移动的消毒装置及使用方法与流程

1.本发明总体上涉及一种用于在人存在的情况下使用辐照对污染表面进行消毒的移动装置和方法。


背景技术：

2.通常，微生物菌落可通过功率足够的uv辐照进行处理。然而，这种处理遇到两种主要挑战：第一种挑战是在人存在的情况下的安全性，第二种挑战是在存在构成uv屏障(湿气和灰尘两者)的湿气和灰尘颗粒以及存在用于微生物生长和向前传播(主要针对湿气)的支持环境的情况下的功效。
3.目前的情况如下：a)典型的安全方法是避免在人存在的情况下使用强烈的uv辐照；b)典型的清洁方法是使用水，因为水可以有效地去除污垢和灰尘颗粒—但是，水也可以被处理过的表面(例如地板)吸收；c)无水真空清洁机可以在不施加水的情况下去除污垢和灰尘；然而，它归因于气载灰尘和微生物的传播，并且可能甚至更多地增大疾病散布。
4.因此，长期需要提供一种用于在人存在的情况下使用强烈的uv辐照的器件，同时确保去除湿气和灰尘以允许对污染表面进行有效消毒。
5.用于使用uv辐照对表面进行消毒的移动装置已知为用于防止辐照到达附近人员的装置。这些装置中的许多装置呈手推车的形式，所述手推车沿着待清洁的表面被手动或自动地传送，并且具有用于防止辐照泄漏的屏蔽件。
6.us2019134242参考其图9公开了一种机器人，该机器人包括壳体和呈连续轨道形式的推进系统，所述连续轨道使得机器人能够在整个房间的不同地形上行进。可替代地，推进系统可包括轮和空气/流体囊(例如，气垫运载工具)。机器人可包括抽吸(真空)端口、织物附接垫和连接到壳体的底表面的喷洒喷嘴，其与光源联合操作以对地板进行清洁和消毒。既没有建议也没有规定用来防止壳体的底表面和地板表面之间的辐照泄漏。这妨碍了机器人在对人交通来说开放的区域中的使用，这是因为uv辐照的泄漏将对附近的人造成危害。


技术实现要素：

7.本发明的主要目的是提供一种在人存在的情况下用于安全辐照消毒的移动装置。根据本发明的广泛方面，该目的通过一种移动的消毒装置来实现，该消毒装置包括：
8.消毒室，所述消毒室连接到推进系统，所述推进系统构造为沿着待消毒表面移动，
9.所述消毒室限定了封闭的上端、开放的下端和环绕壁，所述环绕壁具有相对的前部部分和后部部分以及相对的侧部部分，环绕壁的相应的下部的前边缘、后边缘和侧边缘由在待消毒表面上方的推进系统推进，和
10.辐照源，所述辐照源安装在消毒室内，用于通过开放的下端辐照所述待消毒表面；
11.消毒室的环绕壁限定了不透辐照的外周屏蔽件；并且
12.所述推进系统包括周边密封件，所述周边密封件环绕所述环绕壁的近侧边缘并且
构造成阻挡否则可能从消毒室内部逃逸出的辐照。
13.根据一些实施例，该消毒装置包括用于去除湿气和灰尘以允许对污染表面进行改进的消毒的器件。
14.在一些实施例中，消毒室的环绕壁的下边缘设置有密封唇，密封唇可被控制以关闭可在下边缘和正被消毒的表面之间形成的气隙。
15.在一些实施例中，设置在至少一个传感器，所述至少一个传感器构造为确定异常行为(例如，装置倾斜或晃动)，从而指示可能的安全隐患，并且至少间接地通过电方式或通过阻断uv源的遮蔽机构来停止uv辐照。
16.根据本发明的装置和方法完全适用于手动操作的机器以及在人存在的情况下动作的自主系统(机器人)。
17.如本文所使用的术语“自主”或“自动”是指在没有人为干预的情况下可执行的过程或动作。对于非限制性的示例，在自主清洁和消毒中，该消毒装置控制该过程的所有方面。
18.应当理解的是，本文所使用的对清洁和消毒的任何参考可以指手动控制、半自动控制或全自动控制。
附图说明
19.为了更好地理解本发明及其在实践中的实施，现在将参考附图仅通过非限制性示例来描述多个实施例，其中
20.图1示出了装置的示意性实施例；
21.图2示出了安全机构的示意性实施例；
22.图3示出了装置的外部实施例；
23.图4示出了装置的底部部分；
24.图5示出了装置的透视截面图；
25.图6示出了装置的侧视截面图；
26.图7示出了在没有盖子的情况下装置的上侧；
27.图8示出了装置的仰视图；
28.图9示出了装置在轨道区域处的截面图；
29.图10示出了示意性的往复唇自消毒机构；
30.图11示出了方法的流程图；
