第二电极层303组成发光元件31(即图12中虚线框内所示)，每个发光元件31根据不同的发光层302能够发出不同颜色的光线，每个发光元件31构成一个子像素，多个子像素共同进行画面的显示。
62.可选的，显示面板还包括位于显示层30上的封装层40并完全覆盖显示层30，以密封显示层30。其中，为了实现显示层30的平坦化，显示层30上方还设置有平坦化层33。可选的，封装层40可以为薄膜封装层，位于平坦化层33上，包括沿远离衬底基板10的方向依次设置的第一无机封装层、有机封装层以及第二无机封装层(图12中未示出封装层40的具体膜层)，用于避免水氧腐蚀发光元件31。当然，在本发明其他可选实施例中，封装层40根据需要可以包括任意数量层叠的有机材料和无机材料，但至少包括一层有机材料和至少一层无机材料交替沉积，且最下层与最上层为无机材料构成。
63.显示面板还包括位于封装层40上的触控功能层50，触控功能层50包括多个触控电极，用于实现触控功能，触控功能层50的具体结构参见上述实施例，此处不再详述。
64.显示面板还包括位于触控功能层50上的保护层60。可选的，保护层60为显示面板最外侧的一层膜层，可以为保护盖板或保护膜。保护层60可以通过光学透明胶oca(optically clear adhesive)与相邻的显示面板内部的膜层粘合，保护层60的表面为显示面板触控的操作面。在其他实施例中保护层60下方还可以设置色阻层，具体实施时可以根据实际情况设计。
65.参考图12，对于第一显示区，其不包括透光区的结构，因此第二电极层303一般为整层的半透明膜层。为了提高第二显示区透光区的光线透过率，可选的，在第二显示区内，第二电极层包括图案化的第二电极，第二电极层包括多个与透光区对应的开口。
66.示例性的，图13为本发明实施例提供的一种第二显示区的剖面结构示意图。参考图13，通过在第二电极层303设计与透光区对应的开口304，可以进一步提升透光区的光线透过率。
67.图14为本发明实施例提供的另一种显示面板的结构示意图。参考图14，可选的，显示面板还包括第三显示区500，第三显示区500围绕第二显示区200设置，且第三显示区500位于第一显示区100和第二显示区200之间；在第三显示区500内，第二电极层一体设置。
68.可以理解的是，由于一般设置第一显示区100和第二显示区200中的像素密度和/或发光元件的面积不同，为了提升显示面板的显示效果，可以在第一显示区100和第二显示区200之间设置用于过渡的第三显示区500，其中第三显示区500的像素密度和/或发光元件的面积位于第一显示区100和第二显示区200之间，还可以形成渐变以提升显示效果。
69.本实施例中，第三显示区500为过渡区，其不具备透光性，因此第三显示区500可以设置触控电极也可以不设置触控电极。在某一实施例中，可选的，第三显示区在衬底基板的投影与第一触控电极、第二触控电极、虚设电极中的至少一者在衬底基板的投影无交叠。具体实施时，可以设置第三显示区在衬底基板的投影与第一触控电极、第二触控电极和虚设电极均无交叠，即第三显示区500无触控功能，这样可以使电极去除的面积较大，有利于降低工艺难度。
70.在另一实施例中，也可以设置第三显示区具备触控功能，以减小触控盲区的面积。可选的，第三显示区在衬底基板的投影与第一触控电极、第二触控电极、虚设电极中的至少一者在衬底基板的投影至少部分交叠。
71.由于虚设电极的形状、大小的设计自由度较大，第三显示区的面积较小，在另一实施例中，可选的，第三显示区在衬底基板的投影与第一触控电极和第二触控电极在衬底基板的投影无交叠，与虚设电极在衬底基板的投影至少部分交叠，具体实施时可以根据实际情况设计，本发明实施例对此不作限定。
72.图15为本发明实施例提供的一种显示装置的结构示意图。参考图15，该显示装置1包括本发明实施例提供的任意一种显示面板2。该显示装置1具体可以为手机、电脑以及智能可穿戴设备等。
73.注意，上述仅为本发明的较佳实施例及所运用技术原理。本领域技术人员会理解，本发明不限于这里所述的特定实施例，对本领域技术人员来说能够进行各种明显的变化、重新调整、相互结合和替代而不会脱离本发明的保护范围。因此，虽然通过以上实施例对本发明进行了较为详细的说明，但是本发明不仅仅限于以上实施例，在不脱离本发明构思的情况下，还可以包括更多其他等效实施例，而本发明的范围由所附的权利要求范围决定。