一种薄膜沉淀设备压力控制装置的制作方法

技术特征：
1.一种薄膜沉淀设备压力控制装置，包括调节板(5)，其特征在于：所述调节板(5)滑动在薄膜沉淀设备(1)一端侧壁上开设的调节槽(6)内，调节板(5)上通过连接组件(4)与活动板(3)的一端可拆卸连接，活动板(3)滑动在薄膜沉淀设备(1)一端侧壁上开设的活动槽(9)内，活动板(3)的另一端与设于薄膜沉淀设备(1)内部的调节组件(2)连接，薄膜沉淀设备(1)的一端内设有四个孔洞一(7)，调节板(5)上开设有四个与孔洞一(7)相适配的孔洞二(8)。2.根据权利要求1所述的一种薄膜沉淀设备压力控制装置，其特征在于：所述连接组件(4)包括两个卡块(41)和两个插块(47)，两个卡块(41)均活动连接在活动板(3)一端内部开设的活动腔(42)内，两个插块(47)均固接在调节板(5)上，卡块(41)与推杆(43)的一端固接，推杆(43)活动连接在活动板(3)的侧壁内，推杆(43)的另一端延伸至活动板(3)外部并固接有防脱块(45)，推杆(43)处于活动板(3)和防脱块(45)之间的外壁上套设有弹簧(44)，活动板(3)底部的两侧均开设有与插块(47)相适配的插槽(46)，插块(47)内开设有与卡块(41)相适配的卡槽(48)。3.根据权利要求2所述的一种薄膜沉淀设备压力控制装置，其特征在于：所述插块(47)的底端设有突出部，突出部为直角梯形。4.根据权利要求1所述的一种薄膜沉淀设备压力控制装置，其特征在于：所述调节组件(2)包括调节螺杆(21)，调节螺杆(21)转动连接在薄膜沉淀设备(1)的一端侧壁内，调节螺杆(21)的顶端延伸至薄膜沉淀设备(1)外部并固接有手轮(22)，调节螺杆(21)的外壁上螺旋传动连接有螺套(23)，螺套(23)嵌设于活动板(3)内。5.根据权利要求4所述的一种薄膜沉淀设备压力控制装置，其特征在于：所述调节螺杆(21)处于薄膜沉淀设备(1)外部的外壁上固接有指针(10)，薄膜沉淀设备(1)靠近调节螺杆(21)的外壁上固设有固定环(11)，固定环(11)上设有与指针(10)配合使用的角度刻度。6.根据权利要求1所述的一种薄膜沉淀设备压力控制装置，其特征在于：所述调节板(5)的厚度与调节槽(6)的深度相同。

技术总结
本实用新型公开了一种薄膜沉淀设备压力控制装置，包括调节板，所述调节板滑动在薄膜沉淀设备一端侧壁上开设的调节槽内，调节板上通过连接组件与活动板的一端可拆卸连接，活动板滑动在薄膜沉淀设备一端侧壁上开设的活动槽内，活动板的另一端与设于薄膜沉淀设备内部的调节组件连接，薄膜沉淀设备的一端内设有四个孔洞一，调节板上开设有四个与孔洞一相适配的孔洞二，此薄膜沉淀设备压力控制装置，区别于现有技术，改造一个能改变气体流通大小的挡板，能精准的控制气体压力，让同样的设备能适用于各种不同的靶材所需要的压力，提高设备镀膜质量。膜质量。膜质量。


技术研发人员：黄中山 童洲
受保护的技术使用者：盛吉盛（宁波）半导体科技有限公司
技术研发日：2022.05.20
技术公布日：2022/11/21