显示面板、显示装置及制作显示面板的方法与流程

1.本发明涉及显示技术领域，特别地，涉及一种显示面板、包括该显示面板的显示装置、以及制作该显示面板的方法。


背景技术：

2.当前，触控技术已经普遍地应用到各种类型的显示装置中，例如，oled触控显示装置、lcd触控显示装置，极大地提升了用户使用显示装置的体验。应用触控技术的显示装置通常包括触控ic芯片（也称为触摸控制器），用于向显示装置中的触控电极发送控制信号或者接收来自于触控电极的感测信号，以确定用户的触摸位置。但是，对于现有的触控显示装置，触控性能仍有较大的改进空间。


技术实现要素：

3.本发明的实施例提供了一种显示面板，该显示面板包括：衬底基板，所述衬底基板包括显示区和处于所述显示区周围的非显示区；位于所述衬底基板上的触控电极层，所述触控电极层处于所述显示区内；以及与所述触控电极层电连接的多条信号走线，所述多条信号走线分布在所述非显示区中与所述显示区相邻的第一区域内。所述显示面板还包括处于所述非显示区的第二区域内的多条外虚设走线，所述第二区域位于所述第一区域和所述非显示区的外边界之间，所述多条外虚设走线与所述多条信号走线彼此分离。
4.根据本发明的一些实施例，显示面板还包括位于所述非显示区内的第一信号屏蔽线和第二信号屏蔽线，所述第一信号屏蔽线的至少一部分处于所述第二区域和所述非显示区的外边界之间，所述第二信号屏蔽线处于所述第一信号屏蔽线和所述第一区域之间，所述多条外虚设走线包括处于所述第一信号屏蔽线和第二信号屏蔽线之间的至少一条第一虚设走线。
5.根据本发明的一些实施例，所述第一信号屏蔽线包括接地线，第二信号屏蔽线被配置成接收固定电位或方波信号。
6.根据本发明的一些实施例，触控电极层包括并行排列的多个第一触控电极和并行排列的多个第二触控电极，所述多个第一触控电极和所述多个第二触控电极相互交叉，所述多条信号走线包括与相应的第一触控电极连接的多条第一信号走线和与相应的第二触控电极连接的多条第二信号走线，所述第二信号屏蔽线包括第一分段和第二分段。至少部分所述第一分段的延伸图案与所述多条第一信号走线中远离所述显示区的最外侧第一信号走线的延伸图案一致，至少部分所述第二分段的延伸图案与所述多条第二信号走线中远离所述显示区的最外侧第二信号走线延伸图案的一致。
7.根据本发明的一些实施例，所述第一分段与所述最外侧第一信号走线之间的间距等于所述最外侧第一信号走线与其相邻的第一信号走线之间的间距，所述第二分段与所述最外侧第二信号走线之间的间距等于所述最外侧第二信号走线与其相邻的第二信号走线之间的间距。
8.根据本发明的一些实施例，所述衬底基板包括处于所述非显示区内的弯折区，所述衬底基板经由所述弯折区形成第一部分和第二部分，所述第一部分包括所述显示区、所述第一区域和所述第二区域，所述多条外虚设走线还包括处于所述第二区域内并与所述弯折区相邻的至少一条第二虚设走线。
9.根据本发明的一些实施例，所述多条信号走线、所述第一信号屏蔽线和所述第二信号屏蔽线延伸至所述弯折区，所述至少一条第二虚设走线分布在所述第一信号屏蔽线和所述非显示区的外边界之间。
10.根据本发明的一些实施例，所述显示面板还包括处于所述多条信号走线中的至少一部分信号走线之间的至少一条中间虚设走线，所述至少一条中间虚设走线与所述多条信号走线彼此分离。
11.根据本发明的一些实施例，所述触控电极层包括并行排列的多个第一触控电极和并行排列的多个第二触控电极，所述多个第一触控电极和所述多个第二触控电极相互交叉，所述多条信号走线包括与相应的第一触控电极连接的多条第一信号走线和与相应的第二触控电极连接的多条第二信号走线，所述衬底基板包括处于所述非显示区内的弯折区，所述衬底基板经由所述弯折区形成第一部分和第二部分，所述第一部分包括所述显示区、以及所述非显示区的处于所述弯折区和所述显示区之间的中间非显示区，所述多条第一信号走线和所述多条第二信号走线延伸至所述中间非显示区，所述至少一条中间虚设走线包括处于所述多条第一信号走线和所述多条第二信号走线之间、并处于所述中间非显示区的至少一条第三虚设走线。
12.根据本发明的一些实施例，所述显示面板还包括触摸控制器，所述触摸控制器布置在所述衬底基板的所述第二部分上，所述多条信号走线电连接至所述触摸控制器。
13.根据本发明的一些实施例，所述至少一条第一虚设走线中的各条第一虚设走线彼此间隔、且均匀地分布在所述第一信号屏蔽线和第二信号屏蔽线之间，所述至少一条第二虚设走线中的各条第二虚设走线彼此间隔、且均匀地分布在所述第一信号屏蔽线和非显示区的外边界之间。
14.根据本发明的一些实施例，所述外虚设走线、所述信号走线、以及所述中间虚设走线中的至少一个包括第一金属线和布置在第一金属线上方的第二金属线，所述显示面板还包括处于第一金属线和第二金属线之间的绝缘层，所述绝缘层包括过孔，所述第一金属线经由所述绝缘层中的过孔电连接至所述第二金属线。
15.根据本发明的一些实施例，所述第一金属线和第二金属线的材料包括钛、银和氧化铟锡中的至少一种。
16.根据本发明的一些实施例，所述显示面板还包括位于所述衬底基板上的封装坝，所述封装坝处于所述第一信号屏蔽线和所述非显示区的外边界之间，所述封装坝围绕所述第一信号屏蔽线在所述非显示区内延伸，且所述封装坝和所述第一信号屏蔽线之间保持固定的第一距离，所述第一信号屏蔽线与所述多条外虚设走线中同所述第一信号屏蔽线相邻的外虚设走线之间存在第二距离，所述第一距离和所述第二距离的比值大于1小于6。
17.根据本发明的一些实施例，所述衬底基板包括圆角部分，所述第二区域包括处于所述圆角部分内的弯曲区域和处于所述圆角部分外部的平直区域，所述弯曲区域包括第一空隙，所述平直区域包括第二空隙，所述第一空隙由所述多条外虚设走线中处于所述弯曲
