一种掩膜板检测程序创建方法及相关装置与流程

本技术涉及缺陷检测，特别是涉及一种掩膜板检测程序创建方法及相关装置。

背景技术：

1、随着半导体行业向高精度、高集成度的方向快速发展，作为光刻工艺的核心模板，掩膜板的图案精度直接决定芯片良率，因此，对掩膜板的缺陷检测精度和效率提出了更严苛的要求。

2、目前，掩膜板检测程序（recipe）的创建主要依赖于人工配置，操作员需在检测机台使用相机采集光学图像或根据掩膜板设计文件（如gdsii/oasis）手动划定检测区域（roi）、设置缺陷判定阈值、调整光学参数及聚焦策略，整个过程耗时长且依赖经验积累，检测程序的参数一致性差，不同操作员对缺陷判定阈值和检测优先级的主观设定存在差异，易造成对缺陷的漏检或误检。

3、由此，如何减少机时占用并提升掩膜板检测程序的参数一致性，成为需要解决的问题。

技术实现思路

1、基于上述问题，本技术提供了一种掩膜板检测程序创建方法及相关装置，能够减少机时占用并提升掩膜板检测程序的参数一致性。

2、本技术实施例公开了如下技术方案：

3、第一方面，本技术实施例提供了一种掩膜板检测程序创建方法，所述方法包括：

4、解析接收到的检测触发指令，从掩膜板信息数据库中检索并提取待检测掩膜板的基本信息；所述基本信息至少包括所述待检测掩膜板的设计参数以及与所述待检测掩膜板同类型的掩膜板的历史检测数据；

5、基于所述基本信息，通过预设的学习模型对所述历史检测数据进行特征提取与模式识别，生成第一数据集；所述第一数据集包括全局基准分辨率、检测区域优先级以及缺陷判定置信度阈值；

6、基于获取的待检测掩膜板的设计参数，生成第二数据集、聚焦参数集、对位点以及调光参数；所述第二数据集包含扫描区域优先级、分辨率要求、检测模式、以及检测算法类型；

7、组合所述第一数据集、所述第二数据集、所述聚焦参数集、所述对位点以及所述调光参数，得到检测程序。

8、可选地，所述待检测掩膜板的设计参数通过解析待检测掩膜板的设计文件获取，所述基于获取的待检测掩膜板的设计参数，生成第二数据集、聚焦参数集、对位点以及调光参数，包括：

9、基于获取的待检测掩膜板的设计参数，提取待检测掩膜板的检测区域坐标，并基于所述检测区域坐标以及待检测掩膜板的设计参数生成第二数据集；

10、基于获取的待检测掩膜板的设计参数进行聚焦参数配置，生成聚焦参数集；

11、基于获取的待检测掩膜板的设计参数，提取待检测掩膜板版图文件中的对位标记，确定对位点；

12、基于获取的待检测掩膜板的设计参数，提取待检测掩膜板的图层属性，根据所述图层属性与材料的映射关系以及基于材料光学特性定义的光学参数目标值，生成调光参数。

13、可选地，所述基于获取的待检测掩膜板的设计参数，提取待检测掩膜板的检测区域坐标，并基于所述检测区域坐标以及待检测掩膜板的设计参数生成第二数据集，包括：

14、基于获取的待检测掩膜板的设计参数，通过预设的区域特征识别算法确定待检测掩膜板的区域特征；

15、若所述区域特征指示待检测掩膜板包含重复区域，则对所述待检测掩膜板的设计文件中的版图数据进行逐层扫描，提取重复单元的起始坐标、行数、列数以及单元间距，得到待检测掩膜板的检测区域坐标；

