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一种用于光反馈干涉测量的可移动导轨的制作方法

2022-03-09 17:55:40 来源:中国专利 TAG:

技术特征:
1.一种用于光反馈干涉测量的可移动导轨,其特征在于,包括底板(1)、导轨(2)、底座(3)、光屏(6)、刻度线(7)、滑块(8)和安装柱(9);底板(1)沿横向设置;导轨(2)设置在底板(1)上;底座(3)滑动设置在导轨(2)上,底座(3)为u形结构;光屏(6)设置在底座(3)上,光屏(6)横向一侧底部设置有滑槽(601),滑槽(601)沿纵向分布;光屏(6)横向一侧上部设置有刻度线(7),刻度线(7)与滑槽(601)位于光屏(6)同侧;滑块(8)设置有两个,两个滑块(8)均滑动设置在光屏(6)上,两个滑块(8)均位于滑槽(601)内;安装柱(9)设置有两个,两个安装柱(9)分别设置在两个滑块(8)上。2.根据权利要求1所述的用于光反馈干涉测量的可移动导轨,其特征在于,还包括指示箭头(10);指示箭头(10)设置有两个,两个指示箭头(10)分别设置在两个安装柱(9)上端,指示箭头(10)位于刻度线(7)下方,指示箭头(10)上端指着刻度线(7)。3.根据权利要求1所述的用于光反馈干涉测量的可移动导轨,其特征在于,还包括螺纹柱(4)和螺纹管(5);螺纹管(5)设置在底座(3)上;螺纹柱(4)设置在光屏(6)底部,螺纹柱(4)设置在螺纹管(5)内,螺纹柱(4)与螺纹管(5)螺纹连接,光屏(6)通过螺纹柱(4)和螺纹管(5)与底座(3)可拆卸连接。4.根据权利要求1所述的用于光反馈干涉测量的可移动导轨,其特征在于,导轨(2)纵向两侧均设置有限位槽(201),限位槽(201)沿横向分布;还包括滑杆(11)、安装架(12)和滚轮(13),滑杆(11)设置有两个,两个滑杆(11)分别贯穿底座(3)纵向两侧,两个滑杆(11)分别位于导轨(2)纵向两侧,安装架(12)设置有两个,两个安装架(12)分别设置在两个滑杆(11)上,安装架(12)位于滑杆(11)靠近导轨(2)的一端,安装架(12)位于限位槽(201)内,安装架(12)为u形结构,滚轮(13)设置有两个,两个滚轮(13)分别转动设置在两个安装架(12)上,滚轮(13)位于限位槽(201)内。5.根据权利要求4所述的用于光反馈干涉测量的可移动导轨,其特征在于,滑杆(11)与安装架(12)滑动连接;还包括复位弹簧(14),复位弹簧(14)套设在滑杆(11)上,复位弹簧(14)的两端分别与安装架(12)和底座(3)连接。6.根据权利要求5所述的用于光反馈干涉测量的可移动导轨,其特征在于,还包括挡板(15);挡板(15)设置在滑杆(11)远离安装架(12)的纵向一端,挡板(15)为方形板结构或圆板结构。7.根据权利要求6所述的用于光反馈干涉测量的可移动导轨,其特征在于,还包括拉环(16);拉环(16)设置在挡板(15)远离滑杆(11)的纵向一侧,拉环(16)为方形环结构或圆环结构。8.根据权利要求7所述的用于光反馈干涉测量的可移动导轨,其特征在于,还包括磁铁(17)和磁条(18);磁铁(17)设置在底座(3)底部内壁上;磁条(18)设置在导轨(2)上表面,磁条(18)沿横向分布,磁条(18)与磁铁(17)磁性连接。

技术总结
本实用新型涉及一种用于光反馈干涉测量的可移动导轨,其包括底板、导轨、底座、光屏、刻度线、滑块和安装柱;底板沿横向设置;导轨设置在底板上;底座滑动设置在导轨上,底座为U形结构;光屏设置在底座上,光屏横向一侧底部设置有滑槽,滑槽沿纵向分布;光屏横向一侧上部设置有刻度线,刻度线与滑槽位于光屏同侧;滑块设置有两个,两个滑块均滑动设置在光屏上,两个滑块均位于滑槽内;安装柱设置有两个,两个安装柱分别设置在两个滑块上。本实用新型能够方便实验员记录光的干涉试验结果,提高实验结果的记录精度。果的记录精度。果的记录精度。


技术研发人员:陈素 李大海 郑向歌 任平英 陈泽岳
受保护的技术使用者:河南水利与环境职业学院
技术研发日:2021.09.04
技术公布日:2022/3/8
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