多阴离子表面活性剂及其制备和使用方法与流程

技术特征：
1.一种由下式i或其盐定义的表面活性剂，其中p为1至5的整数；r1表示c8-c50烷基基团；ao在每次出现时单独地表示选自乙氧基基团、丙氧基基团或丁氧基基团的亚烷氧基基团；并且w为1至110的整数。2.如权利要求1所述的表面活性剂，其中ao在每次出现时单独地表示选自乙氧基基团或丙氧基基团的亚烷氧基基团。3.如权利要求1-2中任一项所述的表面活性剂，其中w为20至110，诸如30至110、40至110、50至110或60至110的整数。4.如权利要求1-3中任一项所述的表面活性剂，其中ε由下式定义其中w和n如上式i中所定义；并且q为等于r1中的碳原子数的整数；并且其中ε为0.5至6，诸如1至6、1.5至5、2至4.5或2至4。5.如权利要求1-4中任一项所述的表面活性剂，其中r1表示支链c8-c50烷基基团，诸如源自guerbet缩合反应的c8-c50烷基基团。6.如权利要求1-5中任一项所述的表面活性剂，其中r1表示直链c8-c50烷基基团。7.如权利要求1-6中任一项所述的表面活性剂，其中ao由下式定义其中bo表示丁烯氧基基团；po表示丙烯氧基基团；eo表示乙烯氧基基团；x为1至65的整数；y为0至65的整数；并且z为0至45的整数。8.如权利要求7所述的表面活性剂，其中z为0。9.如权利要求7-8中任一项所述的表面活性剂，其中x为5至50，诸如10至50、20至45、25至45或25至40。
10.如权利要求7-9中任一项所述的表面活性剂，其中y为5至45，诸如10至40、15至40、15至30或15至25。11.如权利要求7-10中任一项所述的表面活性剂，其中x:(y z)的比率为0.5:1至2:1。12.如权利要求7-10中任一项所述的表面活性剂，其中y为0并且z为0。13.一种水性组合物，所述水性组合物包含水和由权利要求1-12中任一项所定义的表面活性剂。14.如权利要求13所述的组合物，其中所述组合物还包含一种或多种助表面活性剂。15.如权利要求14所述的组合物，其中所述一种或多种助表面活性剂包括阴离子表面活性剂、非离子表面活性剂、阳离子表面活性剂、两性离子表面活性剂或它们的任何组合；其中所述阴离子表面活性剂包括磺酸盐、二磺酸盐、硫酸盐、二硫酸盐、磺基琥珀酸盐、二磺基琥珀酸盐、羧酸盐、二羧酸盐或它们的任何组合，其中所述阴离子表面活性剂包括以下中的一者：支链或非支链的c6-c32:po(0-65):eo(0-100)-羧酸盐；c8-c30烷基苯磺酸盐(abs)；磺基琥珀酸盐表面活性剂；由下式定义的表面活性剂r1—r2—r3其中r1包含具有6-32个碳原子以及连接r1和r2的氧原子的支链或非支链的、饱和或不饱和的、环状或非环状的疏水碳链；r2包含烷氧基化链，所述烷氧基化链包含选自亚乙基氧、亚丙基氧、亚丁基氧以及它们的任何组合的至少一个氧化物基团；并且r3包含支链或非支链的烃链，所述支链或非支链的烃链包含2-12个碳原子和2至5个羧酸根基团；由下式定义的表面活性剂其中r4在每次出现时单独地为具有6-32个碳原子的支链或非支链的、饱和或不饱和的、环状或非环状的疏水碳链；并且m表示抗衡离子；或它们的任何组合；其中所述非离子表面活性剂包括支链或非支链的c6-c32:po(0-65):eo(0-100)，诸如支链或非支链的c6-c30:po(30-40):eo(25-35)、支链或非支链的c6-c12:po(30-40):eo(25-35)或者支链或非支链的c6-c30:eo(8-30)。16.一种用于处理地下地层的方法，所述方法包括：将由权利要求13-15中任一项所定义的水性流体通过井筒引入到所述地下地层中。
17.如权利要求16所述的方法，其中所述方法包括用于使所述地下地层增产的方法，所述方法包括：(a)将所述水性流体通过所述井筒注入到所述地下地层中；(b)使所述水性流体吸入到所述地下地层的岩石基质中达一段时间；以及(c)从所述地下地层中通过所述井筒采出流体。18.如权利要求16所述的方法，其中所述方法包括用于压裂所述地下地层的方法，所述方法包括：(a)在足够的压力下将所述水性流体通过所述井筒注入到所述地下地层中，以在与所述井筒流体连通的所述地下地层的岩石基质中形成或延长至少一条裂缝。19.如权利要求16所述的方法，其中所述井筒包括注入井筒，并且其中所述方法包括用于烃采收的方法，所述方法包括：(a)将所述水性流体通过所述注入井筒注入到所述地下地层中；以及(b)从与所述注入井筒间隔开预定距离并与所述地下地层流体连通的采出井筒中采出流体；其中所述水性流体的注入增加烃向所述采出井筒的流动。20.一种制备多阴离子表面活性剂的方法，所述方法包括：烷氧基化具有8至36个碳的饱和醇以形成亚烷氧基封端的不饱和醇；使所述亚烷氧基封端的饱和醇反应以形成饱和烷氧基化羧酸盐；以及磺化所述饱和烷氧基化羧酸盐以形成所述多阴离子表面活性剂。21.如权利要求20所述的方法，其中使所述亚烷氧基封端的不饱和醇反应包括氧化所述亚烷氧基封端的不饱和醇以形成不饱和烷氧基化羧酸盐。22.如权利要求20所述的方法，其中使所述亚烷氧基封端的不饱和醇反应包括羧烷基化所述亚烷氧基封端的不饱和醇以形成不饱和烷氧基化羧酸盐。23.如权利要求20-22中任一项所述的方法，其中所述多阴离子表面活性剂包含由权利要求1-12中任一项所定义的表面活性剂。

技术总结
本公开涉及多阴离子表面活性剂、表面活性剂混合物、它们的衍生组合物及其在烃采收中的用途。还描述了制备多阴离子表面活性剂的方法。法。


技术研发人员：G
受保护的技术使用者：雪佛龙美国公司
技术研发日：2021.04.26
技术公布日：2023/2/13