掩膜支撑架和掩膜组件的制作方法

本发明涉及显示，具体涉及一种掩膜支撑架和具有该掩膜支撑架的掩膜组件。

背景技术：

1、采用金属掩膜板在待蒸镀基板上进行材料蒸镀时，需要掩膜支撑架对金属掩膜板进行支撑，并控制金属掩膜板与待蒸镀基板需要相贴合。设置的掩膜支撑架不仅为掩膜板提供支持力，还确保了掩膜板在光刻过程中的精确定位和稳定性。在进行蒸镀时，利用设置于待蒸镀基板另一侧的磁铁元件对金属掩膜板的磁吸力，使金属掩膜板与待蒸镀基板紧密贴合连接，蒸镀材料穿过金属掩膜板上对应的开孔沉积在待蒸镀基板上，从而在待蒸镀基板上形成对应的图形。

2、为了不影响显示屏的头部区域的显示，会对该头部区域遮挡会在内部支撑体上设置遮挡区，掩膜支撑架的内部支撑体的厚度较小及内部支撑体的宽度较宽，内部支撑体的支撑部和遮挡区在磁场吸附下不能很好展平而出现褶皱现象，产生褶皱会在掩膜支撑架与待蒸镀基板之间造成间隙，进而在蒸镀时使得褶皱在待蒸镀基板的对应区域产生蒸镀阴影并造成混色，从而造成产品不良的问题。

技术实现思路

1、有鉴于此，本发明实施例致力于提供一种掩膜支撑架和掩膜组件，以解决现有技术中掩膜支撑架存在褶皱造成掩膜支撑架与待蒸镀基板之间存在间隙引起蒸镀混色降低显示屏清晰度的问题。

2、本发明一方面提供了一种掩膜支撑架。

3、本发明另一方面提供了一种掩膜组件。

4、本发明实施例的掩膜支撑架包括框架体和内部支撑体。用于支撑在制备待蒸镀基板的公共膜层的掩膜板。

5、所述框架体和所述内部支撑体中的每一者均采用能够被磁体吸附的金属材料制成，所述内部支撑体设置在所述框架体内，且所述内部支撑体与所述框架体形成多个用于放置掩膜板的放置口，所述放置口的形状和尺寸均能够与所述掩膜板匹配，所述放置口的正投影能够覆盖于待蒸镀基板的像素设置区，所述内部支撑体的一部分具有朝向所述放置口内部凸出的多个遮挡部，多个所述遮挡部与多个所述放置口对应地设置，且每个所述遮挡部的正投影能够覆盖于待蒸镀基板中需进行遮挡的部件上，设置有所述遮挡部的所述内部支撑体上设有多个减磁吸部。

6、本发明实施例的掩膜支撑架，通过在内部支撑体的遮挡部的区域设置减磁吸部，减磁吸部靠近遮挡部设置，在进行蒸镀前，需要施加磁场使所述掩膜板在磁场作用下，内部支撑体可以与待蒸镀基板贴合，内部支撑体设置遮挡部的区域相对磁力大，而设置的减磁吸部能够减弱与磁场的磁铁元件的磁吸力，因而可以使减磁吸部区域的褶皱能够顺利向边缘扩展，避免产生褶皱堆积，从而达到避免内部支撑体褶皱或堆积的问题，当掩膜板平整时，有机材料能够按照设计要求精准地沉积在预定区域，从而确保每个像素点都能准确对准目标位置，在没有褶皱和堆积的情况下，蒸镀的有机材料可以更均匀地沉积到基板上，从而形成清晰、无缺陷的子像素结构，进而，本发明实施例的掩膜支撑架提升了所制作显示屏的图片精度和清晰度。

7、因此，本发明实施例的掩膜支撑架具有提高图案精度和清晰度的优点。

8、在一个实施例中，所述内部支撑体包括横向支撑条和纵向支撑条，所述横向支撑条和所述纵向支撑条纵横交错地设置在所述框架体内以形成多个所述放置口，所述减磁吸部和所述遮挡部中的每一者设置在所述横向支撑条或所述纵向支撑条上。

