口腔处理设备的制作方法

技术特征：
1.一种口腔处理单元(300)，用于限制和调制具有在1mhz至300ghz的范围内的频率的电磁场并且适于被插入到用户的口腔中，所述口腔处理单元包括：第一清洁元件(24)，耦合到或集成在所述口腔处理单元中；电磁场聚焦元件(302)耦合到或集成在所述口腔处理单元中，并且适于接收具有初始频率的电磁场并且输出聚焦电磁场，其中所述电磁场聚焦元件包括第一超材料结构(308)，其中所述第一超材料结构具有第一无源电磁场聚焦功能，所述第一无源电磁场聚焦功能通过执行以下一项或多项来将接收到的所述电磁场限制在距所述第一超材料结构的给定距离处：所述第一超材料结构的近场区域中的衰减率控制功能；或者对所述电磁场的传播方向修改功能；并且其中所述电磁场聚焦元件具有调制受限电磁场的调制功能，从而产生调制电磁场，其中所述电磁场聚焦元件(302)包括用于执行所述调制功能的机械致动器(310)，其中所述机械致动器适于将机械振荡施加到所述第一超材料结构。2.根据权利要求1所述的口腔处理单元，其中所述机械致动器包括柔性组件(335)，并且其中所述第一超材料结构合并到所述机械致动器中。3.根据权利要求1或2所述的口腔处理单元，其中所述调制功能包括频率下移功能，所述频率下移功能调制所述受限电磁场的所述初始频率，从而产生具有在低于所述初始频率的期望频率范围内的调制频率的调制的、受限电磁场。4.根据权利要求1至3中的任一项所述的口腔处理单元，其中所述调制功能适于调制以下一项或多项：所述受限电磁场的频率；所述受限电磁场的幅度；以及所述受限电磁场的相位。5.根据权利要求1至4中任一项所述的口腔处理单元(300)，其中所述机械致动器包括以下一项或多项：cmut；电活性聚合物；铁电聚合物致动器，压电致动器；压电式弯曲致动器；以及mems倾斜运动设备。6.一种口腔处理单元(300)，用于限制和调制具有在1mhz至300ghz的范围内的频率的电磁场并且适于插入用户的口腔中，所述口腔处理单元包括：第一清洁元件(24)，耦合到或集成在所述口腔处理单元中；以及电磁场聚焦元件(302)，耦合到或集成在所述口腔处理单元中，并且适于接收具有初始频率的电磁场并且输出聚焦电磁场，其中所述电磁场聚焦元件包括第一超材料结构(308)，其中所述第一超材料结构具有第一无源电磁场聚焦功能，所述第一无源电磁场聚焦功能通过执行以下一项或多项来将接收到的所述电磁场限制在距所述第一超材料结构的给定距离处：
所述第一超材料结构的近场区域中的衰减率控制功能；或者对所述电磁场的传播方向修改功能；并且其中所述电磁场聚焦元件具有调制受限电磁场的调制功能，从而产生调制电磁场，其中：所述第一超材料结构具有第二无源电磁场聚焦功能，并且其中所述第一无源电磁场聚焦功能作用于接收到的所述电磁场的第一频率分量，并且所述第二无源电磁场聚焦功能作用于接收到的所述电磁场的第二频率分量；或者所述电磁场聚焦元件包括第二超材料结构(355)，其中所述第二超材料结构具有第二无源电磁场聚焦功能，并且其中所述第一无源电磁场聚焦功能作用于接收到的所述电磁场的第一频率分量，并且所述第二无源电磁场聚焦功能作用于接收到的所述电磁场的第二频率分量。7.根据权利要求6所述的口腔处理单元(340)，包括第一超材料结构和第二超材料结构，其中所述第一超材料结构(350)相对于所述第二超材料结构(355)而被布置，使得聚焦的所述第一频率分量和聚焦的所述第二频率分量被限制在所述第一超材料结构和所述第二超材料结构两者内，从而使在接收到的所述电磁场的聚焦的所述第一频率分量与接收到的所述电磁场的聚焦的所述第二频率分量之间发生频率混合，从而执行所述频率调制功能。8.根据权利要求7所述的口腔处理单元(340)，其中所述第一超材料结构和/或所述第二超材料结构具有时间延迟功能，所述时间延迟功能使时间域波形被施加在聚焦的所述电磁场上。9.根据权利要求1至8中任一项所述的口腔处理单元，其中所述超材料结构(26)或每个超材料结构(26)具有以下一项或多项：负的或接近于零的有效介电常数；负的或接近于零的有效渗透率；以及负的或接近于零的折射率。10.根据权利要求1至9中任一项所述的口腔处理单元(300)，其中所述电磁场聚焦元件还包括适于对接收到的所述电磁场执行所述调频功能的非线性电子组件，并且可选地其中所述非线性电子组件包括以下一项或多项：二极管；多个二极管；mim设备；晶体管；以及无源晶体管。11.根据权利要求1至10中任一项所述的口腔处理单元(300)，其中所述口腔处理单元还包括一个或多个发射器线圈，所述一个或多个发射器线圈适于产生将由所述电磁场聚焦元件接收的所述电磁场。12.一种基座单元(135)，适于与根据权利要求1至10中任一项的所述口腔处理单元(300)组合使用，所述基座单元(135)包括：电源(140)；
电信号(145)产生单元，耦合到所述电源并且适于产生具有在给定频率范围内的频率的电信号；以及与所述电信号产生器通信的一个或多个发射器线圈(130)，所述一个或多个发射器线圈适于产生具有在所述给定频率范围内的频率的至少一个电磁场并且将所述至少一个电磁场发射到所述口腔处理单元。13.一种基座单元(82)，适于与根据权利要求11的口腔处理单元(300)组合使用，所述基座单元(82)包括：电源(84)；电信号产生单元(86)，耦合到所述电源并且适于产生具有在给定频率范围内的频率的电驱动信号，所述电驱动信号馈送所述口腔处理单元的所述一个或多个发射器线圈。14.一种口腔处理设备(10)，包括：一个或多个根据权利要求1至10中任一项所述的口腔处理单元(300)和根据权利要求12所述的基座单元(135)，其中所述口腔处理单元适于临时地耦合到所述基座单元；或者一个或多个根据权利要求11所述的口腔处理单元(300)和根据权利要求13所述的基座单元(82)，其中所述口腔处理单元适于临时地耦合到所述基座单元，并且其中所述口腔处理单元还包括第一电接触部(88)，并且所述基座单元还包括第二电接触部，其中当所述口腔处理单元耦合到所述基座单元时，所述第一电接触部和所述第二电接触部(90)接触。15.根据权利要求14所述的口腔清洁设备(80)，其中：所述口腔处理单元是电动牙刷头或电动牙刷头的部分，其中所述电动牙刷头可选地包括液体喷嘴，并且其中所述基座单元是电动牙刷柄；或者一个或多个口腔处理单元被布置为形成口腔处理牙套的牙弓的至少部分，并且其中所述基座单元是电动牙套柄。

