一种设计版图缺陷修复方法、存储介质及设备与流程

一种设计版图缺陷修复方法、存储介质及设备
【技术领域】
1.本发明涉及图形修复技术技术领域，其特别涉及一种设计版图缺陷修复方法、存储介质及设备。


背景技术：

2.现有的针对设计版图的图形修复方法中修正过程非常依赖工程师的经验，自动化过程不高，修复迭代次数过多，导致了对设计版图修复的周期长，消耗时间多。


技术实现要素：

3.为了解决对设计版图修复消耗时间多的问题，本发明提供一种设计版图缺陷修复方法、存储介质及设备。
4.本发明为解决上述技术问题，提供如下的技术方案：一种设计版图缺陷修复方法，所述方法包括以下步骤：提供设计版图，并通过设计版图获取掩模版图；获取所述设计版图上的缺陷信息；根据所述缺陷信息及预设的修复规则对所述掩模版图进行修复得到已修复的掩模版图。
5.优选地，获取所述设计版图上的缺陷信息，具体包括以下步骤：对所述掩模版图进行模拟仿真得到初次曝光轮廓；将所述曝光轮廓与所述设计版图经光刻规则检测得到所述缺陷信息。
6.优选地，所述缺陷信息包括缺陷类型信息及缺陷位置信息，所述预设修复规则为根据缺陷类型以及缺陷位置对应的缺陷修改方式。
7.优选地，对所述设计版图进行修复包括以下步骤：对所述掩模版图进行修复包括以下步骤：根据所述缺陷信息获取所述缺陷对应的所述掩模版图的缺陷边；根据所述修复规则及所述缺陷类型信息移动所述缺陷边得到所述已修复掩模版图。
8.优选地，根据所述缺陷信息获取所述缺陷对应的所述掩模版图的缺陷边包括以下步骤：根据所述缺陷位置信息界定标记区域；所述掩模版图至少部分落入所述标记区域内的边为所述缺陷边。
9.优选地，所述界定标记区域包括以下步骤：根据所述缺陷位置信息得到所述缺陷的中心点；以所述中心点为基准位置，根据预设尺寸界定所述标记区域。
10.优选地，根据所述修复规则移动所述缺陷边得到所述已修复掩模版图包括以下步骤：根据所述缺陷类型信息及所述修复规则判定所述缺陷边的移动方向及移动距离；根据所述移动方向及所述移动距离移动所述缺陷边。
11.优选地，在修复所述缺陷之后还包括以下步骤：再次对所述已修复掩模版图进行仿真模拟生成曝光轮廓并对曝光轮廓进行缺陷检测，若对所述缺陷修复未达到预设情况，则对所述已修复掩模版图再次进行修复。
12.优选地，所述掩模版图为已经过光学邻近效应校正(optical proximity correction，opc)的掩模版图，或为未经过opc的掩模版图。
13.本发明为解决上述技术问题，提供又一技术方案如下：一种计算机可读存储介质，其上存储有计算机程序指令，所述计算机程序指令被处理器执行时实现如上所述的设计版图缺陷修复方法。
14.本发明为解决上述技术问题，提供又一技术方案如下：一种设计版图缺陷修复设备，所述设备包括设备本体和设备运行程序，所述设备本体执行所述设备运行程序时实现如上所述的设计版图缺陷修复方法。
15.与现有技术相比，本发明所提供的一种设计版图缺陷修复方法、存储介质及设备，具有如下的有益效果：
16.1.本发明所提供的一种设计版图缺陷修复方法，方法包括以下步骤，提供设计版图，并通过设计版图获取掩模版图；获取设计版图上的缺陷信息；根据缺陷信息及预设的修复规则对掩模版图进行修复得到已修复的掩模版图。该方法对设计版图的缺陷进行分类以及信息确认，可以判断出缺陷的类型，以该缺陷的类型预设的修复规则，以缺陷位置为实际，按照预设规则进行修复可以快速对缺陷完成修复，总体可以对设计版图的缺陷进行准确的判断且进行掩模版图快速的修复，极大的减少了对设计版图缺陷进行修复所需要花费的时间。
