一种可控制激光能量密度的泵浦源装置的制作方法

技术特征：
1.一种可控制激光能量密度的泵浦源装置，包括定位底座（1）和定位轨道（7），其特征在于：所述定位底座（1）顶面中心位置嵌合设有转动主轴（2），所述转动主轴（2）顶部两侧固定设有转动支板（4），相邻所述转动支板（4）之间卡合设有转动副轴（3），所述定位轨道（7）底面中心位置固定设有承重座（5），所述承重座（5）与转动副轴（3）表面固定，所述定位轨道（7）内部固定设有双轴气缸（9），所述双轴气缸（9）两侧活动端固定设有第一单轴气缸（10），所述双轴气缸（9）顶部固定设有承重板（13），所述承重板（13）顶面固定设有第二单轴气缸（12），所述第一单轴气缸（10）的活动端和第二单轴气缸（12）活动端均固定设有夹持装置（6），且夹持装置（6）与第一单轴气缸（10）的活动端垂直，与第二单轴气缸（12）的活动端重合。2.根据权利要求1所述的一种可控制激光能量密度的泵浦源装置，其特征在于：所述夹持装置（6）包括连接底座（601）和柔性夹爪（605），所述连接底座（601）一端表面开设有环形槽（602），所述连接底座（601）端部设有电动转盘（604），且电动转盘（604）端部通过环形槽（602）与连接底座（601）活动连接，所述电动转盘（604）远离连接底座（601）一端表面开设有定位槽（607），所述柔性夹爪（605）表面固定设有定位柱（606），所述连接底座（601）内部设有微型气泵（603），且微型气泵（603）端部贯穿电动转盘（604）与柔性夹爪（605）端部中心位置螺纹连接，且微型气泵（603）内部与柔性夹爪（605）内部贯通，所述第一单轴气缸（10）的活动端侧面与连接底座（601）远离电动转盘（604）的一端固定，所述第二单轴气缸（12）的活动端顶面与连接底座（601）远离电动转盘（604）的一端固定。3.根据权利要求1所述的一种可控制激光能量密度的泵浦源装置，其特征在于：所述定位底座（1）设有两个，一个所述定位底座（1）侧面内部对称固定设有承重液压缸（14），所述承重液压缸（14）的活动端与另一个定位底座（1）侧面固定，一个所述定位底座（1）侧面中心位置固定设有推动液压缸（15），所述推动液压缸（15）的活动端垂直固定设有推动限位板（16），所述定位底座（1）底面两侧开设有承重滑槽（17），且承重滑槽（17）与承重液压缸（14）所在位置竖直方向一一对应。4.根据权利要求3所述的一种可控制激光能量密度的泵浦源装置，其特征在于：所述定位底座（1）与承重液压缸（14）垂直的侧面中心位置固定设有底座转轴（21），所述底座转轴（21）表面活动连接设有底座连接板（20），所述定位底座（1）远离承重液压缸（14）的一侧中心位置开设有底座连接槽（24），且底座连接槽（24）贯穿定位底座（1）底面，所述底座连接槽（24）两侧开设有斜面螺槽（22），且斜面螺槽（22）贯穿底座连接板（20）两侧，所述斜面螺槽（22）内部螺纹连接设有限位螺销（23）。5.根据权利要求3所述的一种可控制激光能量密度的泵浦源装置，其特征在于：所述定位底座（1）底面远离承重液压缸（14）的一侧中心位置开设有推动限位槽（18），且推动限位槽（18）与底座连接槽（24）贯穿，且推动限位槽（18）与底座连接槽（24）间隙配合。6.根据权利要求1所述的一种可控制激光能量密度的泵浦源装置，其特征在于：所述定位底座（1）底面四角固定设有定位件（19），且定位件（19）表面开设有螺孔，所述定位件（19）与定位底座（1）位于同一平面。7.根据权利要求1所述的一种可控制激光能量密度的泵浦源装置，其特征在于：所述定位轨道（7）内部底面开设有轨道滑槽（8），且轨道滑槽（8）为盲槽，所述第一单轴气缸（10）底面固定设有轨道滑块（11），所述轨道滑块（11）位于轨道滑槽（8）内部，且轨道滑槽（8）与轨
道滑块（11）滑动连接。

技术总结
本发明提供一种可控制激光能量密度的泵浦源装置，涉及泵浦光源技术领域，包括定位底座和定位轨道，定位底座顶面设有转动主轴，转动主轴顶部固定设有转动支板，相邻转动支板之间设有转动副轴，定位轨道底面设有承重座，承重座与转动副轴表面固定，定位轨道内部固定设有双轴气缸，双轴气缸两侧设有第一单轴气缸，承重板顶面固定设有第二单轴气缸，第一单轴气缸的活动端和第二单轴气缸活动端均固定设有夹持装置，双轴气缸，第一单轴气缸和第二单轴气缸进行相邻夹持装置间的上下左右尺寸的调节，转动主轴和转动副轴配合夹持装置的电动转盘，实现对透镜夹持的XYZ三个所在平面内的旋转调整，增加泵浦内部对不同透镜夹持的适配性和角度调节的灵活性。和角度调节的灵活性。和角度调节的灵活性。


技术研发人员：周少丰 黄良杰 刘飞
受保护的技术使用者：深圳市星汉激光科技股份有限公司
技术研发日：2021.12.31
技术公布日：2022/2/6