充电系统的制作方法

技术特征：
1.一种充电系统，其特征在于，包括：多脉波变压器，包括原边绕组、磁芯和多个副边绕组，所述多个副边绕组形成n个绕组对；n个交流-直流变换单元，与所述n个绕组对一一对应，每一所述交流-直流变换单元的输入端电连接于对应的绕组对；n个供电端，与所述n个交流-直流变换单元一一对应，每一所述供电端电连接于对应的交流-直流变换单元的输出端；以及充电调度装置，用于检测充电设备的数量m及所述供电端的状态，并在所述n个绕组对中确定对所述充电设备供电的m个目标绕组对，其中，所述m个目标绕组对包括靠近磁芯第一端分布的所述绕组对，以及靠近磁芯第二端分布的所述绕组对。2.根据权利要求1所述的系统，其特征在于，所述n个绕组对沿所述磁芯的中心线依次分布；对所述充电设备供电的目标绕组对至少包括第i个绕组对以及第n-i个绕组对，其中3≧i≧1，n>3。3.根据权利要求1所述的系统，其特征在于，所述n个绕组对沿所述磁芯的中心线依次分布；所述充电调度装置具体用于：若确定m为2，则将所述n个绕组对中顺序分布在两端的2个绕组对确定为目标绕组对；若确定m大于2，则将所述n个绕组对中顺序分布在两端的2个绕组对，以及分布在所述2个绕组对之间的m-2个绕组对，确定为目标绕组对。4.根据权利要求3所述的系统，其特征在于，分布在所述2个绕组对之间的所述m-2个目标绕组对均匀分布。5.根据权利要求2至4任一所述的系统，其特征在于，所述充电调度装置，具体用于若确定m大于n/2，则将为其中n/2个充电设备供电的目标绕组对设置为间隔分布的绕组对，且间隔为1个绕组对。6.一种充电系统，其特征在于，包括：多脉波变压器、n个电源装置以及充电调度装置；所述多脉波变压器包括：原边绕组、磁芯和多个副边绕组，其中，所述多个副边绕组形成2n个绕组对；每一所述电源装置与2个绕组对相对应，所述电源装置包括：第一交流-直流变换单元和第二交流-直流变换单元；其中，所述第一交流-直流变换单元的输入端电连接于所述2个绕组对中一个绕组对，所述第一交流-直流变换单元的输出端为第一供电端；所述第二交流-直流变换单元的输入端电连接于所述2个绕组对中另一个绕组对，所述第二交流-直流变换单元的输出端为第二供电端；所述充电调度装置，用于检测充电设备的数量m及供电端的状态，并在所述2n个绕组对中确定对所述充电设备供电的目标绕组对，其中，所述多个目标绕组对包括靠近磁芯第一端分布的所述绕组对，以及靠近磁芯第二端分布的所述绕组对。7.根据权利要求6所述的系统，其特征在于，与所述第一交流-直流变换单元连接的绕组对包括第一绕组和第二绕组，与所述第二交流-直流变换单元连接的绕组对包括第三绕组和第四绕组；所述第一绕组、所述第三绕组、所述第二绕组、所述第四绕组的输出电压的
相位依次左移或依次右移15
°
。8.根据权利要求7所述的系统，其特征在于，所述2n个绕组对沿所述磁芯中心线依次分布。9.根据权利要求8所述的系统，其特征在于，所述充电调度装置具体用于：若确定m为3，则将所述2n个绕组对中顺序分布在两端的2个绕组对，以及所述2个绕组对之一的1个相邻绕组对，确定为目标绕组对，其中，所述相邻绕组对与所述2个绕组对之一对应于同一个电源装置。10.根据权利要求8所述的系统，其特征在于，所述充电调度装置具体用于：若确定m大于或等于4，则将分布在磁芯第一端的2个绕组对，以及分布在磁芯第二端的2个绕组对，作为对其中4个充电设备供电的4个目标绕组对，其中，所述分布在磁芯第一端的2个绕组对都与一个电源装置相对应，所述分布在磁芯第二端的2个绕组对都与另一个电源装置相对应。11.根据权利要求10所述的系统，其特征在于，所述充电调度装置具体用于：若确定m大于4，则在所述分布在磁芯第一端的2个绕组对，与所述分布在磁芯第二端的2个绕组对之间的绕组对中，确定其余的m-4个目标绕组对。12.根据权利要求11所述的系统，其特征在于，m为偶数，所述其余的m-4个目标绕组对电连接于m/2-2个电源装置。13.根据权利要求11所述的系统，其特征在于，所述分布在磁芯第一端的2个绕组对，与所述分布在磁芯第二端的2个绕组之间的所述m-4个目标绕组对，均匀分布。

技术总结
本申请提供一种充电系统，包括多脉波变压器、AC-DC变换单元、供电端以及充电调度装置，其中，多脉波变压器的副边绕组形成n个绕组对；n个AC-DC变换单元与n个绕组对一一对应连接；n个供电端与n个AC-DC变换单元一一对应，每一供电端电连接于对应的AC-DC变换单元的输出端；充电调度装置用于检测充电设备的数量及供电端的状态，并在n个绕组对中确定对充电设备供电的M个目标绕组对，其中，M个目标绕组对包括靠近磁芯第一端分布的绕组对，以及靠近磁芯第二端分布的绕组对，从而减少原边绕组漏磁通在绕组上产生的绕组损耗，也减少了漏磁通在周围金属的涡流损耗，由此降低了多脉波变压器的损耗。耗。耗。


技术研发人员：孙丽萍 吴洪洋 倪建军 刘腾
受保护的技术使用者：台达电子企业管理（上海）有限公司
技术研发日：2020.05.21
技术公布日：2021/11/25