区域内的一条外虚设走线的端部和与该一条外虚设走线相邻的外虚设走线共同形成，所述第二空隙由所述多条外虚设走线中处于所述平直区域内的另一条外虚设走线的端部和与该另一条外虚设走线相邻的外虚设走线共同形成，所述第一空隙的面积大于所述第二空隙的面积。
18.根据本发明的一些实施例，所述多条信号走线中远离所述显示区的信号走线的平均宽度大于靠近所述显示区的信号走线的平均宽度。
19.根据本发明的一些实施例，所述显示面板还包括布置在所述衬底基板上的至少一条裂纹检测线，所述至少一条裂纹检测线位于非显示区的外边界和所述第一信号屏蔽线，所述至少一条裂纹检测线的延伸图案与所述第一信号屏蔽线的延伸图案一致。
20.根据本发明的一些实施例，所述至少一条裂纹检测线和所述第一信号屏蔽线之间存在第三距离，所述第一信号屏蔽线与所述多条外虚设走线中同所述第一信号屏蔽线相邻的外虚设走线之间的第二距离是所述第三距离的2至3倍。
21.根据本发明的一些实施例，显示面板还包括处于所述触控电极层和衬底基板之间的像素结构层，所述像素结构层包括阳极、阴极以及二者之间的有机发光层。
22.本发明的另一实施例提供了一种显示装置，包括如前述的任一实施例所述的显示面板。
23.通过在显示面板的非显示区布置本发明实施例所述的外虚设走线、中间虚设走线或者同同时布置这两种虚设走线，可以促进在制作显示面板过程中针对金属膜层的刻蚀工艺中的刻蚀均一性，从而有利于提升所制作的显示面板或显示装置的触控性能。
附图说明
24.图1示意性地示出了根据本发明的一个实施例的显示面板中的信号走线和外虚设走线的分布图；图2示意性地示出了根据本发明的另一实施例的显示面板中的信号走线和外虚设走线的分布图；图3示意性地示出了根据本发明的另一实施例的显示面板中的信号屏蔽线、信号走线和外虚设走线的分布图；图4示意性地示出了图3中的衬底基板弯折之后的状态；图5示意性地示出了根据本发明的又一实施例的显示面板中的信号屏蔽线、信号走线、外虚设走线和中间虚设走线的分布图；图6示意性地示出了根据本发明的又一实施例的显示面板中的信号屏蔽线、信号走线、外虚设走线和中间虚设走线的分布图；图7示意性地示出了根据本发明的另一实施例的显示面板的显示区周围的各类走线所在区域的总体轮廓；图8-图10示意性地示出了图7中q1所示区域的局部放大图；图11示意性地示出了图7中q2所示区域的放大图；图12示意性地示出了图11中沿着线d1-d2的局部截面图；图13示意性地示出了根据本发明的另一实施例的显示面板的单个像素区域的局部截面图；
图14示意性地说明根据本发明的又一实施例的制作显示面板中的触控电极层和非显示区中的各类走线的过程。
具体实施方式
25.下面，通过具体的示例详细说明本发明的一些实施例。应当理解到，下面描述的这些示例性实施例仅仅是为了解释和阐明本发明一些实施例的实现方式，并不表示真实显示面板或显示装置的结构，特别地，各个附图中所示的各类走线不代表实际产品中的走线的具体图案，而仅示意性地示出这些走线所处的位置以及与与显示面板的其他走线或区域的相对位置关系。而且，基于本文的描述的实施例和这些实施例所揭示的原理，本领域技术人员可以以其它不同的实施方式实施本发明，从而获得与这里描述的实施例不同的另外的实施例，这些另外的实施例同样属于本专利申请的保护范围。因此，本文所描述的示例性实施例不构成对本专利申请保护范围的限制。
26.在触控显示装置的非显示区，通常布置有一些金属走线，这些金属走线将触摸控制器与触控显示装置中的触控电极电连接。这些金属走线从触摸控制器的端子引出，经由显示装置的非显示区延伸至触控电极层，分别与相应的触控电极连接。本技术的发明人发现，制作这些金属走线的过程往往会导致显示装置的触控性能的降低。具体地，处于显示装置的显示区外围的这些金属走线并不是均匀地分布在非显示区内。例如，对于具有矩形显示区的显示装置而言，金属走线可能分布在该显示区的四个边缘中的两个或三个边缘的外侧，而显示区的一个边缘的外围没有金属走线，或者，环绕该矩形显示区的非显示区的部分区域为不存在金属走线的空白区。发明人认识到，在制作非显示区的这些金属走线的过程中，难以保证针对金属膜层的刻蚀均一性，而且，这种对金属膜层的不均一的刻蚀是影响显示装置的触控性能的一个因素。
27.鉴于上述的技术认知，本发明的一个实施例提出了一种显示面板，以促进触控显示装置的触控性能的提升。根据本发明实施例提供的显示面板包括衬底基板、触控电极层、多条信号走线以及多条外虚设走线。如图1所示，显示面板的衬底基板包括显示区a和处于显示区a周围的非显示区（例如，图1中示出的na1、na2），触控电极层设置于衬底基板上、且位于显示区a内。显示面板还包括多条信号走线和多条外虚设走线，所述多条信号走线与触控电极层电连接、且分布在非显示区的第一区域na1内，第一区域na1与显示区a相邻。所述多条外虚设走线处于所述非显示区的第二区域na2内，第二区域na2处于第一区域na1和非显示区的外边界ob之间。另外，如图1所示，第二区域na2内的外虚设走线与第一区域na1内的信号走线彼此分离。
28.本文提到的“虚设走线”（包括上面实施例提及的“外虚设走线”以及下文中将提到的“第一虚设走线”、“第二虚设走线”、“中间虚设走线”、“第三虚设走线”）指的是在显示面板或显示装置的运行中不起信号传输作用的走线，这些虚设走线可不与显示面板或显示装置的任何其它电气元件连接，在显示装置的运行过程中不接收任何的电信号，或者，这些虚设走线中的一部分或者全部仅与固定电位（例如，接地电位）电连接。另外，互相独立的多条虚设走线可以呈现任何样式的图案，本发明的实施例对各类虚设走线中的每条虚设走线的图案以及多条虚设走线的整体图案不作任何限制。