31.图12是具有双uv屏障的系统的前视截面图；
32.图13a-13d是具有浮动的轨道-屏障机构的系统的视图；
33.图14是具有真空单元的系统的透视图；
34.图15a和图15b是真空单元及其空气流动管线的视图；
35.图16是具有led装置的系统的仰视图；以及
36.图17a和图17b分别示出了用于澄清本发明工作原理的装置的示意性侧视立面图和端视立面图。
具体实施方式
37.图1和图2示意性地示出了根据本发明实施例的移动的消毒装置200。该消毒装置分为两个主要部段：(i)下部部分202，其包括消毒室203和相关硬件，和(ii)上部舱室204，其承载诸如电池214等的辅助部件。消毒室203由推进系统228(图9)沿着待消毒表面236传送，同时防止辐照通过消毒室203的壁泄漏，消毒室203由不透辐照并且起外周屏蔽件207作用的材料形成。
38.消毒室203限定了封闭的上端205、开放的下端206(图4和图5)和环绕壁207，该环绕壁具有相对的前部部分和后部部分以及相对的侧部部分。环绕壁207的相应的下部的前边缘、后边缘和侧边缘由推进系统支撑在待消毒表面上方，典型地留有微小的气隙，以减小消毒室203和表面236之间的摩擦接触。一个或多个辐照源260安装在消毒室内部，用于通过开放的下端206辐照待消毒表面236。为了有效地消毒，常常使用uv辐照，然后或者需要如在已知系统中通常所做那样地在人存在的情况下禁用辐照源；或者防止uv辐照泄漏，使得即使当人位于消毒装置附近时，仍然可以使用消毒装置。
39.为此，消毒室的环绕壁207限定了不透辐照的外周屏蔽件，并且推进系统228构造成阻挡否则可能在环绕壁207的下边缘处从消毒室内部逃逸出的辐照。推进系统228可以包括一对相互平行的前辊和后辊232，其相应的外表面构造成阻挡否则可能从消毒室内部逃逸出的辐照。该推进系统还包括一对带233，每条带均在前辊和后辊的相对端部处与前辊和后辊重叠，并且构造成阻挡否则可能从消毒室内部逃逸出的辐照。推进系统构造为驱动所述带，以沿着所述待消毒表面传送所述消毒装置，同时抑制辐照通过可能在所述待消毒表面和所述消毒室的下边缘之间形成的任何间隙泄漏。
40.在图17a和图17b中可以更清楚地看到这些特征，其实际上示意性地示出了根据下面参照图12所述的不同实施例的消毒装置的侧视立面图和端视立面图，其中消毒室包括主要的外室和辅助的内室，以提供附加的密封。然而，对于两个实施例而言，推进系统阻挡辐照的方式是相同的。因此，参照图17a，在此期间忽略以虚线轮廓示出的内室300，可以看出，推进系统228将消毒室的下边缘稍微升高到待消毒表面236以上，从而形成气隙231，可想象到地，辐照可能通过气隙231泄漏并暴露给附近的人。然而，辊的外表面用作这种辐照的阻碍物，从而防止或至少非常显著地减小在消毒装置的行进方向上的辐照泄漏。类似地，图17b示出带233用作否则可能通过待消毒表面236和消毒室的下侧边缘之间的气隙231泄漏的辐照的阻挡物。
41.当然，气隙231的大小取决于前辊和后辊232的直径和它们的轴所位于的距消毒室的下边缘的高度。在优选实施例中，几何形状使得存留小的气隙，使得当所述消毒装置行进时，所述消毒室的下边缘升高到所述待消毒表面以上，以避免摩擦接触并且因而促进所述消毒装置的运动。但是，本发明并不认为辊的尺寸和位置被设定为基本上不留有间隙。即使在这种情况下，沿着正被消毒表面的凸起会导致装消毒置倾斜，从而在待消毒表面和消毒室的至少一个下边缘之间产生间隙。然而，同样在这种情况下，辐照泄漏将被辊的外表面和带阻挡。
42.回到图1和图2，虽然仅示意性地看到，由消毒室203的侧壁构成的外周屏蔽件207在其下边缘处具有可调节的密封唇215，密封唇与承载消毒装置的表面236形成暗的捕获空间234。密封唇215可由控制器237调节，以实现与所述表面236的最小摩擦接触，同时有效地
