机上显影型平版印刷版原版、平版印刷版的制作方法及平版印刷方法与流程

技术特征：
1.一种机上显影型平版印刷版原版，其依次具有支承体、图像记录层及最外层，所述图像记录层包含红外线吸收剂、受电子型聚合引发剂及聚合性化合物，所述受电子型聚合引发剂的lumo-所述红外线吸收剂的lumo的值为0.45ev以上，所述最外层包含变色性化合物。2.根据权利要求1所述的机上显影型平版印刷版原版，其中，所述受电子型聚合引发剂的lumo-所述红外线吸收剂的lumo的值为0.62ev以上。3.根据权利要求1或2所述的机上显影型平版印刷版原版，其中，所述红外线吸收剂的lumo小于-3.80ev。4.根据权利要求1至3中任一项所述的机上显影型平版印刷版原版，其中，所述红外线吸收剂包含由下述式1表示的化合物，式1中，r1及r2分别独立地表示氢原子或烷基，r1及r2任选相互连结而形成环，r3～r6分别独立地表示氢原子或烷基，r7及r8分别独立地表示烷基或芳基，y1及y2分别独立地表示氧原子、硫原子、-nr
0-或二烷基亚甲基，r0表示氢原子、烷基或芳基，ar1及ar2分别独立地表示形成任选具有后述的由式2表示的基团的苯环或萘环的基团，a1表示-nr9r
10
、-x
1-l1或后述的由式2表示的基团，r9及r
10
分别独立地表示烷基、芳基、烷氧基羰基或芳基磺酰基，x1表示氧原子或硫原子，l1表示烃基、杂芳基或者通过热或红外线曝光而使与x1的键断裂的基团，za表示中和电荷的抗衡离子，在ar1及ar2中的至少一者具有由下述式2表示的基团，-x
ꢀꢀꢀ
式2式2中，x表示卤原子、-c(＝o)-x
2-r
11
、-c(＝o)-nr
12
r
13
、-o-c(＝o)-r
14
、-cn、-so2nr
15
r
16
或全氟烷基，x2表示单键或氧原子，r
11
及r
14
分别独立地表示烷基或芳基，r
12
、r
13
、r
15
及r
16
分别独立地表示氢原子、烷基或芳基。5.根据权利要求4所述的机上显影型平版印刷版原版，其中，式(1)中的ar1及ar2中的至少一者具有卤原子。6.根据权利要求5所述的机上显影型平版印刷版原版，其中，式(1)中的ar1及ar2中的至少一者具有溴原子。7.根据权利要求1至6中任一项所述的机上显影型平版印刷版原版，其中，所述受电子型聚合引发剂的lumo大于-3.2ev。8.根据权利要求1至7中任一项所述的机上显影型平版印刷版原版，其中，所述受电子型聚合引发剂为鎓盐化合物。9.根据权利要求1至8中任一项所述的机上显影型平版印刷版原版，其中，所述受电子型聚合引发剂包含由下述式(ii)表示的化合物，
式(ii)中，x
a
表示卤原子，r
a
表示芳基。10.根据权利要求1至9中任一项所述的机上显影型平版印刷版原版，其中，所述聚合性化合物包含2官能以下的聚合性化合物。11.根据权利要求1至10中任一项所述的机上显影型平版印刷版原版，其中，所述图像记录层还包含聚乙烯醇缩醛。12.根据权利要求1至11中任一项所述的机上显影型平版印刷版原版，其中，所述最外层包含疏水性聚合物。13.根据权利要求12所述的机上显影型平版印刷版原版，其中，所述疏水性聚合物为疏水性聚合物粒子。14.根据权利要求1至13中任一项所述的机上显影型平版印刷版原版，其中，以110mj/cm2的能量密度进行基于波长为830nm的红外线的曝光时的、所述曝光前后的明度变化δl为2.0以上。15.根据权利要求1至14中任一项所述的机上显影型平版印刷版原版，其中，所述变色性化合物包含因红外线曝光而显色的化合物。16.根据权利要求1至15中任一项所述的机上显影型平版印刷版原版，其中，所述变色性化合物包含因红外线曝光而分解的分解性化合物。17.根据权利要求1至15中任一项所述的机上显影型平版印刷版原版，其中，所述变色性化合物为花青色素。18.根据权利要求1至16中任一项所述的机上显影型平版印刷版原版，其中，所述变色性化合物为由下述式1-1表示的化合物，式1-1中，r1表示由下述式2-1～式4-1中的任一个表示的基团，r
11
～r
18
分别独立地表示氢原子、卤原子、-r
a
、-or
b
、-sr
c
或-nr
d
r
e
，r
a
～r
e
分别独立地表示烃基，a1、a2及多个r
11
～r
18
任选连结而形成单环或多环，a1及a2分别独立地表示氧原子、硫原子或氮原子，n
11
及n
12
分别独立地表示0～5的整数，其中，n
11
及n
12
的合计为2以上，n
13
及n
14
分别独立地表示0或1，l表示氧原子、硫原子或-n(r
10
)-，r
10
表示氢原子、烷基或芳基，za表示中和电荷的抗衡离子，
式2-1～式4-1中，r
20
、r
30
、r
41
及r
42
