一种铸铝转子的铸铝饱满度检测用双探头检测设备的制作方法

1.本实用新型涉及铸铝转子检测技术领域，尤其涉及一种铸铝转子的铸铝饱满度检测用双探头检测设备。


背景技术：

2.铸铝(鼠笼)转子是交流异步电动机的转子，因其形状像鼠笼而被称为鼠笼转子，其是交流异步电动机的重要组成部件，工作时，交流异步电动机的定子为三相镶嵌式分布绕组，铸铝转子为笼式的导条，交流异步电动机在定子绕组加三相交流电后，会形成旋转磁场，其铸铝转子上闭合的导条会因切割定子磁场的磁力线而感应出电动势和电流，带电(电流)的导体在磁场中就会产生运动，而带动铸铝转子旋转。铸铝转子因结构简单、无绕组、维修成本低、使用寿命长而广泛应用于日常生活、工厂设备、港口码头、油田煤矿等领域。
3.目前，铸铝转子生产完成后多直接装成整机，再进行整机的检测，但整机检测不合格后无法准备判断是否属于铸铝转子的问题，而影响进度；因此催生出铸铝转子检测装置，现有技术中常用的铸铝转子检测装置为断条检测仪，检测时通过单个测试传感器产生固定磁场，使被测铸铝转子旋转，被测铸铝转子旋转切割磁感线而产生感应电流，再利用接收传感器检测感应电流产生的磁场，而进行铸铝转子铸铝饱满度的检测，其一接收传感器感应电流产生的磁场时，是置于测试传感器产生的磁场中进行测量，测量结果是两个磁场相叠加的结果，而存在干扰；另外接收传感器是经由气缸带动前进后退，前进后退距离较易存在误差，且气缸本身存在振动等原因，而影响测试结果。


