掩模板面型调整装置及掩模板面型调整方法与流程

本申请涉及光刻，具体而言，涉及一种掩模板面型调整装置及掩模板面型调整方法。

背景技术：

1、在光刻过程中，晶圆与掩模板之间的间距（即焦深）会对曝光精度造成影响，若掩模板的面型平整度较低，则难以控制晶圆与掩模板之间的间距（即焦深），从而导致曝光的线宽精度与套刻精度降低。

技术实现思路

1、为了至少克服现有技术中的上述不足，本申请的目的在于提供一种掩模板面型调整装置及掩模板面型调整方法。

2、第一方面，本申请实施例提供一种掩模板面型调整装置，所述掩模板面型调整装置包括：

3、晶圆固定模块，所述晶圆固定模块用于放置晶圆；

4、吸盘，所述吸盘与所述晶圆固定模块相对设置，所述吸盘用于吸附待调整掩模板，所述待调整掩模板位于所述吸盘靠近所述晶圆的一侧，所述待调整掩模板包括掩模图案区域；

5、检测模块，所述检测模块位于所述晶圆固定模块远离所述吸盘的一侧，所述检测模块用于向所述待调整掩模板发射检测激光信号，并接收经所述待调整掩模板反射后的目标激光信号，以获取所述待调整掩模板的面型数据；

6、位置调整模块，所述位置调整模块与所述检测模块连接，所述位置调整模块用于根据目标出射位置和目标扫描路径控制所述检测模块进行移动；

7、面型调整模块，所述面型调整模块与所述吸盘连接，所述面型调整模块用于接收所述检测模块发送的面型数据，并根据所述面型数据对所述待调整掩模板的面型进行调整，得到目标掩模板。

8、在一种可能的实现方式中，所述掩模板面型调整装置还包括角度调整模块，所述角度调整模块与所述检测模块连接，所述角度调整模块用于调节所述检测激光信号的出射角度。

9、在一种可能的实现方式中，所述检测模块包括多个呈阵列排布的微位移传感器；所述微位移传感器包括激光发射单元和信号接收探头；所述激光发射单元用于向所述待调整掩模板发射所述检测激光信号，所述信号接收探头用于接收经所述待调整掩模板反射后的目标激光信号，以获取所述待调整掩模板的面型数据。

10、在一种可能的实现方式中，所述晶圆固定模块设置有至少一个透射窗口；所述检测模块用于通过所述晶圆固定模块的透射窗口向所述待调整掩模板发射所述检测激光信号。

11、在一种可能的实现方式中，所述吸盘包括真空吸盘，所述吸盘朝向所述晶圆固定模块一侧的表面设置有多个吸附孔，多个所述吸附孔均匀分布，用于通过真空吸附的方式固定所述待调整掩模板。

12、第二方面，本申请实施例还提供一种掩模板面型调整方法，所述掩模板面型调整方法应用于上述任一方面所述的掩模板面型调整装置，所述方法包括：

13、提供一晶圆，将所述晶圆放置于晶圆固定模块上；

14、提供一待调整掩模板，所述待调整掩模板包括掩模图案区域；将所述待调整掩模板设置于吸盘靠近所述晶圆的一侧，所述吸盘与所述晶圆固定模块相对设置；

15、获取目标出射位置和目标扫描路径，根据所述目标出射位置和所述目标扫描路径通过位置调整模块控制检测模块进行移动，使所述检测模块向所述待调整掩模板发射检测激光信号；