17.2.本发明所提供的一种设计版图缺陷修复方法，获取设计版图上的缺陷信息，具体包括以下步骤：对掩模版图进行模拟仿真得到初次曝光轮廓；将曝光轮廓与设计版图经光刻规则检测得到缺陷信息。对掩模版图进行仿真模拟得到初次曝光轮廓，对曝光轮廓以及设计版图进行光刻规则检测得到缺陷信息，可以快速的获取缺陷信息，方便后续依据缺陷信息对缺陷进行分类和定位等，以便于减少后续对缺陷进行修复所需要花费的时间。
18.3.本发明所提供的一种设计版图缺陷修复方法，缺陷信息包括缺陷类型信息及缺陷位置信息，预设修复规则为根据缺陷类型以及缺陷位置对应的缺陷修改方式。通过对设计版图上的缺陷信息进行识别，可以依据缺陷的类型以及位置等信息，便于后续步骤的进行。对设计版图缺陷的类型进行识别可以保使得后续对其修复的方式为对应方式，对设计版图缺陷的所在位置以及缺陷对应的掩模版图属性进行判定可以方便后续对其缺陷对应的缺陷边进行判断标记以及移动，提高了设计版图修复的效率，减少了所需消耗的时间。
19.4.本发明所提供的一种设计版图缺陷修复方法，对掩模版图进行修复包括以下步骤：根据缺陷信息获取缺陷对应的掩模版图的缺陷边；根据修复规则及缺陷类型信息移动缺陷边得到已修复掩模版图。针对不同的缺陷，依据缺陷的信息直接根据预设的修复规则对缺陷边进行针对该缺陷的移动，以对缺陷进行修复，加快了缺陷修复的进程，减少了缺陷修复所花费的时间。
20.5.本发明所提供的一种设计版图缺陷修复方法根据缺陷信息获取缺陷对应的掩模版图的缺陷边包括以下步骤：根据缺陷位置信息界定标记区域；掩模版图至少部分落入标记区域内的边为缺陷边。根据缺陷信息对缺陷的位置信息进行标定可以方便后续对缺陷边进行判定，通过界定的区域使得掩模版图的部分边落入界定区域内，并标记为缺陷边。通过区域判定出缺陷边，便于后续对缺陷的修复，减少了设计版图的缺陷修复所花费的时间。
21.6.本发明所提供的一种设计版图缺陷修复方法，界定标定区域包括以下步骤：根据缺陷位置信息得到缺陷的中心点；以中心点为基准位置，根据预设尺寸界定标记区域。依据缺陷的类型以及所在的位置以及所标记边的关系，同时通过特定规则判定出边的移动方
向，可以更快的对设计版图的缺陷进行修复，进而减少了时间的消耗。
22.7.本发明所提供的一种设计版图缺陷修复方法，根据修复规则移动缺陷边得到已修复掩模版图包括以下步骤：根据缺陷类型信息及修复规则判定缺陷边的移动方向及移动距离；根据移动方向及移动距离移动缺陷边。针对缺陷的类型信息以及位置信息，对缺陷边进行移动方向和距离的判定，可以更加快速且稳定的对缺陷进行修复。
23.8.本发明所提供的一种设计版图缺陷修复方法，在修复缺陷之后还包括以下步骤：再次对已修复掩模版图进行仿真模拟生成曝光轮廓并对曝光轮廓进行缺陷检测，若对缺陷修复未达到预设情况，则对已修复掩模版图再次进行修复。通过对已修复的掩模版图所生成的仿真曝光轮廓再次进行缺陷检测，以防止缺陷的修复未达到预设情况，对缺陷修复未达到预设情况的已修复掩模版图继续进行修复，形成多次迭代，直到最终输出的已修复的掩模版图对缺陷的修复达到预设情况。
24.9.本发明所提供的一种设计版图缺陷修复方法，掩模版图为已经过光学邻近效应校正(optical proximity correction，opc)的掩模版图，或为未经过opc的掩模版图。采用已经过光学邻近效应校正的设计版图可以减少设计版图的缺陷，进而减少了设计版图缺陷修复所需要的花费的时间。
25.10.本发明所提供的一种计算机可读存储介质，其上有计算机程序指令，计算机程序指令被处理器执行时实现上述一种设计版图缺陷修复方法。该计算机可读储存介质具有和上述一种设计版图缺陷修复方法相同的有益效果，在此不做赘述。
26.11.本发明所提供的一种设计版图缺陷修复设备，包括设备本体和设备运行程序，设备本体执行设备运行程序时实现上述一种设计版图缺陷修复方法。该设备具有和上述一种设计版图缺陷修复方法相同的有益效果，在此不做赘述。
