一种水性剥离液及其用途的制作方法

技术特征：
1.一种剥离液，其包括抗蚀剂，烷醇胺，环状胺，有机酸，水溶性有机溶剂和水，所述抗蚀剂包括式i所示化合物，2.根据权利要求1所述的剥离液，所述烷醇胺包括选自2-胺基乙醇、二乙醇胺、n-乙基胺基乙醇、n-甲基胺基乙醇、n-甲基二乙醇胺、二甲基胺基乙醇、2-(2-胺基乙氧基)乙醇、1-胺基-2-丙醇及三乙醇胺中的至少一种；所述环状胺包括选自哌嗪、咪唑或哌啶中的至少一种。3.根据权利要求1所述的剥离液，所述水溶性有机溶剂包括选自乙二醇甲醚、乙二醇乙醚、乙二醇丁醚、二乙二醇甲醚、二乙二醇乙醚、二乙二醇丁醚、三乙二醇单甲醚、三乙二醇单丁醚、四乙二醇单甲醚、四乙二醇二甲醚化合物中至少一种。4.根据权利要求1所述的剥离液，所述抗蚀剂还包括糖醇类抗蚀剂；和/或所述糖醇类抗蚀剂包括葡萄糖、山梨糖、木糖醇、甘露醇和山梨醇；和/或所述有机酸包括选自苹果酸、抗坏血酸、乳酸、柠檬酸、衣康酸中的至少一种。5.根据权利要求1所述的剥离液，以所述剥离液的总质量计算，所述式i所示化合物的含量为1.0wt％-10.0wt％。6.根据权利要求1所述的剥离液，以所述剥离液的总质量计算，所述烷醇胺的含量为5.0wt％-15.0wt％；和/或以所述剥离液的总质量计算，所述环状胺的含量为1.0wt％-5.0wt％；和/或以所述剥离液的总质量计算，所述有机酸的含量为0.2wt％-0.5wt％。7.根据权利要求1所述的剥离液，以所述剥离液的总质量计算，所述水溶性有机溶剂的含量为25.5wt％-76.8wt％。8.根据权利要求1所述的剥离液，以所述剥离液的总质量计算，所述水的含量为15.0wt％-40.0wt％。9.根据权利要求4所述的剥离液，以所述剥离液的总质量计算，所述糖醇类抗蚀剂的含量为1.0wt％-4.0wt％。10.根据权利要求1-9任一项所述的剥离液在剥离铜、钼或铝上光刻胶的用途。

技术总结
本发明提供一种剥离液及其用途，属于液晶面板和半导体生产技术领域。所述剥离液包括抗蚀剂，烷醇胺，环状胺，有机酸，水溶性有机溶剂和水，所述抗蚀剂包括式I所示化合物。所述剥离液剥离效果好，且所述剥离液对金属腐蚀性小，可用于高精度液晶面板和半导体的光刻胶剥离。可用于高精度液晶面板和半导体的光刻胶剥离。


技术研发人员：卢燕燕 张丽燕
受保护的技术使用者：深圳深骏微电子材料有限公司
技术研发日：2022.07.19
技术公布日：2022/10/11