29.上述实施例中提到的“外虚设走线”是相对于下文其它实施例中描述的“中间虚设
走线”而言的，意在用于区分这两种虚设走线所处位置方面的差异，但并存在针对虚设走线的任何属性或特征（例如，结构、图案、材料等）方面的任何限制。如上面的实施例所描述的，外虚设走线所在的第二区域处于非显示区中信号走线所在的第一区域和非显示区的外边界之间，而中间虚设走线布局在信号走线之间，具体将在下文的另外的实施例中描述。
30.图1示出了外虚设走线布置在非显示区的外边界ob和多条信号走线所在的第一区域na1之间的一个角落区域的示例，图2示意性地示出了外虚设走线的布置的另一示例。如图2所示，非显示区的第一区域na1和非显示区的外边界ob之间存在三个第二区域na2，其中一个第二区域na2处于显示区a的上方，另外两个第二区域na2处于显示区a的下方。根据本发明的一些实施例，第一区域na1和第二区域na2一起可形成围绕显示区a的环形区域。
31.形成非显示区内的信号走线的过程通常涉及对金属膜层的刻蚀工艺，对于本发明实施例提供的显示面板，在制作非显示区域的信号走线的同时，可同时制作出多条外虚设走线。这些外虚设走线与信号走线一起，使得最终形成的金属走线的材料更均匀地分布在显示区外围，相应地，在制作信号走线和外虚设走线的过程中，金属膜层的蚀刻均一性得以提升，从而有利于提升所制作的显示面板或显示装置的触控性能。本发明的实施例不对制作信号走线和外虚设走线的材料作任何限制，制作信号走线和外虚设走线的材料可以是具有导电性能的任何金属、金属氧化物、或金属合金材料，包括但不限于例如氧化铟锡（ito）、银（ag）、铝(al)、钛（ti）等。
32.根据本发明的一些实施例，显示面板的非显示区内还设置有信号屏蔽线，以减少信号走线受到外界信号的干扰。如图3所示，显示面板包括处于非显示区的第一信号屏蔽线p1和第二信号屏蔽线p2，第一信号屏蔽线p1的至少一部分处于第二区域na2（布置有第一外虚设走线dt1）和非显示区的外边界ob之间，第二信号屏蔽线p2处于第一信号屏蔽线p1和第一区域（布置有信号走线t1、t2）之间。根据本发明的一些实施例，布置在非显示区的所述多条外虚设走线包括处于第一信号屏蔽线p1和第二信号屏蔽线p2之间的至少一条第一虚设走线dt1。在图3的实施例中，第一信号屏蔽线p1和第二信号屏蔽线p2基本上围绕显示区a延伸，第一信号屏蔽线p1和第二信号屏蔽线p2中的每个可以是无中断的连续走线，也可以被布置成包括若干个彼此间隔的分段。
33.在一些实施例中，第一信号屏蔽线p1可包括接地线，第二信号屏蔽线p2可被配置成接收固定电位或方波信号。如图3所示，第二信号屏蔽线p2沿着信号走线所在的第一区域na1的外边缘延伸，第一信号线p1基本上包围第二信号屏蔽线p2，由此可以对第一区域内的信号走线t1、t2起到双重信号屏蔽的作用。如图3所示，在第一信号屏蔽线p1和第二信号屏蔽线p2之间的较大的空隙区域形成多条第一虚设走线dt1，可以实现制作信号走线、第一信号屏蔽线p1和第二信号屏蔽线p2的过程中对金属膜层刻蚀的均一性，促进最终的触控显示面板或显示装置的触控性能的提升。
34.参考图4并结合参考图3，根据本发明的一些实施例，衬底基板是柔性衬底基板，或者衬底基板包括柔性区域，使得衬底基板是可弯曲的。图4示意性地示出了被弯折后的衬底基板100，图3示出了衬底基板未被弯折时的状态。衬底基板100包括处于非显示区内的弯折区ba，衬底基板100经由弯折区ba形成第一部分1a和第二部分2a，第一部分1a包括显示区a、非显示区的第一区域na1和第二区域na2，所述多条外虚设走线还包括处于第二区域na2内并与所述弯折区ba相邻的至少一条第二虚设走线dt2。图4中的ax表示弯折区ba的弯曲轴，
该弯曲轴可平行于衬底基板的一个侧边，衬底基板100可围绕弯曲轴ax弯曲，使得第二部分2a朝第一部分1a的背面弯曲，第一部分1a和第二部分2a可形成任何的角度，本发明的实施例对此不作任何的限制。在一些实施例中，可以将包括触摸控制器c在内的各种ic器件布置在第二部分2a，由此，在最终形成的显示装置中，这些ic器件可以被隐藏到第一部分1a的背面，可以实现全屏显示。在该情形中，所述多条信号走线电连接至触摸控制器c，如图3所示。
35.如图3所示，在一些实施例中，多条信号走线t1、t2、第一信号屏蔽线p1和第二信号屏蔽线p2延伸至弯折区ba，多条外虚设走线（第二虚设走线dt2）分别分布在第一信号屏蔽线p1和所述非显示区的外边界ob之间。在图3的示例中，多条第二虚设走线dt2位于显示区a和弯折区ba之间。这里的多条第二虚设走线dt2可实现与前述实施例中的第一虚设走线dt1类似的功能，即，可以促进制作信号走线、第一信号屏蔽线p1和第二信号屏蔽线p2的过程中对金属膜层刻蚀的均一性，有利于提升触控显示面板或显示装置的触控性能。此外，由于第二虚设走线dt2所在的区域靠近弯折区ba，同时且处于衬底基板的侧边缘区域，因此，这些第二虚设走线dt2还可以降低显示面板的侧边缘区域的膜层脱离衬底基板的风险，提升显示面板的结构的稳定性。
36.本发明实施例中提到的信号走线t1和信号走线t2表示与触控电极层中的不同触控电极相连接的信号走线。例如，信号走线t1可以触控电极层中的发射电极相连，信号走线t2可以与触控电极层中的接收电极相连，发射电极和接收电极可以产生互电容，在触控显示装置运行过程中，触摸控制器可以向发射电极传送控制信号，并从接收电极接收感测信号，由此，可基于互电容的变化而确定用户的触摸位置。当然，触控电极层中的触控电极也可以基于自电容感测原理的结构，触控电极层的触控电极的具体排列和结构不是本发明的重点和关键，在此不再详述。
