用于DAX成像中的缺陷补偿的步进策略的制作方法

技术特征：
1.一种成像系统(is)，包括用于相衬和/或暗场成像的至少一个设备(g、ifd)，所述至少一个设备具有带有空间周期的周期性结构，并且所述成像系统还包括相位步进机构(psm)，所述相位步进机构被配置为促进所述至少一个设备(g、ifd)与所述成像系统(is)的x射线源(xs)的焦斑(fs)之间的相对相位步进运动，所述相对相位步进运动覆盖大于所述空间周期的距离。2.根据权利要求1所述的系统，其中，所述距离不是所述周期的倍数，或者其中，所述距离是所述成像系统的探测器的像素大小的至少两倍，或者其中，所述距离基于所述周期性结构中的缺陷区域(dr)的大小。3.根据前述权利要求中的任一项所述的系统，其中，所述相位步进机构(psm)被配置为以具有至少一个宽度的一个或多个步来给予所述相位步进运动，其中，所述至少一个宽度大于所述周期。4.根据前述权利要求中的任一项所述的系统，其中，所述步的宽度基于所述周期性结构中的缺陷区域(dr)的大小。5.根据权利要求4所述的系统，其中，所述设备是由子模块(m1-4)组装的，从而在所述设备(g、ifd)中引起一个或多个间隙，并且其中，所述缺陷区域(dr)包括所述一个或多个间隙。6.根据前述权利要求中的任一项所述的系统，其中，所述相位步进机构(psm)包括：框架(f)，所述设备(g、ifd)被悬挂在所述框架中；以及致动器(ac)，其被配置为引起所述相位步进运动，优选地其中，存在单个这样的致动器(ac)。7.根据前述权利要求中的任一项所述的系统，其中，所述空间周期(p)沿着第一方向(y)，其中，所述相位步进运动具有沿着与所述第一方向成一定角度的第二方向(x)的位移分量和沿着所述第一方向的位移分量。8.根据权利要求6-7中的任一项所述的系统，其中，所述相位步进运动沿着曲线。9.根据权利要求6-8中的任一项所述的系统，其中，所述设备通过相应挠曲轴承(fb2、fb3)在至少两个悬挂点(sp2、sp3)处悬挂在所述框架中，优选地其中，所述挠曲轴承(fb2、fb3)中的至少一个挠曲轴承具有相对于所述第一方向成40-50
°
的角度的挠曲元件(fe)。10.根据前述权利要求中的任一项所述的系统，其中，所述设备(g、ifd)是干涉测量光栅。11.一种悬架系统(ss)，用于具有沿着第一方向(y)具有空间周期的周期性结构的设备(g、ifd)，所述设备(g、ifd)用于促进相衬和/或暗场成像，所述系统(ss)包括框架(f)，在所述框架中，所述设备(g)悬挂在至少两个悬挂点(sp1、sp2)处，使得致动器(ac)能够在所述设备(g)上给予相位步进运动，所述相位步进运动具有沿着所述第一方向和沿着与所述第一方向成一定角度的第二方向(x)的位移。12.根据权利要求11所述的悬架系统，其中，所述设备通过至少一个挠曲轴承(fb2、fb3)在所述至少两个悬挂点(sp2、sp3)处悬挂在所述框架中，所述至少一个挠曲轴承具有成所述角度的挠曲元件(fe)。13.一种用于相衬和/或暗场成像的图像处理方法，包括：接收(s840)在具有带有空间周期的周期性结构的设备(ifd、g)上给予的相位步进操作中采集的测量结果，其中，所述相位步进操作中的相位步宽或所述设备被位移的总距离大
于所述空间周期或大于所述空间周期的倍数；并且将信号模型拟合(s850)到所述测量结果的至少部分，所述模型包括参考数据，其中，所述参考数据取决于所述相位步。14.根据权利要求13所述的方法，其中，先前针对给定步所获得的所述参考数据基于在关于所述设备(g、ifd)或另一这样的设备的一系列先前相位步中收集的数据。15.根据权利要求13或14所述的方法，包括丢弃由所述周期性设备中的缺陷影响的所述测量结果的子集。16.一种支持相衬和/或暗场成像的方法，包括：基于投影图像来确定(s820)具有周期性结构的用于相衬和/或暗场成像的设备(g、ifd)的缺陷区域的大小，并且基于所确定的大小来调节要由所述设备(g、ifd)在相位步进运动中覆盖的距离，所确定的大小在x方向或y方向上大于所述设备的周期性。17.一种控制(s830)致动器(ac)或焦斑(fs)的位置以引起所述焦斑(fs)与用于促进相衬和/或暗场成像的设备(g、ifd)之间的相对运动的方法，所述设备具有带有空间周期的周期性结构，使得所述运动覆盖大于所述空间周期的距离。18.一种计算机程序单元，其当由至少一个处理单元(pu)执行时适于使所述处理单元(pu)执行根据权利要求13-17中的任一项所述的方法。19.一种在其上存储有根据权利要求18所述的程序单元的计算机可读介质。

技术总结
一种成像系统(IS)，包括用于相衬和/或暗场成像的设备(G、IFD)，诸如光栅(G)。所述设备具有带有空间周期p的周期性结构。所述成像系统(IS)还包括相位步进机构(PSM)，其被配置为促进所述设备(G、IFD)与所述成像系统(IS)的X射线源(XS)的焦斑(FS)之间的相对相位步进运动。所述相对相位步进运动覆盖大于所述空间周期的距离，以减少由所述光栅中的缺陷引起的暗场或相衬影像中的伪影。场或相衬影像中的伪影。场或相衬影像中的伪影。


技术研发人员：T
受保护的技术使用者：皇家飞利浦有限公司
技术研发日：2021.06.02
技术公布日：2023/2/24