封闭所述表面和消毒室侧壁的下边缘之间的间隙，从而防止uv辐照的泄漏。在本说明书中，“暗的”的含义是没有uv光被散射出去并且没有可见光穿过其中。至少一个闭环真空灰尘清洁单元242由舱室204承载，其具有与捕获空间234相接的一个或多个空气入口开口244和一个或多个空气出口开口246(也在图9中示出)。真空灰尘清洁单元242具有由电马达250驱动的至少一个鼓风机248。在图1中，控制器237示意性地显示为联接到uv源电子器件212，但是应意识到的是，诸如鼓风机248和电马达250的其它部件也由控制器237控制。鼓风机248以闭合环路将从捕获空间234吸来的空气循环通过一个或多个入口开口244、经由一个或多个旋风式灰尘分离器252(也参见图7)和经由热交换部段217、并经由一个或多个空气出口开口246将空气排回到捕获空间234中。捕获空间234通过外周屏蔽件(图9)与周围环境隔离，以避免uv辐照262散射出去并且控制来自空气出口开口246的排出空气从捕获空间234向消毒装置的周围环境的空气泄漏。
43.热交换部段217将由装置元件产生的热218传递到循环空气，从而升高空气温度并促进从表面236去除湿气，所述装置元件诸如是马达208和250、驱动器210，电池214、uv源电子器件212以及装置上的可能任何其它热源。
44.应当清楚的是，图1中的热交换部段217仅用于说明的目的—该热交换部段可以集中在单个位置处(如图1所示)，或者其可以沿气流路径被分开到多个位置。当热交换器被分开时，可能的热交换位置可以是但不限于：在马达250主体处，通过热交换翅片(马达必须被定位成与气流成直线，如图1所示)；在旋风式灰尘分离器252外壳处，其具有针对旋风式灰尘分离器内部的气流显著大的热交换面积(为此，旋风式灰尘分离器的主体应当由诸如金属的传导材料形成)；在消毒室203处，如图3-9所示，消毒室最有可能是用于消毒装置中的许多发热部件的方便地点；在uv源260附近，经由uv源260引导排出的空气。
45.需要将消毒装置200及其部件的热能传送到循环空气中，并且需要促进从表面236去除湿气，也需要防止不希望的热从消毒装置200及其部件传递到周围环境。这可以通过对消毒装置200及其外部部件施加隔热件(未示出)来实现。商购隔热件的方案是众所周知的并且因此没有进一步详细描述。所述隔热件还可以构造为抑制消毒装置的噪声特征，以便最小化对消毒装置附近(例如，在医院和公共设施中)的人的干扰。
46.应当注意的是，uv辐照源260通过以其集中或分开形式利用热交换部段217并且通过应用如上所述的隔热件与不间断的能量再循环相结合，可以产生uv和极端温度升高的组合攻击效应，它们可一起增大杀死微生物的可能性。
47.再循环该消毒装置200的热能218并应用如上所述的隔热件的另一个可推断出的特征是噪声特征的降低。如在公共设施(例如，医院)中可能发生的那样，该特征在人存在的情况下尤其重要。
48.为了经由密封唇215控制空气温度和泄漏方向，真空单元242构造成将已流过旋风器252的空气中的一些空气引导到排放空气排出部264子通道中(也在图3中示出)。这允许将捕获空间234内的空气温度控制在期望水平，并将捕获空间234内的空气压力保持成低于周围环境的压力。排放空气排出部264可以优选地由被电马达268驱动并被控制器237控制的鼓风机266控制，或者简单地由排放管喷嘴270的尺寸控制。排放管喷嘴270的尺寸可以是固定的或可变的(未示出)。
49.为了确保排放通道的空气不受任何类型污染影响，排放空气排出部264的出口可
以至少间接地连接到uv消毒室272(仅在图1中示出)，从而确保在最终排放到周围大气中之前由第二uv源274对排放空气消毒。
50.为了进一步澄清安全机构的原理，在图2中示出了该安全机构的简化示意图。监测从捕获空间234逃逸的散射的uv辐照262经由密封唇215到达周围大气，至少一个光传感器280联接到捕获空间234的内部结构，以监视经由外周屏蔽件207及其密封唇215透到捕获空间234中的可见光光谱外部光。该至少一个光传感器280连接到控制器237，并且构造为感测从周围环境透到捕获空间234中的可见光光谱中的光。在正常操作条件下，当外周屏蔽件207的密封唇215紧密接触表面236时，捕获空间234的内部应当是完全暗的，并且一个或多个光传感器280应当指示接近零的可见光光谱能量。可以假定，从消毒装置200外部透到捕获空间234中的可见光与从捕获空间234经由外周屏蔽件207和经由其密封唇215向周围环境散射出去的uv辐照大致成正比。