声学阻尼装置、流体输送系统、温度调节系统和光刻设备的制作方法

本发明涉及一种声学阻尼装置。本发明还涉及一种流体输送系统、包括这种流体输送系统的温度调节系统、和包括这种温度调节系统的光刻设备。

背景技术：

1、光刻设备是一种被构造为将期望图案施加到衬底上的机器。例如，光刻设备可以被用于集成电路（ic）的制造。例如，光刻设备可以将图案形成装置（例如，掩模）处的图案投影到设置在衬底上的辐射敏感材料（抗蚀剂）层上。

2、为了在衬底上投影图案，光刻设备可以使用电磁辐射。这种辐射的波长决定了可以被形成在衬底上的特征的最小尺寸。与使用例如波长为193nm的辐射相比，使用波长在4nm至20nm范围内（例如，6.7nm或13.5nm）的极紫外（euv）辐射的光刻设备可以被用于在衬底上形成更小的特征。

3、通常，期望光刻设备具有高产量。为了提高euv光刻设备的产量，极紫外（euv）辐射也应当具有增加的功率。更高euv辐射功率的挑战中的一个挑战是，它会加热投影系统的反射镜等光学元件并且使其变形。这种变形可能会导致成像和重叠误差，通常称为透镜或反射镜加热误差。

4、为了减轻和/或减少这种透镜或反射镜加热误差，可以使用温度调节液体（例如，水）直接冷却反射镜等光学元件，该温度调节液体被引导通过相应光学元件中的温度调节流体管线。虽然该解决方案大大改善了光学元件的温度控制，但由于各种来源生成的压力波动，温度调节液体可能会向光学元件中引入声学噪声。这种声学噪声可能对光学元件的性能产生显著的负面影响，并且从而对重叠性能产生影响。为了降低声学噪声，温度调节液体中的压力波动在到达光学元件之前应当被抑制。

5、已经提出，经由气体消声器（也称为赫尔姆霍兹（helmholtz）谐振器）来减少温度调节液体内的压力波动。在这种气体消声器中，使用气体（例如，空气）作为温度调节液体谐振质量的弹簧。可以在气体消声器中布置隔膜以将气体和冷却液体彼此分离，以避免气体随时间而溶解到冷却液体中。

6、温度调节系统中可以串联使用多个这样的气体消声器。然而，由于温度调节系统中两个或更多个气体消声器之间的温度调节液体的谐振质量，气体消声器的放置可能会产生低频压力尖峰。这些低频压力尖峰可能对光学元件的位置精度产生负面影响，特别是位置未被主动控制的光学元件。此外，声学模式（即，驻波）可能在温度调节系统的温度调节液体导管内以及在气体消声器中产生。这可能会导致冷却液体中出现不希望的高频压力尖峰。这些高频压力尖峰也可能对光学元件的性能产生负面影响。

7、wo2024/068138 a1是在本专利申请的优先权日之前提交并且在本专利申请的优先权日之后公布的共同未决的pct申请，其内容通过引用以其整体并入本文。wo2024/068138 a1公开了一种用于冷却光刻系统的位置敏感部件的冷却装置，该冷却装置包括冷却管线和弹性分离隔膜，该冷却管线具有用于将冷却液体传导至位置敏感部件的液体腔室和用于接收气体的气体腔室，该弹性分离隔膜布置在冷却管线内部，并且将气体腔室与液体腔室分离。

技术实现思路

1、本发明的一方面的目的是提供一种声学阻尼装置，在流体输送系统可以使用该声学阻尼装置以阻尼由流体输送系统输送的流体中的低频压力尖峰和/或高频压力尖峰。特别地，本发明的一方面的目的是阻尼在真空条件下使用的温度调节系统的温度调节液体中的低频压力尖峰和/或高频压力尖峰。