【附图说明】
27.图1是本发明第一实施例提供的一种设计版图缺陷修复方法的流程图。
28.图2是本发明第一实施例提供的一种设计版图缺陷修复方法的步骤s0的流程图。
29.图3是本发明第一实施例提供的一种设计版图缺陷修复方法的步骤s2的流程图。
30.图4是本发明第一实施例提供的一种设计版图缺陷修复方法的步骤s3的流程图。
31.图5是本发明第一实施例提供的一种设计版图缺陷修复方法的步骤s31的流程图。
32.图6是本发明第一实施例提供的一种设计版图缺陷修复方法的步骤s311的流程图。
33.图7是本发明第一实施例提供的一种设计版图缺陷修复方法的步骤s312之后的流程图。
34.图8是本发明第一实施例提供的一种设计版图缺陷修复方法的步骤s4的流程图。
35.图9是本发明第一实施例提供的一种设计版图缺陷修复方法的示例性流程的掩模版图。
36.图10是本发明第一实施例提供的一种设计版图缺陷修复方法的示例性流程的标记了缺陷边掩模版图。
37.图11是本发明第一实施例提供的一种设计版图缺陷修复方法的示例性流程的第2-5次迭代后的掩模版图。
38.图12是本发明第二实施例提供的一种计算机可读存储介质的结构示意图。
39.图13是本发明第三实施例提供的一种设计版图缺陷修复设备的结构示意图。
40.附图标识说明：
41.100、计算机可读存储介质；200、设计版图缺陷修复设备；
42.110、计算机程序指令；210、设备本体；220、设备运行程序。
【具体实施方式】
43.为了使本发明的目的，技术方案及优点更加清楚明白，以下结合附图及实施实例，对本发明进行进一步详细说明。应当理解，此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本发明，并不用于限定本发明。
44.作为一种说明，本发明中的缺陷即设计版图的缺陷是存在于设计版图上，通过设计版图获取的掩模版图的存在的缺陷来源于设计版图上的缺陷，而非获取掩模版图过程中的工艺流程带来的缺陷。
45.请参阅图1，本发明第一实施例提供一种设计版图缺陷修复方法，包括以下步骤：
46.s1：提供设计版图，并通过设计版图获取掩模版图；
47.s2：获取设计版图上的缺陷信息；
48.s3：根据缺陷信息及预设的修复规则对掩模版图进行修复得到已修复的掩模版图。
49.可以理解地，本发明第一实施例提供一种设计版图缺陷修复方法，该方法对设计版图的缺陷进行分类以及信息确认，可以判断出缺陷的类型，以该缺陷的类型预设的修复规则，以缺陷位置为实际，按照预设规则进行修复可以快速对缺陷完成修复，总体可以对设计版图的缺陷进行准确的判断且进行掩模版图快速的修复，极大的减少了对设计版图缺陷进行修复所需要花费的时间。
50.请参阅图2，本发明第一实施例提供一种设计版图缺陷修复方法，步骤s1之后还包括，
51.s100：对提供的掩模版图进行光学邻近效应校正。
52.可以理解地，本发明第一实施例提供一种设计版图缺陷修复方法，掩模版图为已经过光学邻近效应校正(optical proximity correction，opc)的掩模版图，或为未经过opc的掩模版图。采用已经过光学邻近效应校正的设计版图可以减少设计版图的缺陷，进而减少了设计版图缺陷修复所需要的花费的时间。
53.可以理解地，本发明第一实施例提供一种设计版图缺陷修复方法中对提供设计版图获取的掩模版图是否经过opc修复不做限定，作为一种优选，本实施例中的掩模版图为经过步骤s0即经过opc修复的掩模版图。
54.请参阅图3，本发明第一实施例提供一种设计版图缺陷修复方法，在步骤s2中获取设计版图上的缺陷信息，具体包括以下步骤：
55.s21：对掩模版图进行模拟仿真得到初次曝光轮廓；
56.s22：将曝光轮廓与设计版图经光刻规则检测得到缺陷信息。