为了支持光传感器280在暗或接近暗的环境中的功能，可将可见光光谱光源(例如，led或灯泡)282附接到消毒装置200外壳的外部，以提供补充光能222，从而减小对外部光条件的依赖。可替代地，可以使用红外光，因此在本发明和所附的权利要求书的上下文中，只要术语“可见的”与“可见光”或“可见光光谱”联合使用，应当理解的是，这包括红外光。每当达到预定的安全标准时，光传感器280和辅助的可见光光谱光源282与消毒装置200的控制器237相接，以控制uv源260的功率和关闭辐照源260。提供冗余安全水平的另一种安全机制是至少一个角度传感器(未示出)，其构造为确定消毒装置相对于表面236的角度，并提供用于陡的角度梯度的指示，其可以是外部物理干预的证据。
51.图1的消毒装置200可以通过臂(人工的或由人推动的)或者通过推进系统在各种表面236上被驱动，各种表面具有水平取向或竖直取向或实际上相对于水平倾斜，推进系统包括一体的移动的密封元件(诸如一对辊232)，这两个辊都能够密封在密封唇215与表面236之间的间隙，并且每当该表面不接触密封唇215时，在典型地为水平的表面236上推进消毒装置。如图3至图9以及图17a和图17b所示和如上所述，移动的密封元件也可以是轨道230，包括带233、轮(图13b)和屏蔽件。
52.如图1和图2所示，利用轨道230和辊232可允许用自消毒元件替换简化的密封唇215。自消毒是非常期望的，以避免微生物从表面236传播到建筑物的其它区域。在消毒装置200的移动和操作期间，轨道230和辊232接触表面236(图6)，并且在与表面236接触之后，周期性地暴露于uv源260的辐照中。这种周期性的辐照对移动中的轨道230和辊232进行消毒。
53.轨道230和辊232的结构是迷宫式的，因此具有两个主要功能：a)推进消毒装置，b)在推进的同时防止uv辐照262从捕获空间234散射出去。
54.为了允许轨道推进功能(包括充分的牵引和转向)，消毒装置200的主要重量应当由轨道230承载。这意味着由辊232承载的消毒装置的重量应当显著地低于由轨道230承载的消毒装置的重量。为了实现该功能，辊232应当由弹性材料形成，该弹性材料能够变形并增大在轨道230上的牵引，或者应当包括如图3b示意性示出的柔性且致密的刷子226。第二种替代方案允许由刷子226刮擦该表面236，同时阻挡uv辐照并防止uv辐照散射出去。
55.为了避免微生物经由轨道230和辊232转移，如在一些要求严格的医院情况下可能需要的，轨道230和辊232可以通过具有下降机构292(图6)的辅助推进轮290与表面236分离。为了稳定消毒装置200，采用了两个附加的自由轮294(图4和图6)。
56.控制器237构造成以下述方式控制清洁和消毒过程：a)以足够高的功率驱动uv源
260；b)以一速度来驱动推进马达208，该速度允许消毒装置每单位面积辐照足够量的uv能量，以破坏表面上的微生物菌落；c)以足够的速度运行真空单元的鼓风机马达250，以实现足够的污垢和灰尘颗粒分离，通过热源利用热交换部段217加热循环空气以充分升高空气温度，从而确保从表面236去除湿气并促进微生物破坏；d)由可见光光谱光传感器280连续地监测从周围环境(包括从辅助光源282)透到捕获空间中的可见光光谱光能，来估计从捕获空间散射出去的uv辐照262，并且每当估计值超过安全标准时，关闭uv源260，或者将uv源260的功率调节到较低水平；e)通过调节排放空气马达268的速度或通过改变排放管喷嘴270的尺寸来连续地监测循环空气温度并改变排放空气气流。
57.应当指出，基于“移动和停止”的原则，uv辐照源260和推进马达208的驱动可以同时进行，或者在不同时间进行，在“移动和停止”的原则中，只有在停止时才施加uv辐照，而在移动时无uv辐照。