37.根据本发明的实施，多条第一虚设走线中的各条第一虚设走线之间是彼此独立的，多条第二虚设走线中的各条第二虚设走线之间也是彼此独立的，它们可以均匀地分布在非显示区的相应的区域内，以进一步有利于对金属膜层刻蚀的均一性。如图3所示，各条第一虚设走线dt1彼此间隔、且均匀地分布在第一信号屏蔽线p1和第二信号屏蔽线p2之间，各条第二虚设走线dt2彼此间隔、且均匀地分布在第一信号屏蔽线p1和非显示区的外边界ob之间内。图3中还示意性地示出了衬底基板上的封装坝所在的区域f。在该实施例中，第二虚设走线dt2可处于弯折区ba和封装坝所在的区域f之间。
38.在图3的实施例中，多条第一虚设走线dt1中的各条第一虚设走线dt1之间的间距等于第二信号屏蔽线p2与多条第二信号走线t2中最靠近第二信号屏蔽线p2的第二信号走线t2之间的间距。进一步地，多条第一虚设走线dt1中最靠近第一信号屏蔽线p1的第一虚设走线的宽度等于所述第一信号屏蔽线p1的宽度，多条第一虚设走线dt1中最靠近所述第二信号屏蔽线p2的第一虚设走线的宽度等于第二信号屏蔽线p2的宽度。由此，可以有利于实现多条第一虚设走线dt1、第一信号屏蔽线p1、第二信号屏蔽线p2以及多条第二信号走线t2的整体分布的均一性，进一步促进对金属膜层的蚀刻均一性。能够理解到的是，本文提到的“等于”或“相等”并不限于或者追求绝对意义上的相等或等于，而是表示让两个参数的值尽可能地接近或相等。例如，各条第一虚设走线dt1之间的间距、第二信号屏蔽线p2与最靠近第二信号屏蔽线p2的第二信号走线t2之间的间距二者之间的差可能在各条第一虚设走线dt1之间的间距的%5以内。
39.根据本发明的一些实施例，触控电极层包括并行排列的多个第一触控电极和并行排列的多个第二触控电极，所述多个第一触控电极和所述多个第二触控电极相互交叉。接着参照图3，所述多条信号走线包括分别与相应的第一触控电极连接的多条第一信号走线t1和分别与相应的第二触控电极连接的多条第二信号走线t2，所述第二信号屏蔽线p2包括第一分段p21和第二分段p22。第一分段p21的延伸图案与所述多条第一信号走线中远离显示区a的最外侧第一信号走线t1的延伸图案一致，第二分段p22的延伸图案与所述多条第二信号走线t2中远离所述显示区的最外侧第二信号走线延伸图案的一致。进一步地，在一些实施例中，第一分段p21与最外侧第一信号走线之间的间距等于最外侧第一信号走线与其相邻的第一信号走线之间的间距，第二分段p22与最外侧第二信号走线之间的间距等于所述最外侧第二信号走线与其相邻的第二信号走线之间的间距。类似地，第二信号屏蔽线的这种布置有利于促进对金属膜层的蚀刻均一性。在图3的示例中，第一分段p21和第二分段p22是彼此分离的，在其它实施例中，第一分段p21和第二分段p22可以互相连接形成一体的第二信号屏蔽线。
40.尽管图1至图3的示例性实施例中，触控电极层中的每个触控电极被示出为仅与一条信号走线相连，例如，图3中的信号走线t1可以与触控电极层中的发射电极相连，信号走线t2可以与触控电极层中的接收电极相连，但是这并不构成本发明实施例的任何限制。在另外的实施例中，每个触控电极可以与两条信号走线相连。例如，如图5所示，触控电极层中的每个发射电极的两端（上端和下端）分别与信号走线t11和信号走线t12相连，每个接收电极与信号走线t2相连。当然，在其它的实施例中，每个接收电极可以与两条信号走线相连，或者，每个发射电极和每个接收电极均与两条信号走线相连。总之，本发明的实施例并不对触控电极层中的触控电极和信号走线的布局、以及触控电极和信号走线之间的连接方式作出任何具体的限制，本发明实施例所揭示的利用虚设走线改善触控显示装置的触控性能的技术措施不受触控电极和信号走线之间的连接方式的限制。
41.根据本发明的一些实施例，显示面板还包括处于所述多条信号走线之间的至少一条中间虚设走线，这些中间虚设走线与所述多条信号走线彼此分离。本文提到的中间虚设走线可以布置在上述的多条第一信号走线之间，也可以布置在上述的多条信号走线之间，或者，还可以布置在第一信号走线和第二信号走线之间。接着参照图5，多条中间虚设走线dt3被形成在信号走线t2和信号走线t12之间。也就是说，在与发射电极相连的信号走线t12和与接收电极相连的信号走线t2存在较大间隙的情形中，可以在二者之间形成另外的虚设走线（即，中间虚设走线dt3）。同样地，可以在其它的信号走线之间的间隙中布置中间虚设走线，例如，可以在与同类型的触控电极相连的不同信号走线之间的间隙中形成中间虚设走线。如图6所示，中间虚设走线dt3被示出为可存在于与发射电极相连的信号走线t1之间、与接收电极相连的信号走线t2之间、以及信号走线t1和信号走线t2之间。也就是说，根据本发明的另外的实施例，可以在多条信号走线中的任何两条信号走线之间布置中间虚设走线。这些中间虚设走线dt3可实现与前述实施例中的第一虚设走线dt1、第二虚设走线dt2至少部分类似的功能，即，可以促进制作信号走线过程中对金属膜层刻蚀的均一性，从而有利于提升触控显示面板或显示装置的触控性能。如前所述，根据本发明的一些实施例，衬底基板包括处于非显示区内的弯折区，衬底基板经由所述弯折区形成第一部分和第二部分，如图3和4所示。第一部分包括所述显示区、以及所述非显示区的处于所述弯折区和所述显示