57.可以理解地，本发明第一实施例提供一种设计版图缺陷修复方法，对掩模版图进行仿真模拟得到初次曝光轮廓，对曝光轮廓以及设计版图进行光刻规则检测得到缺陷信
息，可以快速的获取缺陷信息，方便后续依据缺陷信息对缺陷进行分类和定位等，以便于减少后续对缺陷进行修复所需要花费的时间。
58.具体的，缺陷信息包括缺陷类型信息及缺陷位置信息。缺陷类型可分为epe(edge placement error，边缘放置误差)、pinch(电路断路)以及bridge(短路)等。缺陷位置即为设计版图的缺陷在其掩模版图中所对应的位置。
59.可以理解地，本发明第一实施例提供一种设计版图缺陷修复方法，通过对设计版图上的缺陷信息进行识别，可以依据缺陷的类型以及位置等信息，可以更好地方便后续步骤的进行。对设计版图缺陷的类型进行识别可以保使得后续对其修复的方式为对应方式，对设计版图缺陷对应的掩模版图上的位置进行判定可以方便后续对其缺陷对应的缺陷边进行判断标记以及移动，提高了设计版图修复的效率，减少了所需消耗的时间。
60.请参阅图4，本发明第一实施例提供一种设计版图缺陷修复方法，步骤s3中对设计版图进行修复包括以下步骤：
61.s31：根据缺陷信息获取缺陷对应的掩模版图的缺陷边；
62.s32：根据修复规则及缺陷类型信息移动缺陷边得到已修复掩模版图。
63.可以理解地，本发明第一实施例提供一种设计版图缺陷修复方法，针对不同的缺陷，依据缺陷的信息直接根据预设的修复规则对缺陷边进行针对该缺陷的移动，以对缺陷进行修复，加快了缺陷修复的进程，减少了缺陷修复所花费的时间。
64.具体的，预设修复规则为根据缺陷类型以及缺陷位置对应的缺陷修改方式。
65.可以理解地，本发明第一实施例提供一种设计版图缺陷修复方法，缺陷可分为epe、pinch以及bridge等，根据缺陷的类型以及缺陷的位置所采用的修改方式也不相同。
66.请参阅图5，本发明第一实施例提供一种设计版图缺陷修复方法，步骤s31包括以下步骤：
67.s311：根据所述缺陷位置信息界定标记区域；
68.s312：掩模版图至少部分落入标记区域内的边为缺陷边。
69.可以理解地，本发明第一实施例提供一种设计版图缺陷修复方法，通过缺陷位置信息，形成一界定区域，根据缺陷信息对缺陷的位置信息进行标定可以方便后续对缺陷边进行判定，通过界定的区域使得掩模版图的部分边落入界定区域内，并标记为缺陷边。通过区域判定出缺陷边，便于后续对缺陷的修复，减少了设计版图的缺陷修复所花费的时间。
70.请参阅图6，本发明第一实施例提供一种设计版图缺陷修复方法，步骤s311中界定标定区域包括以下步骤：
71.s311a：根据缺陷位置信息得到缺陷的中心点；
72.s311b：以中心点为基准位置，根据预设尺寸界定标记区域。
73.可以理解地，本发明第一实施例提供一种设计版图缺陷修复方法，以缺陷所在位置为中心点根据预设尺寸界定标记区域，即形成以缺陷为中心点的矩形框，矩形框所包含区域则为界定区域，矩形框与该缺陷所在位置的掩模版图的边被矩形框所包含，或者该缺陷所在位置的掩模版图的边与矩形框的边界重合或相交，那么处于矩形框内的掩模版图的边或与矩形框相交或重叠的掩模版图的边均被判断为缺陷边。
74.请参阅图7，本发明第一实施例提供一种设计版图缺陷修复方法，步骤s312还包括以下步骤：
75.s313：根据缺陷类型信息及修复规则判定缺陷边的移动方向及移动距离；
76.s314：根据移动方向及移动距离移动缺陷边。
77.可以理解地，本发明第一实施例提供一种设计版图缺陷修复方法，对缺陷对应的掩模版图的对应边即缺陷边进行移动，使得缺陷达到预设的状况，即可完成该设计版图缺陷的修复。针对缺陷的类型信息以及位置信息，对缺陷边进行移动方向和距离的判定，可以更加快速且稳定的对缺陷进行修复。
