经由均质器运动的可变光束尺寸的制作方法

背景技术：

1、激光烧蚀电感耦合等离子体质谱(la-icp-ms)技术或激光烧蚀电感耦合等离子体发射光谱(la-icp-oes)技术可用于分析靶标（例如，固体或液体靶材）。通常，靶标的样品被以气溶胶（即，诸如氦气之类的载气中的固体和可能的液体颗粒和/或蒸汽的悬浮液）的形式提供给分析系统。该样品通常通过将靶材布置在激光烧蚀室内，将载气流引入该室内，并利用一个或多个激光脉冲烧蚀靶材的一部分以产生包含颗粒和/或蒸气的羽流来产生，这些颗粒和/或蒸汽被从靶材（以下称为“靶材”）喷射或以其他方式产生，悬置在该载气中。通过被夹带在流动的载气中，靶材被经由通向tcp炬管的传输导管传输到分析系统，它在tcp炬管中被电离。然后通过诸如ms、oes、同位素比质谱(irms)或电喷雾电离(esi)系统之类的分析系统分析包含电离粒子和/或蒸气的等离子体。

技术实现思路

1.一种烧蚀系统，包括：

2.如权利要求1所述的烧蚀系统，其中，所述第一均质器和第二均质器分别包括微透镜阵列。

3.如权利要求1所述的烧蚀系统，其中，所述烧蚀系统被结合在基于激光烧蚀的分析系统内，所述基于激光烧蚀的分析系统包括光谱仪，所述光谱仪被配置为接收和分析经烧蚀的材料。

4.如权利要求1所述的烧蚀系统，其中，所述均质化光学器件调节装置被配置为能够选择地调节所述第一均质器和所述第二均质器中的至少一个相对于另一个的位置，以增大所述激光束的横截面积并相一致地降低所述激光束的注量。

5.一种烧蚀系统，包括：

6.如权利要求5所述的烧蚀系统，其中，所述第一均质器或所述第二均质器中的至少一个包括微透镜阵列。

7.如权利要求5所述的烧蚀系统，其中，所述烧蚀系统被结合在基于激光烧蚀的分析系统内。

8.如权利要求7所述的烧蚀系统，其中，所述基于激光烧蚀的分析系统包括光谱仪，所述光谱仪被配置为接收和分析经烧蚀的样品。

9.如权利要求5所述的烧蚀系统，其中，所述均质化光学器件调节装置被配置为能够选择地调节所述第一均质器和所述第二均质器中的至少一个相对于另一个的位置，以增大所述激光束的横截面并相一致地减小所述激光束的注量。

10.如权利要求5所述的烧蚀系统，其中，所述均质化光学器件调节装置被配置为能够选择地调节所述第一均质器和所述第二均质器中的至少一个相对于另一个的位置，以减小所述激光束的横截面并相一致地增大所述激光束的注量。