投影照明调节系统、方法及投影仪与流程

技术特征：
1.一种投影照明调节系统，其特征在于，包括：光源模块，用于提供三原色光源；合光模块，用于对所述三原色光源进行合光处理以得到第一光束；照明模块，包括：用于对所述第一光束进行匀光处理以得到第二光束的匀光元件，用于对所述第二光束进行成像以得到第三光束的第一光学透镜组，用于基于投影画面信息调整所述第三光束的光强分布以得到第四光束的掩膜元件，用于对所述第四光束进行缩放以得到第五光束的第二光学透镜组，其中，所述第五光束在空间光调制器上形成的光斑与所述空间光调制器的像素节距相匹配；控制模块，用于将所述投影画面信息传输至所述掩膜元件及所述空间光调制器；所述空间光调制器，用于基于所述第五光束及所述投影画面信息调制目标投影画面。2.根据权利要求1所述的系统，其特征在于，所述控制模块包括：信号处理模块，用于获取所述投影画面信息，将所述投影画面信息转换为目标电信号；同步模块，用于将所述目标电信号同步传输至所述掩膜元件及所述空间光调制器。3.根据权利要求1所述的系统，其特征在于，所述掩膜元件为液晶掩膜元件，所述掩膜元件上具有多个液晶单元，其中，每个所述液晶单元均可基于所述投影画面信息调整所述液晶单元的光透过率，以调整通过所述液晶单元的光束的光强。4.根据权利要求3所述的系统，其特征在于，所述掩膜元件包括：透射式掩膜元件，用于基于所述投影画面信息，透射所述第三光束并调整所述第三光束的光强分布，得到所述第四光束；或，反射式掩膜元件，用于基于所述投影画面信息，反射所述第三光束并调整所述第三光束的光强分布，得到所述第四光束。5.根据权利要求1所述的系统，其特征在于，所述光源模块包括：第一原色光源，第二原色光源和第三原色光源，其中，所述第一原色光源、所述第二原色光源及所述第三原色光源的偏振方向相同；所述合光模块包括二色性滤光镜，位于所述三原色光源之间，用于对所述三原色光源进行透射或反射处理，以得到所述第一光束；所述匀光元件为通过微透镜阵列构成的复眼结构的匀光元件。6.根据权利要求1所述的系统，其特征在于，所述第二光束在所述匀光元件上形成的光斑与所述第三光束在所述掩膜元件上形成的光斑，通过所述第一光学透镜组构成高斯物像关系；所述第四光束在所述掩膜元件上形成的光斑与所述第五光束在所述空间光调制器上形成的光斑，通过所述第二光学透镜组构成高斯物像关系。7.根据权利要求1所述的系统，其特征在于，所述掩膜元件中的液晶单元的数量与所述空间光调制器的像素数相同，其中，所述液晶单元用于基于所述投影画面信息调整所述液晶单元的光透过率，以调整通过所述液晶单元的光束的光强；所述掩膜元件的高度h与所述空间光调制器的高度h具有如下关系：
其中，l2为所述掩膜元件与所述第二光学透镜组之间的距离，l
′2为所述空间光调制器与所述第二光学透镜组之间的距离。8.一种投影照明调节方法，其特征在于，应用于权利要求1至7中任意一项所述的投影照明调节系统，所述方法包括：获取投影画面信息对应的目标电信号；基于所述目标电信号确定目标光线透过率；基于所述目标光线透过率调整通过掩膜元件的第三光束的光强分布，将得到的第四光束投射至第二光学透镜组，其中，所述第二光学透镜组用于对所述第四光束进行缩放，将得到的第五光束投射至空间光调制器，所述空间光调制器用于基于所述第五光束及所述投影画面信息调制目标投影画面。9.根据权利要求8所述的方法，其特征在于，所述目标光线透过率t的范围为[t2，t1]，所述目标投影画面的对比度d2为其中，d1为未通过所述掩膜元件调整所述第三光束的光强分布时，所述空间光调制器调制得到的投影画面的对比度。10.一种非易失性存储介质，其特征在于，所述非易失性存储介质包括存储的程序，其中，在所述程序运行时控制所述非易失性存储介质所在设备执行权利要求8或9所述的投影照明调节方法。11.一种处理器，其特征在于，所述处理器用于运行程序，其中，所述程序运行时执行权利要求8或9所述的投影照明调节方法。12.一种投影仪，其特征在于，所述投影仪中包括权利要求1至7中任意一项所述的投影照明调节系统。

技术总结
本申请公开了一种投影照明调节系统、方法及投影仪。该系统包括：光源模块，用于提供三原色光源；合光模块，用于对三原色光源进行合光处理以得到第一光束；照明模块，包括：用于对第一光束进行匀光处理以得到第二光束的匀光元件，用于对第二光束进行成像以得到第三光束的第一光学透镜组，用于基于投影画面信息调整第三光束的光强分布以得到第四光束的掩膜元件，用于对第四光束进行缩放以得到第五光束的第二光学透镜组；控制模块，用于将投影画面信息传输至掩膜元件及空间光调制器；空间光调制器，用于基于第五光束及投影画面信息调制目标投影画面。本申请解决了投影仪调节投影画面对比度时会影响画面亮度，降低用户观看体验的技术问题。术问题。术问题。


技术研发人员：江文豪
受保护的技术使用者：宜宾市极米光电有限公司
技术研发日：2022.01.26
技术公布日：2023/8/4