78.示例性的，在步骤s311中根据缺陷类型界定了标记区域，根据这个标记区域，标记的边可以进行具有特定规则的移动，比方说epe为正值的缺陷即边缘放置误差大于0，标记的边就应该往标记区域内部的方向去移动；反之，由负值epe即边缘放置误差小于0的缺陷标定的边，则应该往标记区域外部的方向去移动。由pinch缺陷标记到的边就应该往标记区域外部的方向去移动，而通过bridge缺陷标记到的边则需要往标记区域内部的方向去移动。
79.请参阅图8，本发明第一实施例提供一种设计版图缺陷修复方法，步骤s3之后还包括，
80.s4：再次对已修复掩模版图进行仿真模拟生成曝光轮廓并对曝光轮廓进行缺陷检测，若对缺陷修复未达到预设情况，则对已修复掩模版图再次进行修复。
81.可以理解地，本发明第一实施例提供一种设计版图缺陷修复方法，通过对已修复的设计版图再次进行缺陷检测，以防止缺陷的修复未达到预设情况，对缺陷修复未达到预设情况的已修复掩模版图继续进行修复，形成多次迭代，直到最终输出的已修复的掩模版图对缺陷的修复达到预设情况。
82.示例性的，提供一块如图9所示掩模版图，对该掩模版图进行手动opc修正，即进行仿真模拟得到初版曝光轮廓，对初版曝光轮廓利进行缺陷检测，检测出存在epe缺陷，如图示10对epe缺陷进行缺陷边标记，对掩模版图进行多次迭代修复，使得该位置的epe缺陷被修复。
83.具体的，步骤如下：
84.s201：对经过首次opc修正的掩模版图进行模拟仿真，获得曝光轮廓；
85.s202：对曝光轮廓进行缺陷检测，得出该仿真曝光轮廓存在epe缺陷；
86.s203：获取epe缺陷的位置信息；
87.s204：通过epe缺陷的位置信息，以epe缺陷为中心形成一个界定区域；
88.s205：通过界定区域判断出epe缺陷所在掩模版图的缺陷边；
89.s206：依据epe缺陷与缺陷边的位置信息，对缺陷边进行移动，以对掩模版图的epe缺陷进行修复；
90.s207：对已完成修复的掩模版图进行缺陷检测，若缺陷的修复未达到预设情况，则重复上述步骤。
91.具体的，图11为第2-5次迭代完成后的掩模版图，本实施例中经过五次迭代，完成了对掩模版图的修复。
92.综上，本发明第一实施例提供一种设计版图修正方法，提供一个设计版图并获取设计版图的掩模版图，对掩模版图模拟仿真得到初次曝光轮廓，对曝光轮廓与设计版图进行光刻规则检测，获取设计版图上的缺陷信息，根据设计版图上的缺陷信息所对应的掩模
版图上的位置信息，界定以缺陷为中心的标记区域，通过标记区域与缺陷所在的掩模版图的边的关系判定缺陷边，根据缺陷信息以及缺陷与缺陷边的位置关系进行缺陷边的移动，使得缺陷达到预设的状态，完成设计版图的缺陷修复，对已完成修复的掩模版图经仿真模拟所生成的仿真曝光轮廓进行再一次缺陷检查，若缺陷未达到预设状态则再次进行修复，形成一个迭代，进行多次迭代，直至输出缺陷被完全修复的掩模版图。
93.请参阅图12，本发明第二实施例提供一种计算机可读存储介质100，其上有计算机程序指令110，计算机程序指令110被处理器执行时实现上述一种掩模版图修正方法。
94.可以理解地，本发明第二实施例中的计算机可读存储介质100中存储有计算机程序指令110，计算机程序110指令可被处理器调用执行上述第一实施例中所描述的一种设计版图缺陷修复方法。计算机可读存储介质100具有与上述一种设计版图缺陷修复方法相同的有益效果在此不做赘述。
95.具体的，计算机可读存储介质100可以是诸如闪存、eeprom(电可擦除可编程只读存储器)、eprom、硬盘或者rom之类的电子存储器。
96.可选的，计算机可读存储介质100包括非易失性计算机可读介质。