区之间的中间非显示区（如图3中所示，显示区a和弯折区ba之间的非显示区可被称作中间非显示区），多条第一信号走线和多条第二信号走线可延伸至所述弯折区。如图3所示，在一些实施例中，所述至少一条中间虚设走线包括处于多条第一信号走线t1和多条第二信号走线t2之间、并处于中间非显示区的至少一条第三虚设走线dt3。该实施例中的第三虚设走线dt3可起到与前述实施例中的第二虚设走线dt2类似的作用，可以促进制作信号走线、第一信号屏蔽线p1和第二信号屏蔽线p2的过程中对金属膜层刻蚀的均一性，有利于提升触控显示面板或显示装置的触控性能。此外，由于第三虚设走线dt3靠近弯折区ba，这些第三虚设走线dt3还可以降低显示面板的弯折区附近的膜层脱离衬底基板的风险，提升显示面板的结构的稳定性。进一步地，根据本发明的另外的实施例，可以在多条第一信号走线t1和与其相邻的第三虚设走线dt3之间布置第二信号屏蔽线的材料，也可以在多条第一信号走线t2和与其相邻的第三虚设走线dt3之间布置第二信号屏蔽线的材料，换句话说，在第二信号屏蔽线可以延伸至中间非显示区中的多条第一信号走线t1或多条第二信号走线t2的两侧。
42.根据本发明的实施例，信号走线、虚设走线、以及信号屏蔽线中的每个可以包括两条以上的金属线，这些金属线可彼此电连接、但分布在不同的层中，以有利于走线的整体电阻的降低。在一个示例中，每条信号走线t1、t2和每条虚设走线dt1、dt2、dt3均包括第一金属线和布置在第一金属线上方的第二金属线，显示面板还包括处于第一金属线和第二金属线之间的绝缘层，该绝缘层包括过孔，第一金属线经由所述绝缘层中的过孔电连接至第二金属线。
43.下面，结合图7至图11进一步说明本发明实施例中的信号走线、外虚设走线、第一信号屏蔽线和第二信号屏蔽线的示例。
44.图7图示了显示面板的显示区周围的各种走线所在区域的整体轮廓。图8为图7的q1区域的放大示意图。如图8所示，第一信号屏蔽线p1（在该示例中为接地线gnd）布置在信号走线t1、t2的外侧，两段第二信号屏蔽线p2分别紧挨着第一信号走线t1和第二信号走线t2，以减少或避免外界信号干扰第一信号走线t1和第二信号走线t2。多条外虚设走线（在图8中被标识为dummy trace）布置在第一信号屏蔽线p1和第二信号屏蔽线p2之间。图8中还图示了封装坝dam1、dam2，封装坝同样位于非显示区并围绕显示区而设置，封装坝可处于所述第一信号屏蔽线和所述非显示区的外边界之间。图7的示例示出了两个封装坝dam1、dam2，但是，在另外的示例中，封装坝的数量可以为一个或者两个以上。各个封装坝可以具有相同或者不同的膜层结构。在一个示例中，封装坝可包括依次层叠设置的保护部和阻隔部。在另一示例中，封装坝还可包括位于阻隔部上方的支撑部。保护部、阻隔部和支撑部中的至少一个可以与显示面板显示区中的一个膜层处于同层。例如，在oled显示面板中，封装坝的阻隔部可以与像素界定层处于同一层。
45.根据本发明的一些实施例，封装坝围绕第一信号屏蔽线在非显示区内延伸，且封装坝和第一信号屏蔽线之间保持固定的第一距离，第一信号屏蔽线与所述多条外虚设走线中同所述第一信号屏蔽线相邻的外虚设走线之间存在第二距离，第一距离和第二距离的比值大于1小于6。例如，结合图7参考图8，第一信号屏蔽线p1和封装坝dam1在显示面板的右上方圆角某一区域之间的距离a等于第一信号屏蔽线p1和封装坝dam1在显示面板的顶部平直区域之间的距离b。根据本发明的一些实施例，第一信号屏蔽线和封装坝之间的第一距离大于第一信号屏蔽线和与该第一信号屏蔽线相邻的外虚设走线之间的第二距离。在一个示例
中，上述的第一距离和第二距离之间的比值可以在1至6的范围内。如图8所示，第一信号屏蔽线p1和封装坝dam1之间的距离a或b可为40μm-170μm，第一信号屏蔽线p1和与该第一信号屏蔽线p1相邻的外虚设走线之间的第二距离d可为30μm-40μm。在另外的示例中，第一信号屏蔽线p1和封装坝dam1之间的距离a或b可为75μm-120μm或75μm-130μm。
46.根据本发明的一些实施例，第一信号屏蔽线p1的宽度大于第二信号屏蔽线p2的宽度。第一信号屏蔽线p1的宽度可以是第二信号屏蔽线p2的宽度的3-5倍。在图8的示例中，第二信号屏蔽线p2具有3μm-5μm的宽度，而第一信号屏蔽线具有大约15μm的宽度。
47.在图9中，不仅示出了多条信号走线t1、t2、外虚设走线dummy trace、第一信号屏蔽线p1、第二信号屏蔽线p2，还图示了包括多个触控电极块e的触控电极。根据本发明的一些实施例，触控电极层包括并行排列的多个第一触控电极和并行排列的多个第二触控电极，第一触控电极和第二触控电极相互交叉。每个第一触控电极和每个第二触控电极可包括彼此间隔的多个触控电极块，多个触控电极块中相邻的两个触控电极块经由桥接层而彼此连接。图9图示了多个触控电极块，一行或一列触控电极块经由桥接层（图7中未示出）彼此电连接而形成第一触控电极或第二触控电极。这里提到的第一触控电极或第二触控电极可以是前述的发射电极或者接收电极。如图9所示，由触控电极块e形成的第一触控电极和第二触控电极分别与第一信号走线t1或第二信号走线t2连接。在一些实施例中，触控电极块e可与上述的第二金属线由相同的材料、并在同一工艺中制成。触控电极块e和第二金属线所作的层在图9中被标识为metal2 layer。
48.根据本发明的一些实施例，衬底基板还包括布置在衬底基板上的至少一条裂纹检测线。在图9的示例中，裂纹检测线pcd位于非显示区的外边界和第一信号屏蔽线p1之间，裂纹检测线pcd可以围绕第一信号屏蔽线p1，其延伸图案可以与第一信号屏蔽线p1的延伸图案一致。在制作显示面板的过程中，可能涉及对衬底基板进行切割或类似的机械工艺，例如，基于制作好的母板切割出多个显示面板单元，或者切除显示面板的不必要的外缘部分。在机械切割的过程中，显示面板或衬底基板在切口处可能产生裂纹，裂纹检测线pcd至少可以防止裂纹损害显示面板，或者说，有了裂纹检测线，裂纹可以停止于裂纹检测线，而不会再朝显示区的方向进一步延伸。在一些实施例中，裂纹检测线pcd可以与上述的触控电极块e和第二金属线在同一工艺中制作，即，裂纹检测线所在的层在图9中也被标识为metal2 layer。