58.每当实施“移动和停止”的原则，可以实施如图10所示的往复式自消毒密封唇机构284。往复式自消毒密封唇机构284允许在停止时密封被处理的表面236区域；然后通过uv源260对密封唇215的接触线进行消毒，与此同时通过自消毒材料285(例如铜或黄铜)和表面236(图10b)形成密封接触。在该实施例中，密封唇215的结构是由致动器286致动的可折叠套筒。可折叠套筒的接触线通过致动器286的运动而改变。闭合的致动器(图10b)使自消毒材料285朝向表面236暴露。开放的致动器(图10a)使非自消毒材料215朝向表面236暴露。
59.还应当注意的是，部署在表面236上的微生物上的uv辐照能量262的量实际上不受限制，因为它是uv辐照功率和推进速度的直接衍生物，它可以从对于极高uv能量的零推进速度变化到对于中等uv能量的较高推进速度。
60.还应当指出的是，同样的原理适用于热能回收：在表面236上的微生物上的热能量实际上不受限制，因为它是消毒装置200的再循环功率和推进速度的直接衍生物，它可以从对于极高热能量的零推进速度变化到对于中等热能量的较高推进速度。
61.还应当注意的是，消毒装置200可以是自主操作的或手动操作的。
62.每当消毒装置200是自主的消毒装置时，消毒装置200顶部上的测绘传感器265(图3a)构造为指示距消毒装置前面的对象的距离，并且相机267(图3a)构造为识别对象。消毒装置200还可以装备有用于指示诸如楼梯的障碍物的隐患传感器(未示出)以及响应于障碍物以用于使消毒装置停止的器件。
63.上述传感器不应被认为是对基于本发明的潜在自主应用的限制。可以集成其它传感器技术以提供更高级别的自主性能。
64.消毒装置200可以配备有充电模块和接口(未示出)，用于与构造为对电池214再充电的外部再充电单元(未示出)相接。外部再充电单元构造为通过电线或无线或其组合向所述电池214提供电力。当通过导线再充电时，外部再充电单元经由导电连接器(未示出)提供电力。消毒装置200包括至少一个导电接收器，所述至少一个导电接收器构造为当与导电连接器中的至少一个电通信时向消毒装置的电池214提供电力。
65.应当注意的是，uv源260可以选自包括灯泡或led及其任意组合的组。
66.还应当注意的是，关闭uv源260(这可缩短灯泡寿命)的一种替代方案是使用如图5、图6和图9所示的机械遮蔽机构276。
67.清洁和消毒的方法以与上述公开的方式非常相似的方式进行。该方法由图11表述
并包括：a)以足够高的功率驱动uv源260；b)以一速度驱动推进马达208，所述速度允许消毒装置每单位面积辐照足够量的uv能量，以破坏表面上的微生物菌落；c)以足够的速度运行真空单元242的鼓风机马达250，以实现足够的污垢和灰尘颗粒分离，并通过热源利用热交换部段217将循环空气加热到足够温度，以确保从表面236去除湿气并增大杀死微生物的可能性；d)由可见光光谱光传感器280连续地监测从周围环境(包括从辅助光源282)透到捕获空间中的可见光光谱光能，以预测从捕获空间散射出去的uv辐照262，每当该预测超出安全标准时，关闭uv源260，或者将uv源260的功率调节到较低水平；e)通过调节排放空气马达268的速度或通过改变排放管喷嘴270的尺寸来连续地监测循环空气温度并改变排放空气气流。
68.如上所述，可以在消毒装置移动并且在移动中攻击微生物时同时地实施该方法，或者在消毒装置移动、停止和攻击时同时地实施该方法。两种方式之间的主要区别在于消毒速率，当同时实施时，消毒速率更高。
69.为了提高系统的安全等级，图12、图17a和图17b中所示的附加的第二uv屏障由包含在消毒室203内的辅助的内室300建立。内室300呈倒置盒的形式，其开放的端部靠近表面236，从而最小化从内室的下边缘下面逃逸出的uv辐照。当然，辐照源现在被支撑在内室300内，因此严格地说内室构成消毒室。然而，消毒室也可以被认为是具有内部部分和外部部分的双壁室。当推进系统228包括具有由诸如推土机之类的车辆使用的那种连续带的轨道时，外室将最方便地具有矩形横截面。但是这并不意味着内室300具有矩形横截面，因为内室可以是圆筒形或任何其它形状而不妨碍其功能。为了减小通过底部边缘逃逸出的uv辐照散射出，可调节唇304控制消毒室300和表面236之间的间隙。间隙可以通过经由真空单元242的空气出口供应的空气流来调节。空气流量越高，可调节唇304的内侧和外侧间的压力梯度越大并且间隙越大。为了控制闭合环路中的间隙，一个或多个uv光传感器308可以放置在内室300和外室203之间的空间中。传感器308将uv辐照测量值馈送到控制器237，控制器237将真空吸尘器鼓风机马达(如图1显示为250)设置为足够速度以增大或减小间隙。通过控制间隙，可减小或甚至消除可调节唇304与表面236之间的摩擦力。经由出口开口246排出的空气暴露于uv源260的辐照下，从而促进在空气从内室300排出之前对空气消毒。