97.具体的，计算机可读存储介质100具有执行上述方法中的任何方法步骤的计算机程序指令110的存储空间。这些程序指令可以从一个或者多个计算机程序产品中读出或者写入到这一个或者多个计算机程序产品中。可选的，计算机程序指令110可以以适当形式进行压缩。
98.请参阅图13，本发明第三实施例提供一种设计版图缺陷修复设备200，包括设备本体210和设备运行程序220，设备本体210执行设备运行程序220时实现上述一种设计版图缺陷修复方法。
99.可以理解地，本发明第三实施例中的设计版图缺陷修复设备200运行时，设备本体210执行设备运行程序220时可实现上述第一实施例中所描述的方法。设备具有与上述一种设计版图缺陷修复方法相同的有益效果在此不做赘述。
100.在本发明所提供的实施例中，应理解，“与a对应的b”表示b与a相关联，根据a可以确定b。但还应理解，根据a确定b并不意味着仅仅根据a确定b，还可以根据a和/或其他信息确定b。
101.应理解，说明书通篇中提到的“一个实施例”或“一实施例”意味着与实施例有关的特定特征、结构或特性包括在本发明的至少一个实施例中。因此，在整个说明书各处出现的“在一个实施例中”或“在一实施例中”未必一定指相同的实施例。此外，这些特定特征、结构或特性可以以任意适合的方式结合在一个或多个实施例中。本领域技术人员也应该知悉，说明书中所描述的实施例均属于可选实施例，所涉及的动作和模块并不一定是本发明所必须的。
102.在本发明的各种实施例中，应理解，上述各过程的序号的大小并不意味着执行顺序的必然先后，各过程的执行顺序应以其功能和内在逻辑确定，而不应对本发明实施例的实施过程构成任何限定。
103.在本发明的附图中的流程图和框图，图示了按照本技术各种实施例的系统、方法和计算机程序产品的可能实现的体系架构、功能和操作。在这点上，流程图或框图中的每个方框可以代表一个模块、程序段、或代码的一部分，该模块、程序段、或代码的一部分包含一
个或多个用于实现规定的逻辑功能的可执行指令。也应当注意，在有些作为替换的实现方案中，方框中所标注的功能也可以不同于附图中所标注的顺序发生。例如，两个接连地表示的方框实际上可以基本并行地执行，它们有时也可以按相反的顺序执行，在此基于涉及的功能而确定。需要特别注意的是，框图和/或流程图中的每个方框、以及框图和/或流程图中的方框的组合，可以用执行规定的功能或操作的专用的基于硬件的系统来实现，或者可以用专用硬件与计算机指令的组合来实现。
104.与现有技术相比，本发明所提供给的一种设计版图缺陷修复方法具有如下的有益效果：
105.1.本发明所提供的一种设计版图缺陷修复方法，方法包括以下步骤，提供设计版图，并通过设计版图获取掩模版图；获取设计版图上的缺陷信息；根据缺陷信息及预设的修复规则对掩模版图进行修复得到已修复的掩模版图。该方法对设计版图的缺陷进行分类以及信息确认，可以判断出缺陷的类型，以该缺陷的类型预设的修复规则，以缺陷位置为实际，按照预设规则进行修复可以快速对缺陷完成修复，总体可以对设计版图的缺陷进行准确的判断且进行掩模版图快速的修复，极大的减少了对设计版图缺陷进行修复所需要花费的时间。
106.2.本发明所提供的一种设计版图缺陷修复方法，获取设计版图上的缺陷信息，具体包括以下步骤：对掩模版图进行模拟仿真得到初次曝光轮廓；将曝光轮廓与设计版图经光刻规则检测得到缺陷信息。对掩模版图进行仿真模拟得到初次曝光轮廓，对曝光轮廓以及设计版图进行光刻规则检测得到缺陷信息，可以快速的获取缺陷信息，方便后续依据缺陷信息对缺陷进行分类和定位等，以便于减少后续对缺陷进行修复所需要花费的时间。