9、在一个实施例中，所述内部支撑体上开设多个矩阵设置的放置口，并在所述内部支撑体上形成横向支撑条和纵向支撑条，所述减磁吸部和所述遮挡部中的每一者设置在所述横向支撑条或所述纵向支撑条上。

10、在一个实施例中，每个所述放置口内均设置有所述遮挡部。

11、在一个实施例中，所述横向支撑条的宽度为8mm-15mm。

12、在一个实施例中，所述减磁吸部为形成在所述内部支撑体上的开孔和/或第一减薄凹槽。

13、在一个实施例中，所述减磁吸部与所述遮挡部在所述遮挡部凸出于所述内部支撑体的方向上正对设置。

14、在一个实施例中，所示内部支撑体上开设有所述开孔，且所述开孔的侧壁面上的所述第一减薄凹槽，所述开孔和所述第一减薄凹槽形成所述减磁吸部。

15、在一个实施例中，所述内部支撑体的厚度为88um-122um，所述第一减薄凹槽的深度为所述内部支撑体的厚度0.42-0.62倍。

16、在一个实施例中，所述第一减薄凹槽内填充有第一磁吸隔离层。

17、在一个实施例中，所述开孔的横截面为所述遮挡部的面积的0.8倍-1.2倍。

18、在一个实施例中，所述开孔距所述内部支撑体的边沿的最小间距为2mm-3mm。

19、在一个实施例中，所述遮挡部的边缘设置有朝向所述待蒸镀基板的一侧上设有第二减薄凹槽，所述第二减薄凹槽内设有第二磁隔离层。

20、在一个实施例中，所述第二减薄凹槽的深度沿由内至外的方向增加，所述第二磁隔离层的厚度沿由内至外的方向增加，所述第二磁隔离层的厚度大于等于所述第二减薄凹槽的深度，从所述第二减薄凹槽设置区域到其中一所述边缘的部分形成为平面。

21、本发明的掩膜组件包括掩膜板和根据上述中任一项所述的掩膜支撑架，所述掩膜板搭于所述内部支撑体和/或所述框架体上，且所述掩膜板与所述放置口对应设置。

22、在一个实施例中，所述掩膜板包括掩膜板本体和第三磁隔离层，所述掩膜板为采用能够被磁体吸附的金属材料制成，所述第三磁隔离层为不能够被磁体吸附的材料制成，所述掩膜板上设置有多个蒸镀孔以形成蒸镀区，所述蒸镀区的边缘与所述蒸镀孔设置区域之间设置有第三减薄凹槽，所述磁隔离层设置在所述掩膜板本体的边缘与所述放置口设置区域之间，且至少部分填充在所述第三减薄凹槽中。

1.一种掩膜支撑架，其特征在于，用于支撑在制备待蒸镀基板的掩膜板；所述掩膜支撑架包括：

2.根据权利要求1所述的掩膜支撑架，其特征在于，

3.根据权利要求2所述的掩膜支撑架，其特征在于，

4.根据权利要求1所述的掩膜支撑架，其特征在于，所述减磁吸部为形成在所述内部支撑体上的开孔和/或第一减薄凹槽；

5.根据权利要求4所述的掩膜支撑架，其特征在于，所示内部支撑体上开设有所述开孔，且所述开孔的侧壁面上的所述第一减薄凹槽，所述开孔和所述第一减薄凹槽形成所述减磁吸部。

6.根据权利要求5所述的掩膜支撑架，其特征在于，

7.根据权利要求1-6中任一项所述的掩膜支撑架，其特征在于，所述遮挡部的边缘设置有朝向所述待蒸镀基板的一侧上设有第二减薄凹槽，所述第二减薄凹槽内设有第二磁隔离层。

8.根据权利要求7所述的掩膜支撑架，其特征在于，

9.一种掩膜组件，其特征在于，包括掩膜板和根据权利要求1-8中任一项所述的掩膜支撑架，所述掩膜板搭于所述内部支撑体和/或所述框架体上，且所述掩膜板与所述放置口对应设置。

10.根据权利要求9所述的掩膜组件，其特征在于，