49.根据本发明的一些实施例，裂纹检测线和第一信号屏蔽线p1之间的第三距离小于上述的第二距离d（即，第一信号屏蔽线p1和与该第一信号屏蔽线p1相邻的外虚设走线之间的第二距离）。在一个示例中，第一信号屏蔽线p1和与该第一信号屏蔽线p1相邻的外虚设走线之间的第二距离是上述的第三距离的2-3倍。如前所述，在第二距离d可为30μm-40μm，裂纹检测线pcd和第一信号屏蔽线p1之间的第三距离约为14μm。
50.进一步地，根据本发明的一些实施例，显示面板包括两条裂纹检测线，如图9所示。这两条裂纹检测线的延伸图案相同，可以与第一信号屏蔽线p1一致，且这两条裂纹检测线之间的间距保持大致恒定。在一些实施例中，每条裂纹检测线可具有4μm的宽度，两条裂纹检测线之间可保持15μm左右的间距。
51.根据本发明的一些实施例，衬底基板包括圆角部分，第二区域包括处于所述圆角部分内的弯曲区域和处于所述圆角部分外部的平直区域，所述弯曲区域包括第一空隙，所
述平直区域包括第二空隙。第一空隙由所述多条外虚设走线中处于所述弯曲区域内的一条外虚设走线的端部和与该一条外虚设走线相邻的外虚设走线共同形成，所述第二空隙由所述多条外虚设走线中处于所述平直区域内的另一条外虚设走线的端部和与该另一条外虚设走线相邻的外虚设走线共同形成，所述第一空隙的面积大于所述第二空隙的面积。
52.继续参照图7和图9，非显示区的多条外虚设走线中的一些外虚设走线可围成小的空隙，这些小的空隙可与某条或某些外虚设走线的端部有关。图9示意性地示出了两条外虚设走线的端部分别与其他的外虚设走线围成的空隙s1、s2。图9中示意性地示出的空隙s1和s2可分别对应于上述的第一空隙s1和第二空隙s2。第一空隙s1由所述多条外虚设走线dummy trace处于弯曲区域内的一条外虚设走线dta的端部和与该一条外虚设走线dta相邻的外虚设走线共同形成，第二空隙s2由多条外虚设走线dummy trace中处于所述平直区域内的另一条外虚设走线dtb的端部和与该另一条外虚设走线相邻的外虚设走线共同形成，第一空隙s1的面积大于第二空隙s2的面积。外虚设走线之间的诸如上述的第一空隙和第二空隙之类的空隙可以有效地防止或降低可能聚集在外虚设走线的端部处的静电对其他外虚设走线的影响。如图9所示，处于弯曲区域的第一外虚设走线dta的端部大致呈锥体形状，使得第一空隙s1的面积较大，便利于弯曲区域外虚设走线的制作，同时也能防止或降低可能聚集在外虚设走线的端部处的静电导致的不利影响。
53.图10示出了上述示例中提及的第一金属线，第一金属线可以处于第二金属线的下方，在图10中，第一金属线所在的层被标识为metal1 layer。上述的桥接层（图10中未示出）可以用与第一金属线相同的材料、在同一工艺中制成。由此，能够理解到的是，图9同样表示了metal2 layer中的部分的走线布局。
54.根据本发明的一些实施例，用于制作第一金属线和第二金属线的材料包括钛、银和氧化铟锡中的至少一种。在一个示例中，第一金属线和第二金属线中的至少一个包括铝层以及位于所述铝层两侧的钛层。或者，第一金属线和第二金属线中的至少一个包括银层以及位于所述银层两侧的氧化铟锡层。由此，第一金属线可包括ti/al/ti三层金属结构或者ito/ag/ito三层金属结构，同样地，第二金属线也可包括ti/al/ti三层金属结构或者ito/ag/ito三层金属结构。
55.图11图示了图7所示的两个q2区域的局部放大示意图，即，图11可以被视为图7中的两个q2区域合并后放大示意图。结合图7、图11和图4，图11所示的非显示区仍位于衬底基板的第一部分1a，衬底基板的弯曲部分ba在图11中没有被示出，如果衬底基板处于平直状态，弯曲部分可以位于图11所示的区域的正下方。如图11所示，多个外虚设走线dt2（即，前述实施例中提到的第二虚设走线）分布在第二区域内，并且位于多条信号走线的两侧，且位于第一信号屏蔽线p1（例如，gnd线）的外侧，如图11中的矩形虚线框所示。如前所述，在制作显示面板的过程中增加第二虚设走线dt2的制作可以促进对金属膜层刻蚀的均一性，有利于提升触控显示面板或显示装置的触控性能，同时，第二虚设走线dt2靠近弯曲区，还可以降低其所在区域及相邻区域的膜层在衬底基板弯曲过程中脱离衬底基板的风险，提升显示面板的结构的稳定性。
56.如前所述，在本发明的一些实施例中，包括信号走线在内的各个走线包括双层金属线，以降低信号走线的电阻，同时便利于各种走线与触控电极层的制作过程。在一些实施例中，不同区域的信号走线的第一金属线可以采用不同的材料制成，或者，不同区域的信号
走线中的第一金属线可以在不同的制备工艺中完成。例如，对于可弯折的显示面板，衬底基板经由弯折区形成第一部分和第二部分，所述第一部分包括所述非显示区的处于弯折区和显示区之间的中间非显示区，图11可被视为中间非显示区的局部示意图的一个示例。如图11所示，sd可表示与显示面板显示区中薄膜晶体管的源极或漏极同层但是相互隔离的结构，即，本文所提到的源漏信号线。在一些实施例中，源漏信号线sd与一部分外虚设走线（例如，图11中示出的第二虚设走线dt2）至少存在部分重叠面积，且相互绝缘。进一步地，源漏信号线sd可以与至少一部分信号走线存在部分重叠面积，且相互绝缘。
