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具有在低波长下具有透明度的窗口的化学机械抛光垫和用于这种窗口的材料的制作方法

2022-07-02 09:51:25 来源:中国专利 TAG:

技术特征:
1.一种用于化学机械抛光的抛光垫,其包括具有顶部抛光表面和抛光材料的抛光部分,贯穿所述抛光垫的开口,以及在所述抛光垫中的开口内的透明窗口,所述透明窗口固定在抛光垫上;其中所述窗口包含聚氨酯组合物,所述聚氨酯组合物是使聚合多元醇、聚异氰酸酯、和包含三个或更多个形成硬链段的羟基的固化剂在用于减小硬链段域尺寸的硬链段抑制剂的存在下反应形成的,并且其中所述聚氨酯组合物是软链段基质中的硬链段的无定形混合物,并且所述聚氨酯组合物不含碳碳双键。2.如权利要求1所述抛光垫,其中,所述聚合多元醇是不含碳碳双键并且具有300至4000的数均分子量的聚合二醇。3.如权利要求1所述的抛光垫,其中,所述硬链段抑制剂是可溶于不含碳碳双键的液态聚氨酯的阴离子或非离子添加剂。4.如权利要求1所述的抛光垫,其中,所述硬链段抑制剂是聚氧化烯烃的硫酸酯、磺酸酯或磷酸酯。5.如权利要求1所述的抛光垫,其中,所述固化剂包含3或4个羟基,具有100至4000的分子量并且不含碳碳双键。6.如权利要求1所述的抛光垫,其中,所述聚异氰酸酯是不含碳碳双键的二异氰酸酯。7.如权利要求1所述的抛光垫,其中,所述窗口具有在250nm处至少1%的双程透射率。8.如权利要求1所述的抛光垫,其中,所述窗口具有在280nm处至少1%的双程透射率,以及(i)3000至60,000psi(20.7至414mpa)的拉伸模量和(ii)小于60的肖氏d硬度中的至少一者。9.如权利要求1所述的抛光垫,其中,所述聚合二醇先与所述聚异氰酸酯反应形成预聚物并且然后所述预聚物与所述固化剂反应,或者所述聚合二醇、所述聚异氰酸酯和所述固化剂全部组合并且然后反应。10.如权利要求1所述的抛光垫,其中,所述窗口的特征在于在250nm处至少1%的双程透射率,不大于75的肖氏d硬度,以及小于70,000psi(483mpa)的模量。

技术总结
一种用于化学机械抛光的抛光垫。所述抛光垫包括具有顶部抛光表面和抛光材料的抛光部分。存在贯穿所述抛光垫的开口且开口内有透明窗口。所述透明窗口固定在所述抛光垫上。所述窗口包含聚氨酯组合物,所述聚氨酯组合物是使聚合多元醇、聚异氰酸酯和固化剂在用于减小硬链段域尺寸的硬链段抑制剂的存在下反应形成的。所述固化剂包含三个或更多个形成硬链段的羟基,并且所述聚氨酯组合物是软链段基质中的硬链段的无定形混合物并且不含碳碳双键。硬链段的无定形混合物并且不含碳碳双键。硬链段的无定形混合物并且不含碳碳双键。


技术研发人员:M
受保护的技术使用者:罗门哈斯电子材料CMP控股股份有限公司
技术研发日:2021.12.14
技术公布日:2022/7/1
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