16、若所述区域特征指示待检测掩膜板不包含重复区域，则提取待检测掩膜板中有效图案的最小外接矩形，得到待检测掩膜板的检测区域坐标；

17、基于所述检测区域坐标以及待检测掩膜板的设计参数生成第二数据集。

18、可选地，所述提取待检测掩膜板中有效图案的最小外接矩形，得到待检测掩膜板的检测区域坐标，包括：

19、提取待检测掩膜板中有效图案的最小外接矩形；

20、基于预设的边缘冗余量扩展所述最小外接矩形的边界，得到待检测掩膜板的检测区域坐标。

21、可选地，所述基于所述检测区域坐标以及待检测掩膜板的设计参数生成第二数据集，包括：

22、对所述检测区域坐标进行坐标校验，得到无重叠区域且边界在有效版图范围内的有效坐标；

23、基于检测设备对应的标准坐标协议，将所述有效坐标转换为标准坐标；

24、基于所述标准坐标以及待检测掩膜板的设计参数生成第二数据集。

25、可选地，所述基于获取的待检测掩膜板的设计参数进行聚焦参数配置，生成聚焦参数集，包括：

26、基于获取的待检测掩膜板的设计参数，提取各个扫描区域的特征信息；

27、基于所述特征信息以及所述历史检测数据中的聚焦参数数据库，通过基于深度学习的聚集预测模型预测初始聚焦区间，生成包含轴向聚焦位置、横向扫描间隔以及聚焦稳定性判定阈值的聚焦参数集。

28、可选地，所述基于获取的待检测掩膜板的设计参数进行聚焦参数配置，生成聚焦参数集，包括：

29、将待检测掩膜板的待检测区域划分为阵列排布的分割区域；

30、通过设计文件解析器，识别各个分割区域的材质参数及厚度；

31、基于各个分割区域的材质参数及厚度，通过曲面拟合形成初始聚焦曲面；

32、将所述初始聚焦曲面的数据同步至自动聚焦配置文件，生成聚焦参数集。

33、可选地，所述待检测掩膜板的设计参数通过解析待检测掩膜板的设计文件获取，所述基于获取的待检测掩膜板的设计参数，生成第二数据集、聚焦参数集、对位点以及调光参数，包括：

34、基于获取的待检测掩膜板的设计参数，提取待检测掩膜板的检测区域坐标并进行坐标校验，生成第二数据集；

35、基于获取的待检测掩膜板的设计参数进行聚焦参数配置，生成聚焦参数集；

36、基于获取的待检测掩膜板的设计参数，从预设的对位模版库中选择与所述待检测掩膜板匹配的目标对位模版，提取所述目标对位模版中的对位标记以确定对位点；

37、基于获取的待检测掩膜板的设计参数，提取待检测掩膜板的图层属性，根据所述图层属性与材料的映射关系以及基于材料光学特性定义的光学参数目标值，生成调光参数。

38、可选地，所述待检测掩膜板的设计参数包括用户输入的检测区域图像、自动聚焦参数、对位模板图像以及自动光学参数，所述基于获取的待检测掩膜板的设计参数，生成第二数据集、聚焦参数集、对位点以及调光参数，包括：

39、基于所述检测区域图像以及所述历史检测数据，推荐扫描区域优先级、分辨率要求、检测模式及算法类型，生成第二数据集；

40、基于所述自动聚焦参数以及所述历史检测数据，推荐轴向聚焦位置、横向扫描间隔及聚焦稳定性判定阈值，生成聚焦参数集；

41、基于所述对位模板图像以及所述历史检测数据，生成对位点数量和分布信息，以确定对位点；

42、基于所述自动光学参数以及材质参数与光学参数的映射关系，生成各材质区域各自对应的调光参数。

43、可选地，所述基于所述自动聚焦参数以及所述历史检测数据，推荐轴向聚焦位置、横向扫描间隔及聚焦稳定性判定阈值，生成聚焦参数集，包括：

44、标记待检测掩膜板中各分割区域的材质参数；

45、基于所述自动聚焦参数以及所述材质参数，依据生成初始聚焦曲面；

46、基于所述初始聚焦曲面对应的自动聚焦参数，以及所述历史检测数据，推荐轴向聚焦位置、横向扫描间隔及聚焦稳定性判定阈值，生成聚焦参数集。

47、可选地，所述待检测掩膜板的设计参数包括用户通过插件选择的检测区域选择数据、聚焦点位、对位点以及材质区域点位，所述基于获取的待检测掩膜板的设计参数，生成第二数据集、聚焦参数集、对位模板以及调光参数，包括：