57.根据本发明的另外的实施例，显示面板还包括用于将像素电极（例如，oled显示面板的有机发光器件的阳极）和薄膜晶体管的源极或漏极电连接的转接电极，在该情形中，图11中的sd可以表示与转接电极同层且相互隔开的结构，即，本文中提到的转接电极信号线。在一些实施例中，转接电极信号线与至少一部分外虚设走线至少存在部分重叠面积，且相互绝缘。进一步地，转接电极信号线sd与至少一部分信号走线至少存在部分重叠面积，且相互绝缘。在一些实施例中，如图11所示，源漏信号线sd或者转接电极信号线sd还设置有多个开孔，用于释放下层膜层的气体。至少一个开孔与至少一部分外虚设走线至少存在部分重叠面积。进一步地，至少一个开孔与至少一部分信号走线至少存在部分重叠面积。
58.根据本发明的一些实施例，在上述的弯折区内，包括信号走线在内的各类走线中的至少一类走线可以借助于显示面板的其它导电结构实现。例如，显示面板可包括像素电极和用于驱动显示面板的像素发光的薄膜晶体管，显示面板的像素驱动电路中的与薄膜晶体管的源漏极在同一工艺中形成的上述源漏信号线可以充当信号走线。参见图11和12，图12示意性地示出了图11中的中间非显示区临近弯折区的区域沿着d1-d2方向的截面图，其中m2表示第二金属线，sd表示充当第一金属线的源漏信号线。根据本发明的一些实施例，在弯折区内，可以利用显示面板中的上述的其它导电结构作为上述的各类走线，因此，第二金属线和第一金属线可不延伸至弯折区，所述其它导电结构在弯折区内延伸到达例如上述的第二部分时，其可与第二部分中的第二金属线电连接。也就是说，在第二部分中，包括信号走线在内的各类走线可以具有图7中的q1区域中的信号走线类似的结构，即，包括彼此电连接的第一金属线和第二金属线。
59.如前所述，在一些实施例中，显示面板还包括用于将像素电极和薄膜晶体管的源极或漏极电连接的转接电极、以及与所述转接电极在同一制作工艺中形成的转接电极信号线，同样地，可以利用转接电极信号线充当弯折区内的各类走线，因此，在中间非显示区靠近弯折区的区域，转接电极信号线通过贯穿其上方的第二绝缘层的过孔而与第二金属线电连接，这同样地可由图12示意性地示出。在弯折区内，可利用转接电极信号线充当各类走线，此时，第二金属线和第一金属线都不延伸至弯折区。转接电极信号线在弯折区内延伸到达例如上述的第二部分时，其可与第二部分中的第二金属线电连接。同样地，在第二部分中，包括信号走线在内的各类走线可以具有图7中的q1区域中的信号走线类似的结构，即，包括彼此电连接的第一金属线和第二金属线。
60.图13示意性地示出了包括转接电极的显示面板的局部截面图。如图13所示，显示面板包括衬底基板100和位于衬底基板上的像素驱动电路和发光器件。像素驱动电路可包括薄膜晶体管和电容器，电容器包括第一电容电极112和第二电容电极113，薄膜晶体管包括有源层108、栅极109、源极110和漏极111。发光器件包括阳极1141、发光功能层1142和阴
极1143。如图13所示，显示面板还包括处于源极110和阳极1141之间的转接电极121，转接电极121穿透绝缘层将像素电极（例如，阳极1141）与源极110电连接。对于图13所示的显示面板，可以在制作转接电极121的过程中，形成上述的转接电极信号线，该转接电极信号线可作为上述的中间非显示区内的第一金属线。根据本发明的又一实施例，显示面板可包括像素驱动电路，像素驱动电路包括电容器，电容器包括电容电极，例如图13中的第一电容电极112和第二电容电极113，所述显示面板还包括与电容电极（例如，第二电容电极113）在同一制作工艺中形成、处于所述非显示区的电容信号线。
61.根据本发明的另外的实施例，上述提及的其它导电结构可以包括与栅极同层形成的导电结构或电容信号线，也可以是上述提及到的各种导电结构的组合，例如，电容信号线和转接电极信号线可以一起作为弯折区的信号走线，或者，转接电极信号线可以只在中间非显示区临近弯折区的区域起电连接作用，而不作为信号走线。弯折区内包括信号走线的各类走线可以根据需求进行设计，在此不做限制。如前所述，弯折区位于图11所示的线d1-d2所在区域的下方，这里不再示出。
62.本文提到的“源漏信号线”、“转接电极信号线”、“电容信号线”并不是指源漏极转接电极、或者电容器自身，而是分别指在制作源漏极、转接电极、以及电容器的过程中在衬底基板的非显示区上与源漏极、转接电极或者电容器电极一同形成的信号线，因此，它们与源漏极、转接电极或电容电极具有相同的材料，但不与源漏极、转接电极或电容电极连接。
63.进一步地，根据本发明的另外的实施例，上述的中间非显示区内的第一金属线可包括转接电极信号线、源漏信号线以及电容信号线中的至少一者。或者说，转接电极信号线、源漏信号线以及电容信号线中的任何两个或更多可同时充当第一金属线。例如，中间非显示区内的第一金属线可包括源漏信号线和转接电极信号线，或者可包括转接电极信号线和电容信号线。
64.在一些实施例中，从触摸控制器延伸至显示区的触控电极层的每条信号走线t1、t2的宽度并不是保持不变的，例如，每条信号走线的靠近触摸控制器的部分的宽度要小于远离触摸控制器的部分的宽度，这是因为触摸控制器附近的用于布局信号走线的空间要小于远离触摸控制器的区域中的布线空间。例如，可以让信号走线从触摸控制器到触控电极层逐渐变宽，这样可以减小信号走线的整体电阻。在一些实施例中，多条信号走线中的不同信号走线的宽度也存在差异。例如，可以将这些信号走线布置成越是远离显示区，宽度越大。也就是说，所述多条信号走线中远离显示区的信号走线的平均宽度大于靠近显示区的信号走线的平均宽度。这样，一方面，可以充分利用距离显示区相对较远区域的相对富裕的布线空间，降低单个信号走线的电阻，另一方面，还有利于缩小不同的信号走线之间的整体电阻的差异，因为远离显示区而处于最外侧的信号走线的较宽的平均宽度可以在一定程度上弥补由于该信号走线延伸长度较长导致的电阻增加。在一个示例中，各条信号走线远离触摸控制器的部分的宽度可在3微米到50微米之间变化。如果信号走线的宽度过大，信号走线的整体电阻的降低的效果也逐渐减小，而且容易与显示装置的其他部件（例如，oled显示面板中的阴极）形成较大的电容，不利于显示装置的触控性能。对于本发明的实施例，通过设置一定数量的虚设走线，有利于实现制作信号走线的过程中对金属膜层进行均一性的刻蚀，提升触控显示面板或显示装置的触控性能，同时，也允许实现信号走线的合理的较大的宽度，尽可能缩小不同的信号走线之间的电阻差异。