70.例如，如在图17a中看到的，经由间隙从内室300逃逸出的辐照将进入外室203，并被辊232和轨道230阻挡。为了确保轨道230和表面236之间的良好接触，采用浮动式轨道-屏障机构310。与设计成在轨道接触区域上分配平台重量的典型轨道不同地，在浮动式轨道-屏障机构310中，平台重量中的一些重量被传递到驱动轮312(左驱动轮和右驱动轮)(图13b)，一些重量被传递到自由轮314，从而提供基于三轮原理(两个驱动轮312和一个自由轮314)的系统推进。
71.为了允许测量系统的运动矢量、距离和方向，自由轮314装备有磁性拾取传感器316(图13a)，其针对传感器316对集成在自由轮314内的金属销318的暴露次数进行计数。曝露次数与自由轮314在表面236上移动的距离成比例。自由轮314的方向由集成到自由轮314(图13a)的安装组件中的编码器320连续地测量。驱动轮312(图13b)联接到带轮322，带轮322经由带324由附接到推进马达208的轴上的另一带轮驱动。如图13c所示，辊232可以承载柔性的密封条330，该柔性的密封条330能够同时与表面236形成至少两条密封线，从而补偿表面236的粗糙度和非平面度。图13d示出了在带233中实施的产生多于一条密封线的类似
原理，其中设置两个唇332以与表面236产生两条密封线。
72.为了除去前辊232前面的灰尘和小障碍物，图14所示的真空清洁单元340联接到屏蔽件207。真空抽吸管342清洁辊232和轨道230前面的车道，以确保平稳操作并使表面236上的障碍物的数量最小化。如图15a所示，真空空气流处于开放回路：由电马达250驱动的鼓风机248通过前辊232前面的吸气管342施加吸力，用于捕获污染空气，该污染空气通过管246排放到消毒室300中。为了实现可调节唇304的更快致动响应，响应于传感器信号的控制器可以控制由伺服电机(未示出)致动的排放阀346。排放阀346使空气移动到屏蔽件207和消毒室300之间的空间中，从而控制经由可调节唇304流动的空气量。该闭合回路的控制与基于上述鼓风机马达250的功率/速度调节的控制相比更快且更为精确。
73.图15b以横截面示出了真空单元340的主要特征。在通过真空抽吸管342吸入空气之后，空气流经位于过滤器隔间350内的袋式过滤器(未示出)，然后由鼓风机248引导到管246中。
74.图16示出了uv光传感器308和可见光光谱光传感器280的布置，它们位于屏蔽件207和消毒室300之间，或者更准确地说位于浮动式轨道-屏障机构310和辅助消毒室300之间。可见光光谱光源(led)282联接到屏蔽件207边缘和真空单元340。
75.以上实施例的描述并不旨在限制保护范围，该保护范围仅由所附的权利要求书提供。
76.应当注意的是，如前面描述中所使用的，术语“上部”和“下部”在应用于消毒室的端部时，限定了端部相对于正被消毒表面的取向。因此，当该消毒装置用于消毒水平面(诸如地板)时，这些术语也对应于它们在空间中的实际取向。然而，当消毒装置构造为在非水平表面(诸如竖直壁)上行驶时，消毒室的“下部”开放端现在将是竖直的并与壁表面相邻，而“上部”端将远离壁表面。因此，在权利要求中，“下部”端和“上部”端被分别称作“近端”和“远端”；无论消毒装置在实际使用期间是水平的还是相对于水平倾斜的，它们都是同样适用的。
77.尽管已经针对uv辐照源对该消毒装置进行了特别描述，但是应意识到的是，本发明的原理同样适用于具有其它潜在隐患的辐照源。
78.通过示例来描述参考一个或多个实施例描述的特征，而不对那些实施例进行限制。因此，除非另有说明或除非特定组合明显是不允许的，否则假定仅参考一些实施例描述的可选特征也同样适用于所有其它实施例。