技术实现要素：

4.本实用新型提供了一种铸铝转子的铸铝饱满度检测用双探头检测设备，通过设置两组探头组件，且将两组探头组件分布于夹持组件的两侧，而避免两个磁场相互干扰，且结构简单，操作方便，而具有较好的使用效果。
5.本实用新型采用的技术方案是：一种铸铝转子的铸铝饱满度检测用双探头检测设备，包括工作台，以及安装于所述工作台上的、可夹持并带动铸铝转子转动的夹持组件；还包括分别布设于所述夹持组件两侧的两组探头组件，以及分别驱使两组所述探头组件直线移动的两组动力驱动组件，两组所述动力驱动组件驱使两组所述探头组件分别靠近或远离所述夹持组件，其一所述探头组件通电而产生磁场，所述铸铝转子在所述夹持组件的带动下转动而切割磁力线，另一所述探头组件接收产生的感应电动势，经由感应电动势的强弱来检测所述铸铝转子的铸铝饱满度。
6.作为对上述技术方案的进一步限定，各所述探头组件均包括铁芯，以及套设于所述铁芯上的绕组支架；还包括绕设于所述绕组支架上的绕组。
7.作为对上述技术方案的进一步限定，所述绕组支架和所述绕组分别为两组，各组所述绕组分别绕设于各自对应的所述绕组支架上。
8.作为对上述技术方案的进一步限定，所述铁芯为矽钢片铁芯。
9.作为对上述技术方案的进一步限定，所述铁芯包括呈u字形设置的本体，以及一体成型于所述本体两端的两个倾斜端；还包括分别成型于各倾斜端上的开口端，两个开口端间非闭合设置。
10.作为对上述技术方案的进一步限定，各所述动力驱动组件均包括伺服电机，以及与所述伺服电机传动连接的直线模组，各所述探头组件分别安装于各自对应的所述直线模组上。
11.作为对上述技术方案的进一步限定，所述伺服电机驱动所述直线模组移动，而带动所述探头组件移动，测试时，所述探头组件的倾斜端移动至距所述铸铝转子外表面间的距离为1mm～5mm。
12.作为对上述技术方案的进一步限定，所述夹持组件包括旋转电机，以及与所述旋转电机传动连接的旋转主轴；还包括安装于所述工作台上的滑轨，以及滑设于所述滑轨上的气缸夹具，于所述气缸夹具的一端安装有顶尖，所述铸铝转子的轴孔一端插设于所述旋转主轴上、另一端顶置于所述顶尖上。
13.作为对上述技术方案的进一步限定，所述铸铝转子的铸铝饱满度检测用双探头检测设备还包括控制及驱动系统，以及主控显示单元，所述主控显示单元包括显示器、操作按钮及计算机；所述控制及驱动系统包括伺服驱动器、主控电路板，以及分别形成于所述主控电路板上的通讯接口、信号接口、信号输入接口、继电器输出接口和数据采集接口等，所述通讯接口经由通信线与所述计算机连接，所述信号接口与所述伺服驱动器相连接，所述信号输入接口与所述操作按钮信号连通，所述继电器输出接口与所述气缸夹具的电磁阀和所述旋转电机的电源相连接，所述数据采集接口与各所述探头组件相连接。
14.本实用新型的一种铸铝转子的铸铝饱满度检测用双探头检测设备，通过夹持组件的设置能够方便铸铝转子的快速夹持与拆卸，且能够带动铸铝转子转动而切割磁力线；通过两组探头组件以及分别驱使两组探头组件直线移动的两组动力驱动组件的设置，能够使动力驱动组件带动探头组件靠近或远离夹持装置，而保证了移动距离及精度，且使两个探头组件的磁场不发生干涉，而保证检测精度，结构简单，操作方便，而具有较好的使用效果。
附图说明
15.图1为本实用新型一种铸铝转子的铸铝饱满度检测用双探头检测设备的主视图；
16.图2为本实用新型一种铸铝转子的铸铝饱满度检测用双探头检测设备的俯视图；
17.图3为本实用新型探头组件的结构示意图；
18.图4为本实用新型铁芯的结构示意图；
19.图5为本实用新型绕组支架与绕组的装配结构示意图；
20.图6为本实用新型绕组支架与绕组的另一角度装配结构示意图。
21.图中：
22.1-工作台，2-夹持组件，21-旋转主轴，22-滑轨，23-气缸夹具，24-顶尖，3-探头组件，31-铁芯，311-本体，312-倾斜端，313-开口端，32-绕组，33-绕组支架，41-伺服电机，42-直线模组，5-主控显示单元。
具体实施方式
23.下面结合附图及具体实施例对本实用新型作进一步的详细说明。
24.实施例
25.由图1结合图2中所示，一种铸铝转子的铸铝饱满度检测用双探头检测设备，其包括工作台1，以及安装于工作台1上的、可夹持并带动铸铝转子转动的夹持组件2，还包括分别布设于夹持组件2两侧的两组探头组件3，以及分别驱使两组探头组件3直线移动的两组动力驱动组件，两组动力驱动组件驱使两组探头组件3分别靠近或远离夹持组件2，其一探头组件3通电而产生磁场，铸铝转子在夹持组件2的带动下转动而切割磁力线，另一探头组件3接收产生的感应电动势，经由感应电动势的强弱来检测铸铝转子的铸铝饱满度。
26.由图3至图6中所示，各探头组件3均包括铁芯31，以及套设于铁芯31上的绕组支架33，还包括绕设于绕组支架33上的绕组32，具体的，为使导磁性能更佳，铁芯31为矽钢片铁芯，且为使效果更好，由图4中所示，铁芯31包括呈u字形设置的本体311，以及一体成型于本体311两端的两个倾斜端312，还包括分别成型于各倾斜端312上的开口端313，两个开口端313间非闭合设置，两个倾斜端312的设置用于产生铁芯31中的磁场的气隙，本实施例中，绕组支架33包括架体，以及分设于架体两端的两个架板，还包括设于两个架板间的绕柱，于两架板和绕柱间开设有使绕组支架33套设于铁芯31上的通孔，绕组32绕设于绕柱上，具体的，绕组支架33能够固定绕组32且起绝缘作用。
27.为使产生磁场效果更好，本实施例中，由图3、图5及图6中所示，绕组支架33和绕组32分别为两组，各组绕组32分别绕设于各自对应的绕组支架33上，具体的，各绕组32均由铜漆包线以一定的匝数绕制，为满足灵敏度要求，只需调整绕制的漆包线匝数即可。
28.本实施例中，为产生稳定磁场，且保证检测的可重复性，需保证每次移动后探头组件3与铸铝转子间距离的精确度，具体的，由图2中所示，各动力驱动组件均包括伺服电机41，以及与伺服电机41传动连接的直线模组42，各探头组件3分别安装于各自对应的直线模组42上，通过伺服电机41驱动直线模组42的结构，能够精确探头组件3的移动位置，且伺服电机41驱动直线模组42移动，而带动探头组件3移动，测试时，探头组件3的倾斜端312移动至距铸铝转子外表面间的距离为1mm～5mm。
29.为使结构简单，易于操作，夹持组件2包括旋转电机，以及与旋转电机传动连接的旋转主轴21，还包括安装于工作台1上的滑轨22，以及滑设于滑轨22上的气缸夹具23，于气缸夹具23的一端安装有顶尖24，铸铝转子的轴孔一端插设于旋转主轴21上、另一端顶置于顶尖24上。
30.通过将铸铝转子的轴孔一端插设于旋转主轴21上、另一端顶置于顶尖24上，能够使旋转电机带动旋转主轴21旋转，进而带动铸铝转子旋转。
31.为实现检测的自动化，铸铝转子的铸铝饱满度检测用双探头检测设备还包括控制及驱动系统，以及主控显示单元5，主控显示单元5包括显示器、操作按钮及计算机，控制及驱动系统包括伺服驱动器、主控电路板，以及分别形成主控电路板上的通讯接口、信号接口、信号输入接口、继电器输出接口和数据采集接口等，具体的，通讯接口经由通信线与计算机连接，信号接口与伺服驱动器相连接，信号输入接口与操作按钮信号连通，继电器输出接口与气缸夹具23的电磁阀和旋转电机的电源相连接，数据采集接口与各探头组件3相连接。
32.通过操作操作按钮，能够使主控电路板接收启动或停止信号，并通过连接的伺服驱动器而控制对应的两个伺服电机41启动或停止，并使继电器输出接口上连接的电磁阀控制气缸夹具23动作而夹紧或松开铸铝转子、并使继电器输出接口上连接的旋转电机的电源接通或断开，而带动铸铝转子旋转或停止，通过数据采集接口完成感应电动势的数据采集，通过通信接口，实现指令和数据的传输。
33.本实施例中，通过夹持组件2的设置能够方便铸铝转子的快速夹持与拆卸，且能够带动铸铝转子转动而切割磁力线；通过两组探头组件3以及分别驱使两组探头组件3直线移动的两组动力驱动组件的设置，能够使动力驱动组件带动探头组件3靠近或远离夹持装置，而保证了移动距离及精度，且使两个探头组件3的磁场不发生干涉，而保证检测精度，结构简单，操作方便，而具有较好的使用效果。
34.以上所述仅为本实用新型较佳实施方式，但本实用新型的保护范围并不局限于此，任何熟悉本领域的技术人员在本实用新型揭露的技术范围内，根据本实用新型的技术构思加以等同替换或改变所得的技术方案，都应涵盖于本实用新型的保护范围内。