65.上述实施例中提到的显示面板可以是各种类型的显示面板，包括但不限于例如有机发光二极管（oled）显示面板、液晶显示（lcd）面板等。在oled显示面板的情形中，上述的触控电极层可以制作在发光层的上方。也就是说，显示面板此时还包括处于触控电极层和衬底基板之间的像素结构层，所述像素结构层包括阳极、阴极以及二者之间的有机发光层。
66.本发明的另一实施例提供了一种显示装置，该显示装置包括上述实施例所述的显示面板。本发明并不对显示装置的类型或用途进行任何的限定，该显示装置可以是任何具有显示功能的电子设备或部件，显示装置的示例包括但不限于移动电子设备、导航仪、手表、打印机、计算机、掌上电脑、电视机等等。
67.本发明的另外的实施例还提供了一种制作显示面板的方法，该方法可包括如下步骤：b1、提供衬底基板，所述衬底基板包括显示区和处于所述显示区周围的非显示区；b2、在所述衬底基板的所述显示区内形成触控电极层；b3、在所述非显示区与所述显示区相邻的第一区域内形成多条信号走线，所述多条信号走线与所述触控电极层电连接；b4、在所述非显示区的第二区域内形成多条外虚设走线，所述第二区域处于所述第一区域和所述非显示区的外边界之间，所述多条外虚设走线与所述多条信号走线彼此分离。
68.上述实施例列出的各个步骤b1-b4并不意味着这些步骤必须先后依次完成或者在不同的工艺制程中完成，而是仅仅意味着该实施例所述的制作显示面板的方法涉及上述的步骤b1-b4。例如，根据本发明的一些实施例，上述的步骤b2、b3和b4可以在同一工艺中进行，即，触控电极层、信号走线、外虚设走线可以在同一制备工艺中完成。
69.如前所述，根据本发明的一些实施例，触控电极层包括并行排列的多个第一触控电极和并行排列的多个第二触控电极，所述多个第一触控电极和所述多个第二触控电极相互交叉。每个第一触控电极和每个第二触控电极包括彼此间隔的多个触控电极块，所述多个触控电极块中相邻的两个触控电极块经由桥接层而彼此连接，其中每条信号走线和每条外虚设走线包括彼此电连接的第一金属线和第二金属线。在该情形中，制作所述触控电极层、所述多条信号走线以及所述多条外虚设走线包括：在所述衬底基板上形成第一绝缘层；在所述第一绝缘层上形成第一金属层，并使所述第一金属层图案化以形成所述桥接层和所述第一金属线；在所述桥接层、所述第一金属线上形成图案化的第二绝缘层；在所述图案化的第二绝缘层上制作图案化的第二金属层，以形成所述多个触控电极块和所述第二金属线，所述第二金属线经由所述图案化的第二绝缘层中的过孔连接至所述第一金属线。
70.在显示面板还包括上述的处于所述非显示区的第一信号屏蔽线和第二信号屏蔽线的实施例中，制作显示面板的方法还包括：基于所述第一金属层和所述第二金属层，在制作所述多条信号走线以及多条外虚设走线的过程中形成所述第一信号屏蔽线和第二信号屏蔽线。也就是说，第一信号屏蔽线、第二信号屏蔽线、外虚设走线、信号走线、触控电极层均可在同一制备工艺中制作完成。
71.进一步地，在显示面板还包括前述实施例中描述的中间虚设走线的情形中，可以在制备外虚设走线、信号走线、触控电极层的过程中一同形成这些中间虚设走线。
72.根据本发明的一些实施例，第一信号屏蔽线、第二信号屏蔽线、外虚设走线、信号走线中以及中间虚设走线中的至少一个包括双层走线（即，上述的第一金属线和第二金属线）。为了简便起见，下面结合图14的示例概括性地说明出制备上述的第一信号屏蔽线、第二信号屏蔽线、外虚设走线和信号走线的过程。如图14所示，在步骤s1中，提供衬底基板，该
衬底基板上可制备有显示面板一些必要的部件，例如，对于oled显示面板，衬底基板上可制备有像素驱动电路、像素结构层（例如，包括阳极、有机发光层、阴极）。在步骤s2中，在衬底基板上形成第一绝缘层in1，形成第一绝缘层in1的材料包括但不限于sinx。在步骤s3中，在第一绝缘层in1上用导电材料形成图案化的第一金属层m1，第一金属层m1的材料包括但不限于钛、铝、银、氧化铟锡、以及它们中任何材料的组合等等。第一金属层m1的图案可包括上述实施例中所述的第一金属线的图案和桥接层的图案。在步骤s4中，形成第二绝缘层in2并对其进行图案化处理，使得第二绝缘层in2中形成一些露出第一金属层m1的过孔。在步骤s5中，在图案化的第二绝缘层in2上形成第二金属层m2，并对第二金属层m2进行图案化处理。第二金属层m2的图案可包括上述实施例中所述的第二金属线的图案和触控电极块的图案。在步骤s6中，在图案化的第二金属层m2上形成保护层pl，保护层pl的材料包括但不限于聚酰亚胺。
73.以上具体描述了本发明的一些示例性实施例，但是本领域技术人员在实践所要求保护的发明时根据对附图、公开内容已经权利要求的研究，能够理解和实现所公开实施例的其他变型。在权利要求中，词语“包括”不排除其它元件的存在。虽然一些特征被记载在不同的从属权利要求中，但是本发明也意图涵盖将这些特征组合在一起的实施例。