光学临近效应修正方法及系统和掩膜版与流程

技术特征：
1.一种光学临近效应修正方法，其特征在于，光学临近效应修正方法包括：获取当前层的前一层的图形，并根据所述前一层的图形，对光刻的原始设计图形中当前层的区域进行分类，以获得所述原始设计图形中的区域所属的类别，其中，所述区域所属的类别包括所述原始设计图形中当前层中与前一层上下重叠的重叠区域和不重叠的非重叠区域；对各个类别的区域设定优先级，其中，所述重叠区域的优先级高于所述非重叠区域的优先级；在所述原始设计图形的边缘设置多个目标点，其中，所述重叠区域的边缘设置的目标点的密度大于所述非重叠区域设置的目标点的密度；根据opc模型获得所述原始设计图形的修正图形，并对所述修正图形进行模拟，以获得图形模拟结果；计算各个所述目标点处所述图形模拟结果和所述原始设计图形之间的差异；根据所述差异以及目标点的权重，对所述修正图形进行调整，以获得调整后的修正图形，对所述调整后的修正图形进行模拟，以获得图形模拟结果，计算各个所述目标点处所述图形模拟结果和所述修正图形之间的差异；反复执行所述根据所述差异以及目标点的权重，对所述修正图形进行调整，以获得调整后的修正图形，对所述调整后的修正图形进行模拟，以获得图形模拟结果，计算各个所述目标点处所述图形模拟结果和所述修正图形之间的差异的步骤进行迭代，直到获得最终的修正图形。2.如权利要求1所述的光学临近效应修正方法，其特征在于，所述当前层为栅极介电层，所述前一层为有源区层。3.如权利要求2所述的光学临近效应修正方法，其特征在于，所述重叠区域为栅极区。4.如权利要求1所述的光学临近效应修正方法，其特征在于，所述原始设计图形包括u状图形。5.如权利要求1所述的光学临近效应修正方法，其特征在于，所述差异为边缘放置误差。6.如权利要求1所述的光学临近效应修正方法，其特征在于，所述边缘包括线条端和邻边片段，所述设置目标步骤，还包括：对所述原始设计图形的边缘进行解析分割，以获得多个邻边片段及线条端；在所述线条端和所述邻边片段设置所述目标点。7.一种光学临近效应修正系统，其特征在于，所述光学临近效应修正系统包括：存储器，用于存储可执行的程序指令；处理器，用于执行所述存储器中存储的所述程序指令，使得所述处理器执行如权利要求1至6任一项所述的光学临近效应修正方法。8.一种掩膜版，其特征在于，所述掩膜版包括：本体；设置于所述本体上的掩膜版图形，所述掩膜版图形为基于如权利要求1至6所述的光学临近效应修正方法所获得的修正图形。

技术总结
本发明提供了一种光学临近效应修正方法及系统和掩膜版，该方法包括：根据当前层的前一层的图形对光刻的原始设计图形中当前层的区域进行分类以获得区域所属的类别，区域所属的类别包括原始设计图形中当前层中与前一层上下重叠的重叠区域和不重叠的非重叠区域；对各个类别的区域设定优先级，其中，重叠区域的优先级高于非重叠区域的优先级；在原始设计图形的边缘设置多个目标点，所述重叠区域的边缘设置的目标点的密度大于所述非重叠区域设置的目标点的密度；根据OPC模型获得原始设计图形的修正图形，并对其进行模拟以获得图形模拟结果；计算各个目标点处图形模拟结果和原始设计图形之间的差异；根据差异以及目标点的权重，对修正图形进行调整。对修正图形进行调整。对修正图形进行调整。


技术研发人员：孙鹏飞 王谨恒 陈洁 朱斌 张剑 曹楠
受保护的技术使用者：无锡华润上华科技有限公司
技术研发日：2020.12.03
技术公布日：2022/6/10