显示模组及其制作方法、显示装置与流程

技术特征：
1.一种显示模组，其特征在于，包括：衬底基板；多个压电结构，位于所述衬底基板的第一侧；至少一个隔离部，位于所述衬底基板的第一侧，且被配置为将任意两个相邻的压电结构分隔开；其中，压电结构、隔离部以及压电结构与隔离部之间三个位置中的至少一个位置上设置有像素孔；所述显示模组还包括多个像素结构，每个像素结构位于一个所述像素孔中。2.根据权利要求1所述的显示模组，其特征在于，所述压电结构包括依次远离所述衬底基板的第一电极、压电膜和第二电极；其中，至少部分所述像素孔中的每个所述像素孔穿过所述第一电极、所述压电膜和所述第二电极。3.根据权利要求2所述的显示模组，其特征在于，所述压电膜的材料包括锆钛酸铅，所述压电膜的厚度为1μm～2μm。4.根据权利要求2所述的显示模组，其特征在于，所述第一电极包括依次远离所述衬底基板的钛金属层和第一铂金属层，所述钛金属层的厚度为9nm～11nm，所述第一铂金属层的厚度为90nm～110nm；和/或，所述第二电极包括第二铂金属层，所述第二铂金属层的厚度为45nm～55nm。5.根据权利要求2～4中任一项所述的显示模组，其特征在于，所述显示模组还包括：绝缘保护层，位于所述衬底基板的第一侧，所述绝缘保护层至少覆盖所述压电结构远离所述衬底基板的表面和所述压电结构靠近所述像素结构的侧面；连接导线，位于所述绝缘保护层远离所述衬底基板的一侧，所述连接导线通过所述绝缘保护层上的过孔将多个所述压电结构的所述第二电极电连接在一起。6.根据权利要求1～4中任一项所述的显示模组，其特征在于，所述像素结构包括依次远离所述衬底基板的阴极、发光功能层和阳极；其中，所述衬底基板为透明衬底基板，所述压电结构和所述隔离部在垂直于所述衬底基板的方向上均不透光，所述阳极包括反射电极。7.根据权利要求6所述的显示模组，其特征在于，所述反射电极包括依次远离所述发光功能层的铝金属层和镁银合金层。8.根据权利要求1～4中任一项所述的显示模组，其特征在于，所述压电结构与所述隔离部沿平行于所述衬底基板的方向依次交替排列。9.根据权利要求1～4中任一项所述的显示模组，其特征在于，所述显示模组还包括：封装层，位于所述衬底基板的第一侧，所述封装层被配置为将多个所述压电结构和多个所述像素结构封装于所述衬底基板上。10.一种显示装置，包括：如权利要求1～9中任一项所述的显示模组。11.一种显示模组的制作方法，包括：提供衬底基板；在所述衬底基板的第一侧形成多个压电结构；
在所述衬底基板的第一侧形成至少一个隔离部，所述至少一个隔离部被配置为将任意两个相邻的压电结构分隔开；其中，压电结构、隔离部以及压电结构与隔离部之间三个位置中的至少一个位置上设置有像素孔；在所述衬底基板的第一侧形成多个像素结构，每个像素结构位于一个所述像素孔中。12.根据权利要求11所述的制作方法，其特征在于，所述在所述衬底基板的第一侧形成多个压电结构，包括：在所述衬底基板的第一侧形成多个第一电极；采用溅射工艺，在多个所述第一电极远离所述衬底基板的表面上沉积压电材料，并对所述压电材料进行退火处理；在经过退火处理的所述压电材料远离多个所述第一电极的表面上形成多个第二电极；在形成有多个所述第二电极后，对经过退火处理的所述压电材料进行极化处理，以形成多个压电膜。13.根据权利要求12所述的制作方法，其特征在于，所述在所述衬底基板的第一侧形成多个压电结构，包括：刻蚀多个所述第二电极，形成暴露出多个所述压电膜的多个第一开口；刻蚀多个所述压电膜被多个所述第一开口暴露出的部分，形成暴露出多个所述第一电极的多个第二开口；刻蚀多个所述第一电极被多个所述第二开口暴露出的部分，形成暴露出所述衬底基板的多个第三开口；其中，依次连通的第一开口、第二开口和第三开口为一个所述像素孔。14.根据权利要求12或13所述的制作方法，其特征在于，在形成所述压电结构之后、且形成所述像素结构之前，还包括：在衬底基板的第一侧形成绝缘保护层，所述绝缘保护层至少覆盖所述压电结构远离所述衬底基板的表面和所述压电结构靠近所述像素结构的侧面；刻蚀所述绝缘保护层，以形成暴露出多个所述第二电极的多个过孔；在形成所述像素结构之后，还包括：在所述绝缘保护层远离所述衬底基板一侧形成导电连接膜层，所述导电连接膜层包括连接导线，所述连接导线通过多个所述过孔将多个所述压电结构的第二电极电连接在一起。

技术总结
本发明提供一种显示模组及其制作方法、显示装置，涉及显示技术领域，用于同时实现显示功能和表面触觉再现功能。该显示模组包括：衬底基板；多个压电结构，位于衬底基板的第一侧；至少一个隔离部，位于衬底基板的第一侧，且被配置为将任意两个相邻的压电结构分隔开；其中，压电结构、隔离部以及压电结构与隔离部之间三个位置中的至少一个位置上设置有像素孔；显示模组还包括多个像素结构，每个像素结构位于一个像素孔中。本发明提供的显示模组，具有表面触觉再现功能。表面触觉再现功能。表面触觉再现功能。


技术研发人员：陈右儒
受保护的技术使用者：京东方科技集团股份有限公司
技术研发日：2020.11.18
技术公布日：2022/6/4