技术总结
本发明提供了一种口腔处理单元或多个口腔处理单元的配件，用于限制具有在100kHz至300MHz范围内的频率的电磁场并且适于插入口腔中，其可以与基座单元组合形成口腔清洁设备的一部分，包括耦合到口腔处理单元的第一清洁元件。该口腔处理单元还包括耦合到口腔处理单元的材料结构，其适于接收初始电磁场并且输出聚焦电磁场，其中该材料结构具有无源电磁场聚焦功能，其将接收到的初始电磁场聚焦在该材料结构的近场区域中。本发明的另一方面提供了一种口腔处理单元或多个口腔处理单元的配件，用于限制和调制具有在1MHz至300GHz范围内的频率的电磁场并且适于插入口腔中，其可以与基座单元组合形成口腔清洁设备的一部分，包括耦合到口腔处理单元的第一清洁元件。口腔处理单元还包括适于接收具有初始频率的电磁场并且输出聚焦电磁场的电磁场聚焦元件。电磁场聚焦元件包括具有第一无源电磁场聚焦功能的第一材料结构，第一无源电磁场聚焦功能通过执行以下一项或多项来将调制的电磁场限制在距第一材料结构的给定距离处：在第一材料结构的近场区域中的衰减率控制功能；或者对电磁场的传播方向修改功能。电磁场聚焦元件具有调制受限电磁场的调制功能，从而产生调制电磁场。从而产生调制电磁场。从而产生调制电磁场。


技术研发人员：P
受保护的技术使用者：皇家飞利浦有限公司
技术研发日：2021.05.20
技术公布日：2023/2/23