2、根据本发明的一方面，提供了一种声学阻尼装置，所述声学阻尼装置包括：

3、外壳，所述外壳包围流动通道，所述流动通道具有连接到液体入口的第一端和连接到液体出口的第二端；以及

4、内管，所述内管布置在所述外壳内，

5、其中，在所述内管内限定一阻尼空间，

6、其中，所述流动通道在所述内管与所述外壳之间延伸，并且

7、其中，所述内管至少部分地由弹性材料或粘弹性材料制成，以阻尼流动通过所述流动通道的流体中的压力波。

8、根据本发明的一方面，提供了一种流体输送系统，所述流体输送系统包括声学阻尼装置，所述声学阻尼装置包括：

9、外壳，所述外壳包围流动通道，所述流动通道具有连接到液体入口的第一端和连接到液体出口的第二端；以及

10、内管，所述内管布置在所述外壳内，

11、其中，在所述内管内限定一阻尼空间，

12、其中，所述流动通道在所述内管与所述外壳之间延伸，并且

13、其中，所述内管至少部分地由弹性材料或粘弹性材料制成，以阻尼流动通过所述流动通道的流体中的压力波。

14、根据本发明的一方面，提供了一种用于物体的温度调节的温度调节系统，所述温度调节系统包括根据权利要求15至20中的任一项所述的流体输送系统。

15、根据本发明的一方面，提供了一种光刻设备，所述光刻设备包括根据权利要求21所述的温度调节系统，以用于对所述光刻设备的部件（诸如，投影系统的光学元件、衬底支撑件或图案形成装置支撑件）进行温度调节。

1.一种声学阻尼装置，包括：

2.根据权利要求1所述的声学阻尼装置，其中，所述阻尼空间是填充有可压缩流体和/或可压缩的阻尼材料或结构的封闭的阻尼空间。

3.根据权利要求2所述的声学阻尼装置，其中，所述内管在该内管的相对的两端处是封闭的，以创建所述封闭的阻尼空间，其中，所述内管包括封闭元件以在相对的两端处封闭所述内管。

4.根据权利要求3所述的声学阻尼装置，其中，所述封闭元件被成形为避免或最小化在所述封闭元件处产生流动引起的振动。

5.根据权利要求3或4所述的声学阻尼装置，其中，所述封闭元件是锥形形状的。

6.根据权利要求3至5中的任一项所述的声学阻尼装置，其中，所述封闭元件利用防漏密封件被密封到所述内管的相应端。

7.根据权利要求1至6中的任一项所述的声学阻尼装置，其中，所述声学阻尼装置包括位于所述外壳与所述内管之间的一个或多个支撑元件，以将所述内管相对于所述外壳保持在期望位置，例如居中位置。

8.根据权利要求7所述的声学阻尼装置，其中，所述支撑元件具有低热导率。

9.根据权利要求7或8所述的声学阻尼装置，其中，所述支撑元件被成形为避免或最小化在所述支撑元件处产生流动引起的振动。

10.根据权利要求7至9中的任一项所述的声学阻尼装置，其中，所述内管包括封闭元件以在相对的两端处封闭所述内管，其中，所述支撑元件布置在所述封闭元件的外端处。

11.根据权利要求7至10中的任一项所述的声学阻尼装置，其中，所述支撑元件是相对薄的板状或翅片状的元件，其中，所述板状或翅片状的元件与冷却液体流的流动方向对准。

12.根据权利要求1至10中的任一项所述的声学阻尼装置，其中，所述内管与所述外壳之间的所述流动通道包括环形横截面，其中，所述内管与所述外壳之间的所述流动通道的所述环形横截面的表面面积与所述流动通道在所述第一端和/或所述第二端处的横截面的表面面积基本上一致。

13.根据权利要求1至12中的任一项所述的声学阻尼装置，其中，所述粘弹性材料包括以下中的至少一种：

14.根据权利要求1至12中的任一项所述的声学阻尼装置，其中，所述外壳是至少部分地柔性的，例如通过包括一个或多个波纹状区段。

15.一种流体输送系统，包括根据前述权利要求中的任一项所述的声学阻尼装置。

16.根据权利要求15所述的流体输送系统，其中，所述流体输送系统还包括：

17.根据权利要求15或16所述的流体输送系统，其中，所述流体输送系统被配置为输送用于物体的温度调节的温度调节系统的温度调节流体，例如温度调节液体。

18.根据权利要求15至17中的任一项所述的流体输送系统，其中，所述流体输送系统包括沿着一个或多个流体管线串联的另外的气体消声器，其中，管状的声学阻尼装置在所述一个或多个流体管线中设置在相邻的另外的气体消声器之间，使得所述管状的声学阻尼装置的流动通道是所述一个或多个流体管线的一部分。

19.根据权利要求15至18中的任一项所述的流体输送系统，其中，所述流体输送系统包括气体管，所述气体管连接到至少一个声学阻尼装置的所述阻尼空间并且连接到气体调节装置，所述气体调节装置被配置为控制所述气体管中的气体的气体压力。

20.根据权利要求15至18中的任一项所述的流体输送系统，其中，所述气体管至少部分地延伸穿过所述流体输送系统的所述流体管线。

21.一种用于物体的温度调节的温度调节系统，所述温度调节系统包括根据权利要求15至20中的任一项所述的流体输送系统。

22.一种光刻设备，包括根据前一权利要求所述的温度调节系统，以用于对所述光刻设备的部件进行温度调节，所述部件例如是投影系统的光学元件、衬底支撑件或图案形成装置支撑件。