预估镀膜速率获取系统的制作方法

1.本技术涉及镀膜技术领域，具体涉及一种预估镀膜速率获取系统。


背景技术：

2.现有所谓测量镀膜速率的主要手段是依靠晶振仪，即在真空室内，镀膜基盘附近设立测量点，安装晶振片。在镀膜过程中，晶振片与产片同时被镀膜，晶振片被镀上膜后，振动频率会同步衰减，根据这个衰减速度推断镀膜速率。
3.然而，这种通过晶振片测量镀膜速率的方案，完全依赖光控或晶控的测量结果作为依据，但是受设备存在的干扰因素影响，测量结果是存在偏差的。测量点是在陪镀位置，它是固定的而不是随着产品一起运动，因此产品所在的运动机构带来的如震动，速度偏差等不能直接反馈到测量结果里，因而导致测量结果和实际是存在偏差的差异。另外，由于测量设备本身存在的误差，也会影响测量结果。即，现有的测量方案中，存在以下技术问题：(1)测量过程中，会出现异常峰值，增加分析工作量；(2)设备硬件与环境存在干扰因素，会导致测量数据波动；(3)测量设备存在精确度误差，不考虑进去会导致测量结果存在偏差。


技术实现要素：

4.针对上述技术问题，本发明实施例提供一种预估镀膜速率获取系统，能够在不增加额外的物料成本的前提下，提高生产过程中的镀膜测量准确度。
5.本技术采用的技术方案为：
6.本发明实施例提供一种预估镀膜速率获取系统，包括：通信连接的数据测量装置、日志数据库和服务器，所述服务器包括处理器和存储器，所述存储器中存储有计算机程序，所述日志数据库的第i条记录包括(i，w1i，w2i，yi)， w1i为第i个采样周期对应的实测镀膜速率修正系数，w2i为第i个采样周期对应的预估镀膜速率修正系数，yi为第i个采样周期对应的预估镀膜速率i的取值为1到n-1，n为采样周期的数量；所述数据测量装置用于按照预设采样周期获取实测镀膜速率并发送给所述处理器；
7.其中，在接收到采样周期n测量的实测镀膜速率xn时，所述处理器执行计算机程序以实现如下步骤：
8.s100，从日志数据库中获取w1
n-1
、w2
n-1
和y
n-1
；
9.s200，基于xn和获取的w1
n-1
、w2
n-1
和y
n-1
确定yn；
10.s300，将获取的yn存储到日志数据库中；
11.s400，设置n＝n 1。
12.本发明实施例中，通过本次采样周期的实测镀膜速率和上一次预估镀膜速率以及相应的实测镀膜速率修正系数和预估镀膜速率修正系数，能够消除外界干扰和测量装置本身测量误差所导致的实测镀膜速率的不准确，从而能够获得尽可能准确的反应实际镀膜速率的预估镀膜速率。
附图说明
13.为了更清楚地说明本技术实施例中的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本技术的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
14.图1为本发明实施例提供的预估镀膜速率获取系统的结构示意图；
15.图2为本发明实施例的实测镀膜速率修正系数和实测镀膜速率修正误差的迭代曲线图；
16.图3为在存在外界干扰的情况下，实测镀膜速率和采用本发明实施例的获取系统得到的预估镀膜速率的曲线图。
具体实施方式
17.下面将结合本技术实施例中的附图，对本技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本技术中的实施例，本领域技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本技术保护的范围。
18.图1为本发明实施例提供的预估镀膜速率获取系统的结构示意图；图2为本发明实施例的实测镀膜速率修正系数和实测镀膜速率修正误差的迭代曲线图；图3为在存在外界干扰的情况下，实测镀膜速率和采用本发明实施例的获取系统得到的预估镀膜速率的曲线图。
19.如图1所示，本发明实施例提供一种预估镀膜速率获取系统，包括：通信连接的数据测量装置1、日志数据库2和服务器3。
20.在本发明实施例中，数据测量装置1可设置在真空镀膜室内的固定位置处，并且不随产片旋转而旋转，用于对真空镀膜过程中的产片的镀膜速率进行测量，可为现有装置例如晶振仪。数据测量装置1用于按照预设采样周期获取实测镀膜速率并发送给服务器3。预设采样周期可根据实际需要进行设置，可为用户自定义设置，例如，可为0.001s，这样，使得相邻两个采样周期之间的间隔变得很短，能够更好的对镀膜速率进行监测，以便能够控制均匀镀膜。
21.在本发明实施例中，所述日志数据库2的第i条记录可包括(i，w1i，w2i， yi)，w1i为第i个采样周期对应的实测镀膜速率修正系数，w2i为第i个采样周期对应的预估镀膜速率修正系数，yi为第i个采样周期对应的预估镀膜速率i 的取值为1到n-1，n为采样周期的数量，n可根据实际需要进行设置，例如，在一个示意性实施例中，n＝1，说明日志数据库中只存储一条记录，本领域的技术人员可以知晓，每计算新的采样周期的数据后，会迭代之前的记录。又例如，n可为预设值例如20，以便能够查阅之前的记录，这说明日志数据库中存储有20条记录，本领域的技术人员可以知晓，在日志数据库中的记录大于20 条时，会迭代最开始的记录，依次类推，反复迭代更新。为简化计算，可设置初始值y0＝0，初始值p0＝1，但并不局限于此，还可以设置为其它利于简化的值。