107.3.本发明所提供的一种设计版图缺陷修复方法，缺陷信息包括缺陷类型信息及缺陷位置信息，预设修复规则为根据缺陷类型以及缺陷位置对应的缺陷修改方式。通过对设计版图上的缺陷信息进行识别，可以依据缺陷的类型以及位置等信息，便于后续步骤的进行。对设计版图缺陷的类型进行识别可以保使得后续对其修复的方式为对应方式，对设计版图缺陷的所在位置以及缺陷对应的掩模版图属性进行判定可以方便后续对其缺陷对应的缺陷边进行判断标记以及移动，提高了设计版图修复的效率，减少了所需消耗的时间。
108.4.本发明所提供的一种设计版图缺陷修复方法，对掩模版图进行修复包括以下步骤：根据缺陷信息获取缺陷对应的掩模版图的缺陷边；根据修复规则及缺陷类型信息移动缺陷边得到已修复掩模版图。针对不同的缺陷，依据缺陷的信息直接根据预设的修复规则对缺陷边进行针对该缺陷的移动，以对缺陷进行修复，加快了缺陷修复的进程，减少了缺陷修复所花费的时间。
109.5.本发明所提供的一种设计版图缺陷修复方法根据缺陷信息获取缺陷对应的掩模版图的缺陷边包括以下步骤：根据缺陷位置信息界定标记区域；掩模版图至少部分落入标记区域内的边为缺陷边。根据缺陷信息对缺陷的位置信息进行标定可以方便后续对缺陷边进行判定，通过界定的区域使得掩模版图的部分边落入界定区域内，并标记为缺陷边。通过区域判定出缺陷边，便于后续对缺陷的修复，减少了设计版图的缺陷修复所花费的时间。
110.6.本发明所提供的一种设计版图缺陷修复方法，界定标定区域包括以下步骤：根据缺陷位置信息得到缺陷的中心点；以中心点为基准位置，根据预设尺寸界定标记区域。依据缺陷的类型以及所在的位置以及所标记边的关系，同时通过特定规则判定出边的移动方
向，可以更快的对设计版图的缺陷进行修复，进而减少了时间的消耗。
111.7.本发明所提供的一种设计版图缺陷修复方法，根据修复规则移动缺陷边得到已修复掩模版图包括以下步骤：根据缺陷类型信息及修复规则判定缺陷边的移动方向及移动距离；根据移动方向及移动距离移动缺陷边。针对缺陷的类型信息以及位置信息，对缺陷边进行移动方向和距离的判定，可以更加快速且稳定的对缺陷进行修复。
112.8.本发明所提供的一种设计版图缺陷修复方法，在修复缺陷之后还包括以下步骤：再次对已修复掩模版图进行仿真模拟生成曝光轮廓并对曝光轮廓进行缺陷检测，若对缺陷修复未达到预设情况，则对已修复掩模版图再次进行修复。通过对已修复的掩模版图所生成的仿真曝光轮廓再次进行缺陷检测，以防止缺陷的修复未达到预设情况，对缺陷修复未达到预设情况的已修复掩模版图继续进行修复，形成多次迭代，直到最终输出的已修复的掩模版图对缺陷的修复达到预设情况。
113.9.本发明所提供的一种设计版图缺陷修复方法，掩模版图为已经过光学邻近效应校正(optical proximity correction，opc)的掩模版图，或为未经过opc的掩模版图。采用已经过光学邻近效应校正的设计版图可以减少设计版图的缺陷，进而减少了设计版图缺陷修复所需要的花费的时间。
114.10.本发明所提供的一种计算机可读存储介质，其上有计算机程序指令，计算机程序指令被处理器执行时实现上述一种设计版图缺陷修复方法。该计算机可读储存介质具有和上述一种设计版图缺陷修复方法相同的有益效果，在此不做赘述。
115.11.本发明所提供的一种设计版图缺陷修复设备，包括设备本体和设备运行程序，设备本体执行设备运行程序时实现上述一种设计版图缺陷修复方法。该设备具有和上述一种设计版图缺陷修复方法相同的有益效果，在此不做赘述。
116.以上对本发明实施例公开的一种设计版图缺陷修复方法、存储介质及设备，进行了详细介绍，本文中应用了具体个例对本发明的原理及实施方式进行了阐述，以上实施例的说明只是用于帮助理解本发明的方法及其核心思想；同时，对于本领域的一般技术人员，依据本发明的思想，在具体实施方式及应用范围上均会有改变之处，综上所述，本说明书内容不应理解为对本发明的限制，凡在本发明的原则之内所作的任何修改，等同替换和改进等均应包含本发明的保护范围之内。