残胶检测装置和晶托残胶处理系统的制作方法
本技术涉及晶体生长,尤其是涉及一种残胶检测装置和晶托残胶处理系统。
背景技术:
1、在硅片制备过程中,晶棒在切割过程中需要粘接在晶托上,在切割后将硅片从晶托上取下,为保证晶托能够重复使用,需要对晶托上的残胶进行清除。相关技术中,除胶装置并无法完全将晶托上的残胶处理干净,而通过人工逐个复检晶托上的残胶情况,对残胶情况的判断准确性不高且人工成本增多。
技术实现思路
1、本实用新型第一方面提出了一种残胶检测装置,所述残胶检测装置具有可以在保证残胶检测精度的同时,节省残胶处理的人工成本的优点。
2、根据本实用新型第一方面实施例的残胶检测装置,包括:输送组件,所述输送组件包括输送轨道,所述输送轨道用于输送待测件,所述输送轨道上形成有检测区域;检测组件,用于检测所述待测件上的残胶且包括图像获取模块,所述图像获取模块位于所述检测区域的上方,以用于获取所述检测区域的所述待测件的图像;警报器,所述警报器与所述检测组件电连接,以在所述检测组件检测所述待测件上存在残胶时发出警报。
3、根据本实用新型第一方面实施例的残胶检测装置,检测组件用于检测所述待测件上的残胶且与警报器电连接,警报器在检测组件检测待测件上存在残胶时发出警报,工作人员仅需在警报器发出提醒后对存在残胶的待测件进行除胶处理,工作人员可以在警报器未发出提醒时进行其他工作,从而可以在保证待测件上残胶检测精度的同时,节省残胶处理的人工成本。
4、根据本实用新型的一些实施例,所述输送组件包括驱动单元和控制组件,所述控制组件与所述驱动单元以及所述检测组件电连接,所述控制组件用于控制所述驱动单元在开启状态和关闭状态之间切换,在所述开启状态,所述驱动单元驱动所述输送轨道运动输送待测件,在所述关闭状态,所述输送轨道停止运动。
5、根据本实用新型的一些实施例,所述控制组件包括位置传感器、复位按钮和检测结果接收器,所述位置传感器和所述复位按钮均与所述驱动单元电连接,所述位置传感器用于检测所述待测件的位置,以在所述待测件移动至所述检测区域控制所述驱动单元切换至所述关闭状态,所述复位按钮用于控制所述驱动单元切换至所述开启状态,所述检测结果接收器与所述检测组件以及所述驱动单元电连接,且用于控制所述驱动单元切换至所述开启状态。
6、根据本实用新型的一些实施例,所述输送组件包括多个防护罩,所述防护罩罩设于所述输送轨道的上侧,所述输送轨道沿第一方向延伸,多个所述防护罩至少包括沿所述第一方向间隔排布的第一防护罩和第二防护罩,所述检测区域位于所述第一防护罩与所述第二防护罩之间。
7、根据本实用新型的一些实施例,所述警报器设于所述防护罩的顶部。
8、根据本实用新型的一些实施例,所述输送轨道沿第一方向延伸,所述检测组件位于所述输送组件沿第二方向的一侧,所述第二方向与所述第一方向垂直;和/或,所述检测组件与所述输送组件间隔设置且可相对独立运动。
9、根据本实用新型的一些实施例,所述检测组件还包括补光灯,所述补光灯位于所述检测区域的上侧且位于所述图像获取模块的下侧。
10、根据本实用新型的一些实施例,所述检测组件包括第一安装架,所述图像获取模块设有多个,多个所述图像获取模块沿所述输送轨道的延伸方向间隔排布于所述第一安装架上。
11、根据本实用新型的一些实施例,所述检测组件还包括补光灯,所述补光灯设有多个,多个所述补光灯和多个所述图像获取模块的数量相同且一一对应设置。
12、本实用新型第二方面提出了一种晶托残胶处理系统。
13、根据本实用新型第二方面实施例的晶托残胶处理系统,包括:上述残胶检测装置。
14、根据本实用新型第二方面实施例的晶托残胶处理系统,检测组件用于检测所述待测件上的残胶且与警报器电连接,警报器在检测组件检测待测件上存在残胶时发出警报,工作人员仅需在警报器发出提醒后对存在残胶的待测件进行除胶处理,工作人员可以在警报器未发出提醒时进行其他工作,从而可以在保证待测件上残胶检测精度的同时,节省残胶处理的人工成本。
15、本实用新型的附加方面和优点将在下面的描述中部分给出,部分将从下面的描述中变得明显,或通过本实用新型的实践了解到。
1.一种残胶检测装置,其特征在于,包括:
2.根据权利要求1所述的残胶检测装置,其特征在于,所述输送组件包括驱动单元和控制组件,所述控制组件与所述驱动单元以及所述检测组件电连接,所述控制组件用于控制所述驱动单元在开启状态和关闭状态之间切换,在所述开启状态,所述驱动单元驱动所述输送轨道运动输送待测件,在所述关闭状态,所述输送轨道停止运动。
3.根据权利要求2所述的残胶检测装置,其特征在于,所述控制组件包括位置传感器、复位按钮和检测结果接收器,所述位置传感器和所述复位按钮均与所述驱动单元电连接,所述位置传感器用于检测所述待测件的位置,以在所述待测件移动至所述检测区域控制所述驱动单元切换至所述关闭状态,所述复位按钮用于控制所述驱动单元切换至所述开启状态,所述检测结果接收器与所述检测组件以及所述驱动单元电连接,且用于控制所述驱动单元切换至所述开启状态。
4.根据权利要求1所述的残胶检测装置,其特征在于,所述输送组件包括多个防护罩,所述防护罩罩设于所述输送轨道的上侧,所述输送轨道沿第一方向延伸,多个所述防护罩至少包括沿所述第一方向间隔排布的第一防护罩和第二防护罩,所述检测区域位于所述第一防护罩与所述第二防护罩之间。
5.根据权利要求4所述的残胶检测装置,其特征在于,所述警报器设于所述防护罩的顶部。
6.根据权利要求1所述的残胶检测装置,其特征在于,所述输送轨道沿第一方向延伸,所述检测组件位于所述输送组件沿第二方向的一侧,所述第二方向与所述第一方向垂直;和/或,所述检测组件与所述输送组件间隔设置且可相对独立运动。
7.根据权利要求1所述的残胶检测装置,其特征在于,所述检测组件还包括补光灯,所述补光灯位于所述检测区域的上侧且位于所述图像获取模块的下侧。
8.根据权利要求1所述的残胶检测装置,其特征在于,所述检测组件包括第一安装架,所述图像获取模块设有多个,多个所述图像获取模块沿所述输送轨道的延伸方向间隔排布于所述第一安装架上。
9.根据权利要求8所述的残胶检测装置,其特征在于,所述检测组件还包括补光灯,所述补光灯设有多个,多个所述补光灯和多个所述图像获取模块的数量相同且一一对应设置。
10.一种晶托残胶处理系统,其特征在于,包括:根据权利要求1-9中任一项所述的残胶检测装置。
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