16、通过所述检测模块接收经所述待调整掩模板反射后的目标激光信号，以获取所述待调整掩模板的面型数据；

17、根据所述面型数据通过面型调整模块对所述待调整掩模板的面型进行调整，得到目标掩模板。

18、在一种可能的实现方式中，获取目标出射位置和目标扫描路径的步骤，包括：

19、根据所述掩模图案区域的形状确定扫描方向，并根据预设数据采集密度确定所述位置调整模块的步进方向和步进距离；

20、根据所述扫描方向、所述步进方向和所述步进距离生成目标扫描路径；

21、根据所述掩模图案区域的尺寸、所述掩模图案区域的位置及所述扫描路径确定目标出射位置。

22、在一种可能的实现方式中，所述检测模块包括多个呈阵列排布的微位移传感器；所述微位移传感器包括激光发射单元和信号接收探头；

23、根据所述目标出射位置和所述目标扫描路径通过位置调整模块控制检测模块进行移动，使所述检测模块向所述待调整掩模板发射检测激光信号的步骤，包括：

24、根据所述目标出射位置和所述目标扫描路径通过位置调整模块控制多个所述激光发射单元进行移动，使多个所述激光发射单元向所述待调整掩模板发射检测激光信号；

25、通过所述检测模块接收经所述待调整掩模板反射后的目标激光信号，以获取所述待调整掩模板的面型数据的步骤，包括：

26、通过多个所述信号接收探头分别接收经所述待调整掩模板反射后的多个目标激光信号，以获取所述待调整掩模板的面型数据。

27、在一种可能的实现方式中，所述掩模板面型调整装置还包括角度调整模块，所述角度调整模块与所述检测模块连接；

28、根据所述目标出射位置和所述目标扫描路径通过位置调整模块控制检测模块进行移动，使所述检测模块向所述待调整掩模板发射检测激光信号的步骤之前，所述方法还包括：

29、基于预设条件对所述位置调整模块和所述面型调整模块进行精度校准；

30、通过角度调整模块对检测模块的出射角度进行调整，使所述检测激光信号的出射方向与所述待调整掩模板所在平面垂直；

31、控制所述晶圆固定模块相对所述位置调整模块保持静止。

32、在一种可能的实现方式中，根据所述面型数据通过面型调整模块对所述待调整掩模板的面型进行调整，得到目标掩模板的步骤之后，所述方法还包括：

33、对所述晶圆和所述目标掩模板之间的间距进行调整，并对所述晶圆进行曝光，在所述晶圆表面形成与所述掩模图案区域对应的目标图形区域。

34、基于上述任意一个方面，本申请实施例提供的掩模板面型调整装置及掩模板面型调整方法，通过检测模块与位置调整模块的协同配合，可以实时检测待调整掩模板的面型信息，并将面型信息发送至面型调整模块，使面型调整模块对待调整掩模板的面型进行调整，从而实现高精度的面型调控，有利于提升曝光的线宽精度与套刻精度。

1.一种掩模板面型调整装置，其特征在于，所述掩模板面型调整装置包括：

2.根据权利要求1所述的掩模板面型调整装置，其特征在于，所述掩模板面型调整装置还包括角度调整模块，所述角度调整模块与所述检测模块连接，所述角度调整模块用于调节所述检测激光信号的出射角度。

3.根据权利要求1所述的掩模板面型调整装置，其特征在于，所述检测模块包括多个呈阵列排布的微位移传感器；所述微位移传感器包括激光发射单元和信号接收探头；所述激光发射单元用于向所述待调整掩模板发射所述检测激光信号，所述信号接收探头用于接收经所述待调整掩模板反射后的目标激光信号，以获取所述待调整掩模板的面型数据。

4.根据权利要求1所述的掩模板面型调整装置，其特征在于，所述晶圆固定模块设置有至少一个透射窗口；所述检测模块用于通过所述晶圆固定模块的透射窗口向所述待调整掩模板发射所述检测激光信号。

5.根据权利要求1所述的掩模板面型调整装置，其特征在于，所述吸盘包括真空吸盘，所述吸盘朝向所述晶圆固定模块一侧的表面设置有多个吸附孔，多个所述吸附孔均匀分布，用于通过真空吸附的方式固定所述待调整掩模板。

6.一种掩模板面型调整方法，其特征在于，应用于权利要求1-5任意一项所述的掩模板面型调整装置，所述方法包括：

7.根据权利要求6所述的掩模板面型调整方法，其特征在于，获取目标出射位置和目标扫描路径的步骤，包括：

8.根据权利要求6所述的掩模板面型调整方法，其特征在于，所述检测模块包括多个呈阵列排布的微位移传感器；所述微位移传感器包括激光发射单元和信号接收探头；

9.根据权利要求6所述的掩模板面型调整方法，其特征在于，所述掩模板面型调整装置还包括角度调整模块，所述角度调整模块与所述检测模块连接；

10.根据权利要求6所述的掩模板面型调整方法，其特征在于，根据所述面型数据通过面型调整模块对所述待调整掩模板的面型进行调整，得到目标掩模板的步骤之后，所述方法还包括：