一种用于超小尺寸单片晶圆的清洗取干装置的制作方法

技术特征：
1.一种用于超小尺寸单片晶圆的清洗取干装置，包括真空泵旋转机构、摆臂旋转机构、工艺槽组件和工艺槽盖组件，其特征在于：真空泵旋转机构连接在工艺槽组件的下方，摆臂旋转机构连接在工艺槽组件的内部，工艺槽盖组件连接在工艺槽组件的上方。2.根据权利要求1所述的一种用于超小尺寸单片晶圆的清洗取干装置，其特征在于：真空泵旋转机构包括第一伺服电机(11)、防水座(12)、旋转头(13)和晶片适配器(14)，所述第一伺服电机(11)的输出端连接有轴转杆，所述防水座(12)连接在第一伺服电机(11)的上方，所述旋转头(13)连接在轴转杆的一端，所述晶片适配器(14)连接在旋转头(13)上。3.根据权利要求1所述的一种用于超小尺寸单片晶圆的清洗取干装置，其特征在于：摆臂旋转机构包括第二伺服电机(21)、旋转气缸(22)和摆臂杆(23)，所述旋转气缸(22)连接在第二伺服电机(21)的上方，所述摆臂杆(23)连接在旋转气缸(22)的上方，所述摆臂杆(23)的端部贯通连接有输液管(24)，所述输液管(24)的端部固定连接有直角弯头(25)，所述直角弯头(25)的下端固定连接有喷嘴(26)。4.根据权利要求1所述的一种用于超小尺寸单片晶圆的清洗取干装置，其特征在于：工艺槽组件包括工艺槽四周板(31)、排液管路(33)和溅水挡板(34)，所述排液管路(33)连接在工艺槽四周板(31)的侧边，且与工艺槽四周板(31)侧壁贯通，所述溅水挡板(34)连接在工艺槽四周板(31)的内壁，所述工艺槽四周板(31)的内底壁连接有密封法兰(32)。5.根据权利要求1所述的一种用于超小尺寸单片晶圆的清洗取干装置，其特征在于：工艺槽盖组件包括工艺槽体(41)、气缸主体(42)、槽盖旋臂底座(43)、气缸安装底座(44)、槽盖传感器安装板(45)、槽盖旋转臂(46)和槽盖主体(47)，所述工艺槽体(41)连接在工艺槽四周板(31)的上方，所述气缸主体(42)连接在工艺槽体(41)的侧边，所述槽盖旋臂底座(43)连接在工艺槽四周板(31)的上方，所述气缸安装底座(44)连接在工艺槽体(41)的一侧，且通过转轴与气缸主体(42)转动连接，所述槽盖旋转臂(46)通过转轴与槽盖旋臂底座(43)转动连接，所述槽盖传感器安装板(45)连接在槽盖旋转臂(46)的一端，所述槽盖主体(47)连接在槽盖旋转臂(46)上。6.根据权利要求2所述的一种用于超小尺寸单片晶圆的清洗取干装置，其特征在于：所述第一伺服电机(11)连接在工艺槽组件中工艺槽四周板(31)的下方，且输出端贯穿工艺槽四周板(31)的底壁设计。7.根据权利要求3所述的一种用于超小尺寸单片晶圆的清洗取干装置，其特征在于：所述第二伺服电机(21)连接在工艺槽组件中工艺槽四周板(31)的下方，且输出端贯穿工艺槽四周板(31)的底壁设计。8.根据权利要求3所述的一种用于超小尺寸单片晶圆的清洗取干装置，其特征在于：所述摆臂杆(23)的外围连接有连接软管，且连接软管与外置的真空泵连接。

技术总结
本发明涉及一种用于超小尺寸单片晶圆的清洗取干装置。属于单片晶圆技术领域。其主要针对人工清洗吹扫带来的人体危害和成批清洗造成清洗均匀性不好以及吹扫取干极其不方便的问题，提出如下技术方案包括真空泵旋转机构、摆臂旋转机构、工艺槽组件和工艺槽盖组件，真空泵旋转机构连接在工艺槽组件的下方，摆臂旋转机构连接在工艺槽组件的内部。本发明通过设置旋转气缸、摆臂杆和直角弯头。而且同时可以满足圆片、方片和一些特殊形状晶片的清洗取干要求；解决了单片晶圆清洗后表面残留化学液的问题，极大提高了晶圆表面的洁净度，有效增加了单片清洗工艺的产量，降低了生产成本，并且它又是一个简单且易于推广的装置。且它又是一个简单且易于推广的装置。且它又是一个简单且易于推广的装置。


技术研发人员：王文和 蔡永礼 朱伟然 卢刘振 叶曲波
受保护的技术使用者：上海思恩装备科技股份有限公司
技术研发日：2021.12.03
技术公布日：2022/2/6