阵列基板和显示面板的制作方法

技术特征：
1.一种阵列基板，其特征在于，包括公共电极和像素电极，所述公共电极包括多个相互连接的公共电极分支，所述像素电极包括多个相互连接的像素电极分支，所述公共电极分支与所述像素电极分支交错间隔设置，所述公共电极分支的宽度和所述像素电极分支的宽度相同；其中，所述公共电极分支和所述像素电极分支的宽度为a，所述公共电极分支与相邻的所述像素电极分支之间的间距为b，所述b:a的值大于1.6：1。2.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述b:a的值大于1.6：1，小于2:1。3.根据权利要求2所述的阵列基板，其特征在于，所述b:a的值为1.9：1。4.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述a为1.8-2微米，所述b为3.6-3.8微米。5.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述阵列基板还包括多条数据线、多条扫描线、多条第一公共线和多条第二公共线，多条数据线和多条扫描线纵横交错排列以形成网状结构，多条所述第一公共线和多条所述第二公共线纵横交错排列以形成网状结构，所述第一公共线与所述扫描线交错平行设置，所述第二公共线与所述数据线平行设置，一条所述数据线的两侧分别设有一条所述第二公共线；其中，所述第二公共线的宽度为d，所述第二公共线到最近的所述像素电极分支的距离为c，所述c:d的值大于5:1。6.根据权利要求5所述的阵列基板，其特征在于，所述c：d的值大于5：1，小于7：1。7.根据权利要求5所述的阵列基板，其特征在于，所述c为5.4-5.6微米，所述d为0.5-1.5微米。8.根据权利要求5所述的阵列基板，其特征在于，所述a大于所述d，所述c大于所述b。9.根据权利要求5所述的阵列基板，其特征在于，所述a:b:c:d的值为1.9:3.7:5.5:1。10.一种显示面板，其特征在于，包括如权利要求1-9任一项所述的阵列基板和彩膜基板，所述阵列基板和所述彩膜基板对盒设置。

技术总结
本申请公开了一种阵列基板和显示面板，包括公共电极和像素电极，公共电极包括多个相互连接的公共电极分支，像素电极包括多个相互连接的像素电极分支，公共电极分支与像素电极分支交错间隔设置，公共电极分支和像素电极分支的宽度为a，公共电极分支与相邻的像素电极分支之间的间距为b，b:a的值大于1.6：1，使公共电极和像素电极之间的间距增大，公共电极和像素电极之间所产生的电场在垂直方向上的电场分量占总电场分量的比例减小，水平方向上的电场分量占总电场分量的比例增加，以降低垂直方向上的电场对液晶偏转的影响，从而改善了在垂直电场的影响下显示面板容易产生Trace Mura的问题，且提高了显示面板的穿透率。且提高了显示面板的穿透率。且提高了显示面板的穿透率。


技术研发人员：薛兴皓 康报虹
受保护的技术使用者：惠科股份有限公司
技术研发日：2021.12.31
技术公布日：2022/5/10