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聚光型太阳模拟器的制作方法

2021-11-18 01:38:00 来源:中国专利 TAG:

技术特征:
1.聚光型太阳模拟器,其特征在于,包括:第一承载支架;第一辐射模块,设置于所述第一承载支架上,用于提供第一辐射光线;其中,所述第一辐射模块设有第一反射镜,所述第一反射镜用于调节所述第一辐射光线的传播方向;第二辐射模块,设置于所述第一承载支架上,用于提供第二辐射光线;其中,所述第二辐射模块设有第二反射镜,所述第二反射镜用于调节所述第二辐射光线的传播方向;第三辐射模块,设置于所述第一承载支架上,用于提供第三辐射光线;其中,所述第三辐射模块设有第三反射镜,所述第三反射镜用于调节所述第三辐射光线的传播方向;第四辐射模块,设置于所述第一承载支架上,用于提供第四辐射光线;其中,所述第四辐射模块设有第四反射镜,所述第四反射镜用于调节所述第四辐射光线的传播方向;其中,所述第一反射镜、所述第二反射镜、所述第三反射镜、所述第四反射镜的中心轴相交于同一点。2.根据权利要求1所述的聚光型太阳模拟器,其特征在于,所述第一辐射模块,包括:第一氙灯,设置于所述第一反射镜的中心轴上,用于产生所述第一辐射光线;所述第二辐射模块,包括:第二氙灯,设置于所述第二反射镜的中心轴上,用于产生所述第二辐射光线;所述第三辐射模块,包括:第三氙灯,设置于所述第三反射镜的中心轴上,用于产生所述第三辐射光线;所述第四辐射模块,包括:第四氙灯,设置于所述第四反射镜的中心轴上,用于产生所述第四辐射光线。3.根据权利要求2所述的聚光型太阳模拟器,其特征在于,所述第一辐射模块,还包括,第一支撑架,所述第一支撑架用于固定所述第一氙灯的相对位置;所述第二辐射模块,还包括,第二支撑架,所述第二支撑架用于固定所述第二氙灯的相对位置;所述第三辐射模块,还包括,第三支撑架,所述第三支撑架用于固定所述第三氙灯的相对位置;所述第四辐射模块,还包括,第四支撑架,所述第四支撑架用于固定所述第四氙灯的相对位置。4.根据权利要求3所述的聚光型太阳模拟器,其特征在于,所述第一辐射模块,还包括:第一轴向调节件,所述第一辐射模块设置于所述第一氙灯的端部;所述第二辐射模块,还包括:第二轴向调节件,所述第二辐射模块设置于所述第二氙灯的端部;所述第三辐射模块,还包括:第三轴向调节件,所述第三辐射模块设置于所述第三氙灯的端部;所述第四辐射模块,还包括:第四轴向调节件,所述第四辐射模块设置于所述第四氙灯的端部。5.根据权利要求1所述的聚光型太阳模拟器,其特征在于,所述聚光型太阳模拟器还包括轴向滑动平台,所述轴向滑动平台与第一辐射模块连接,用于沿所述第一辐射模块的中心轴调节所述第一辐射模块的相对位置。
6.根据权利要求1所述的聚光型太阳模拟器,其特征在于,所述第一辐射模块,包括:第一限位架,所述第一限位架中设有第一限位孔,所述第一限位孔用于固定所述第一反射镜的相对位置;所述第二辐射模块,包括:第二限位架,所述第二限位架中设有第二限位孔,所述第二限位孔用于固定所述第二反射镜的相对位置;所述第三辐射模块,包括:第三限位架,所述第三限位架中设有第三限位孔,所述第三限位孔用于固定所述第三反射镜的相对位置;所述第四辐射模块,包括:第四限位架,所述第四限位架中设有第四限位孔,所述第四限位孔用于固定所述第四反射镜的相对位置。7.根据权利要求1所述的聚光型太阳模拟器,其特征在于,所述聚光型太阳模拟器还包括:光源驱动控制器,所述光源驱动控制器用于控制所述第一辐射模块、所述第二辐射模块、所述第三辐射模块、所述第四辐射模块的工作功率。8.根据权利要求1所述的聚光型太阳模拟器,其特征在于,所述聚光型太阳模拟器还包括:离心风机,用于引风,并对所述第一辐射模块、所述第二辐射模块、所述第三辐射模块、所述第四辐射模块进行散热;导风管,所述导风管一端与所述导风管连接,所述导风管的另一端分别与所述第一反射镜、所述第二反射镜、所述第三反射镜、所述第四反射镜连接。9.根据权利要求7或8所述的聚光型太阳模拟器,其特征在于,所述聚光型太阳模拟器包括:第二承载支架,用于承载所述光源驱动控制器或所述离心风机。10.根据权利要求1至8任一项所述的聚光型太阳模拟器,其特征在于,所述第一反射镜、所述第二反射镜、所述第三反射镜、所述第四反射镜为椭球型或截断椭球型。

技术总结
本申请公开了一种聚光型太阳模拟器。本申请的聚光型太阳模拟器包括:第一承载支架;第一辐射模块,设置于所述第一承载支架上,用于提供第一辐射光线;第二辐射模块,设置于所述第一承载支架上,用于提供第二辐射光线;第三辐射模块,设置于所述第一承载支架上,用于提供第三辐射光线;第四辐射模块,设置于所述第一承载支架上,用于提供第四辐射光线;其中,第一反射镜、第二反射镜、第三反射镜、第四反射镜的中心轴相交于同一点。本申请所提供的聚光型太阳模拟器通过可提供较高的热流密度,从而为太阳能吸收器或反应器的工作性能测试提供稳定、高热流密度的光场。高热流密度的光场。高热流密度的光场。


技术研发人员:黎杰扬 林蒙
受保护的技术使用者:南方科技大学
技术研发日:2021.08.09
技术公布日:2021/11/17
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本文用于企业家、创业者技术爱好者查询,结果仅供参考。

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