48、基于所述检测区域选择数据以及所述历史检测数据，推荐扫描区域优先级、分辨率要求、检测模式及算法类型，生成第二数据集；

49、基于所述聚焦点位以及每个聚焦点位的材质参数及厚度，结合所述历史检测数据中材质参数类型相同的聚焦数据，生成聚焦参数集；

50、基于所述对位点以及所述历史检测数据，确定对位点；

51、基于所述材质区域点位以及材质参数与光学参数的映射关系，生成各材质区域各自对应的调光参数。

52、第二方面，本技术实施例提供了一种掩膜板检测程序创建装置，所述装置包括：

53、提取模块，用于解析接收到的检测触发指令，从掩膜板信息数据库中检索并提取待检测掩膜板的基本信息；所述基本信息至少包括所述待检测掩膜板的设计参数以及与所述待检测掩膜板同类型的掩膜板的历史检测数据；

54、第一数据生成模块，用于基于所述基本信息，通过预设的学习模型对所述历史检测数据进行特征提取与模式识别，生成第一数据集；所述第一数据集包括全局基准分辨率、检测区域优先级以及缺陷判定置信度阈值；

55、第二数据生成模块，用于基于获取的待检测掩膜板的设计参数，生成第二数据集、聚焦参数集、对位点以及调光参数；所述第二数据集包含扫描区域优先级、分辨率要求、检测模式、以及检测算法类型；

56、组合模块，用于组合所述第一数据集、所述第二数据集、所述聚焦参数集、所述对位点以及所述调光参数，得到检测程序。

57、第三方面，本技术实施例提供了一种掩膜板检测程序创建设备，所述设备包括：存储器和处理器；

58、所述存储器用于存储程序代码，并将所述程序代码传输给所述处理器；

59、所述处理器用于根据所述程序代码执行第一方面中任一实施方式所述的掩膜板检测程序创建方法的步骤。

60、第四方面，本技术实施例提供了一种计算机可读存储介质，所述计算机可读存储介质中存储有计算机程序，当所述计算机程序在掩膜板检测程序创建设备上运行时，所述掩膜板检测程序创建设备执行第一方面中任一实施方式所述的掩膜板检测程序创建方法的步骤。

61、相较于现有技术，本技术具有以下有益效果：

62、本技术实施例提供了一种掩膜板检测程序创建方法，该方法中，首先，解析接收到的检测触发指令，从掩膜板信息数据库中检索并提取待检测掩膜板的基本信息；所述基本信息至少包括所述待检测掩膜板的设计参数以及与所述待检测掩膜板同类型的掩膜板的历史检测数据；而后，基于所述基本信息中的掩膜板类型、设计图案复杂度、材料透光强度和反光率、以及历史缺陷分布特征，通过预设的学习模型对所述历史检测数据进行特征提取与模式识别，生成第一数据集；所述第一数据集包括全局基准分辨率、检测区域优先级以及缺陷判定置信度阈值；接着，基于获取的待检测掩膜板的设计参数，生成第二数据集、聚焦参数集、对位点以及调光参数；所述第二数据集包含扫描区域优先级、分辨率要求、检测模式、以及检测算法类型；最后，组合所述第一数据集、所述第二数据集、所述聚焦参数集、所述对位点以及所述调光参数，得到检测程序。

63、由此，整个检测程序的创建过程无需依赖人工经验手动调整参数，大幅减少了人工参与环节，节省了大量机时，降低了对操作员专业技能的依赖，避免了人工输入参数的繁琐操作与主观偏差，提升了掩膜板检测程序的参数一致性，显著缩短了检测程序创建时间，降低了机台离线等待成本，提升了检测流程整体效率。此外，基于同类型掩膜板的历史检测数据与预设学习模型生成创建检测程序所需的核心参数，确保了缺陷判定置信度阈值、检测区域优先级等关键配置的一致性，消除了不同操作员经验差异导致的检测偏差，降低了对缺陷漏检及误检的风险；基于待检测掩膜板的设计参数，生成第二数据集、聚焦参数集、对位点以及调光参数，可以使检测程序较好地适配不同待检测掩膜板的检测需求，提升微小缺陷的检出稳定性，增强检测程序的自适应能力。