分别独立地表示烷基或芳基，zb表示中和电荷的抗衡离子，波浪线表示与所述式1-1中的l所表示的基团的键合部位。19.根据权利要求18所述的机上显影型平版印刷版原版，其中，所述变色性化合物为由下述式1-2表示的化合物，式1-2中，r1表示由所述式2-1～式4-1中的任一个表示的基团，r
19
～r
22
分别独立地表示氢原子、卤原子、-r
a
、-or
b
、-cn、-sr
c
或-nr
d
r
e
，r
23
及r
24
分别独立地表示-r
a
，r
a
～r
e
分别独立地表示烃基，r
19
与r
20
、r
21
与r
22
或r
23
与r
24
任选连结而形成单环或多环，l表示氧原子、硫原子或-n(r
10
)-，r
10
表示氢原子、烷基或芳基，r
d1
～r
d4
、w1及w2分别独立地表示任选具有取代基的烷基，za表示中和电荷的抗衡离子。20.根据权利要求18或19所述的机上显影型平版印刷版原版，其中，所述变色性化合物为由下述式1-3～式1-7中的任一个表示的化合物，
式1-3～式1-7中，r1表示由所述式2-1～式4-1中的任一个表示的基团，r
19
～r
22
分别独立地表示氢原子、卤原子、-r
a
、-or
b
、-cn、-sr
c
或-nr
d
r
e
，r
25
及r
26
分别独立地表示氢原子、卤原子或-r
a
，r
a
～r
e
分别独立地表示烃基，r
19
与r
20
、r
21
与r
22
或r
25
与r
26
任选连结而形成单环或多环，l表示氧原子、硫原子或-n(r
10
)-，r
10
表示氢原子、烷基或芳基，r
d1
～r
d4
、w1及w2分别独立地表示任选具有取代基的烷基，za表示中和电荷的抗衡离子。21.根据权利要求19或20所述的机上显影型平版印刷版原版，其中，
所述式1-2～式1-7中的w1及w2分别独立地为具有取代基的烷基，并且是作为所述取代基至少具有-och2ch
2-、磺基、磺基的盐、羧基或羧基的盐的基团。22.根据权利要求1至21中任一项所述的机上显影型平版印刷版原版，其中，所述图像记录层还包含给电子型聚合引发剂。23.根据权利要求22所述的机上显影型平版印刷版原版，其中，所述给电子型聚合引发剂为硼酸盐化合物。24.根据权利要求22或23所述的机上显影型平版印刷版原版，其包含具有所述受电子性聚合引发剂结构的阳离子和具有所述给电子型聚合引发剂结构的阴离子形成盐而成的化合物作为所述受电子型聚合引发剂及所述给电子型聚合引发剂。25.根据权利要求22至24中任一项所述的机上显影型平版印刷版原版，其中，所述红外线吸收剂的homo-所述给电子型聚合引发剂的homo的值为0.70ev以下。26.根据权利要求1至25中任一项所述的机上显影型平版印刷版原版，其中，所述聚合性化合物包含7官能以上的聚合性化合物。27.根据权利要求1至26中任一项所述的机上显影型平版印刷版原版，其中，所述聚合性化合物包含10官能以上的聚合性化合物。28.根据权利要求1至27中任一项所述的机上显影型平版印刷版原版，其中，所述支承体具有铝板和配置于所述铝板上的铝的阳极氧化皮膜，所述阳极氧化皮膜位于比所述铝板更靠所述图像记录层侧，所述阳极氧化皮膜具有从所述图像记录层侧的表面沿着深度方向延伸的微孔，所述微孔在所述阳极氧化皮膜表面中的平均直径超过10nm且为100nm以下。29.根据权利要求28所述的机上显影型平版印刷版原版，其中，所述微孔由大径孔部和小径孔部形成，所述大径孔部从所述阳极氧化皮膜表面延伸至深度10nm～1000nm的位置，所述小径孔部与所述大径孔部的底部连通，且从连通位置延伸至深度20nm～2000nm的位置，所述大径孔部在所述阳极氧化皮膜表面中的平均直径为15nm～100nm，所述小径孔部在所述连通位置处的平均直径为13nm以下。30.一种平版印刷版的制作方法，其包括：将权利要求1至29中任一项所述的机上显影型平版印刷版原版以图像状曝光的工序；及在印刷机上供给选自由印刷墨液及润版液组成的组中的至少一者来去除非图像部的图像记录层的工序。31.一种平版印刷方法，其包括：将权利要求1至29中任一项所述的机上显影型平版印刷版原版以图像状曝光的工序；在印刷机上供给选自由印刷墨液及润版液组成的组中的至少一者来去除非图像部的图像记录层而制作平版印刷版的工序；及使用所获得的平版印刷版进行印刷的工序。

技术总结
本发明提供一种机上显影型平版印刷版原版、以及使用了上述机上显影型平版印刷版原版的平版印刷版的制作方法或平版印刷方法，上述机上显影型平版印刷版原版依次具有支承体、图像记录层及最外层，上述图像记录层包含红外线吸收剂、受电子型聚合引发剂及聚合性化合物，上述受电子型聚合引发剂的LUMO-上述红外线吸收剂的LUMO的值为0.45eV以上，上述最外层包含变色性化合物。变色性化合物。


技术研发人员：榎本和朗 山本昌 难波优介 野越启介
受保护的技术使用者：富士胶片株式会社
技术研发日：2021.05.21
技术公布日：2023/2/3