22.所述服务器3可包括处理器和存储器，所述存储器中存储有计算机程序和配置文件。初始值y0和初始值p0可存储在配置文件中。
23.其中，在接收到采样周期n测量的实测镀膜速率xn时，所述处理器执行计算机程序以实现如下步骤：
24.s100，从日志数据库中获取w1
n-1
、w2
n-1
和y
n-1
；
25.s200，基于xn和获取的w1
n-1
、w2
n-1
和y
n-1
确定yn；
26.s300，将获取的yn存储到日志数据库中；
27.s400，设置n＝n 1。
28.通过上述步骤s100～s400，可基于日志数据库存储的前一个采样周期的记录得到当前采样周期的预估镀膜速率。本发明实施例中，由于真空室内镀膜是匀速进行的，晶振仪存在测量精度即存在随机误差，两次采样周期间隔短，因此，通过本次采样周期的实测镀膜速率和上一次预估镀膜速率以及相应的实测镀膜速率修正系数和预估镀膜速率修正系数，能够消除外界干扰和测量装置本身测量误差所导致的实测镀膜速率的不准确，从而能够获得尽可能准确的反应实际镀膜速率的预估镀膜速率。
29.进一步地，在本发明实施例中，yn与xn正相关。
30.进一步地，在本发明实施例中，yn还与y
n-1
正相关。
31.进一步地，在本发明实施例中，yn＝w1
n-1
*xn w2
n-1
*y
n-1
，即当前采样周期的预估镀膜速率与当前采样周期的实测镀膜速率和上一采样周期的预估镀膜速率正相关。
32.进一步地，在本发明一示意性实施例中，w1i可为第一预设值a，w2i可为第二预设值b，a远小于b，且a b＝1，例如，a＝0.03，b＝0.97。也就是说，本发明实施例中，当前采样周期的预估镀膜速率受到上一采样周期的预估镀膜速率的影响远大于当前采样周期的实测镀膜速率，因此，即使实测镀膜速率受到干扰而产生很大波动即与实际镀膜速率相差很大时，由于实测镀膜速率的权重较小，较小的权重能够消除干扰导致的波动数据对预估镀膜速率的影响，从而使得预估镀膜速率能够尽可能的贴近实际镀膜速率，进而提高镀膜过程中的镀膜速率的测量准确度。
33.进一步地，在本发明实施例中，所述配置文件中还存储有预设的数据测量装置的测量误差q。测量误差q可根据allen方差计算得到，例如可为0.05～0.15，优选，可为0.1。
34.进一步地，在本发明实施例中，所述日志数据库2中的第i条记录还包括 pi，pi为第i个采样周期对应的实测镀膜速率修正误差，与q相关。
35.进一步地，在本发明实施例中，在s200之后还包括：
36.s210，基于q和p
n-1
获取pn；
37.在s300之后还包括：
38.s310，将获取的pn存储到日志数据库中。
39.进一步地，在本发明实施例中，pi与p
i-1
*q正相关，与p
i-1
q反相关，优选地，pi＝p
i-1
*q(p
i-1
q)-1
，即，在本发明实施例中，pi可基于环境干扰和测量装置的误差得到。
40.这样，在本发明实施例中，在每个采样周期，都会基于上一采样周期的数据对预估镀膜速率和实测镀膜速率修正误差进行更新，在进入下一个采样周期后，将这两个参数作为前一周期的数据参与当前周期的数据更新。
41.进一步地，在本发明另一示意性实施例中，w1i和w2i基于数据测量装置 1的测量误差q和p
i-1
确定。具体地，w1i＝p
i-1
(p
i-1
q)-1
，w2i＝1-w1i。这样，可基于测量误差q和上一采样周期的p
i-1
得到当前采样周期的w1i和w2i。
42.根据pi＝p
i-1
*q(p
i-1
q)-1
和w1i＝p
i-1
(p
i-1
q)-1
可知，pi＝(1-w1i)p
i-1
＝w2i* p
i-1
，即也可在基于上一采样周期的p
i-1
和测量误差q得到当前采样周期的w1i之后，再获取当前采样周期的pi。
43.【实施例】
44.本发明一示意性实施例中，数据测量装置1的测量误差q＝0.1，基于w1i＝ p
i-1
(p
i-1
q)-1
和pi＝p
i-1
*q(p
i-1
q)-1
进行迭代后的实测镀膜速率修正系数和实测镀膜速率修正误差的曲线可如图2所示。参见图2可知，在迭代差不多 15个周期后，实测镀膜速率修正系数和实测镀膜速率修正误差快速趋于稳定，并接近0，这表明预估镀膜速率已经无限接近实测镀膜速率。
45.进一步地，在实际应用中，在存在外界干扰的情况下，基于下表1所示的69个采样周期的实测镀膜速率，实测镀膜速率和使用本发明实施例的获取系统得到的预估镀膜速率的曲线可如图3所示。如图3所示，可以明显看出，当在测量过程中，人为增加了干扰数据，使得实测镀膜速率出现无效数据后，本发明实施例的获取系统可以将其过滤。另外实测镀膜速率在大幅波动，而采用本发明实施例的获取系统后，预估镀膜速率是稳定在期望值附近的，不会出现持续的波动现象，这说明本发明实施例提供的预估镀膜速率获取系统能够提高镀膜过程中的镀膜速率的测量准确度。
46.表1
[0047][0048]
虽然已经通过示例对本技术的一些特定实施例进行了详细说明，但是本领域的技术人员应该理解，以上示例仅是为了进行说明，而不是为了限制本技术的范围。本领域的技术人员还应理解，可以对实施例进行多种修改而不脱离本技术的范围和精神。本技术开的范围由所附权利要求来限定。