应力测量结构与应力测量方法与流程

技术特征：
1.一种应力测量结构，其特征在于，包括：基底；支撑层，设置在所述基底上；材料层，设置在所述支撑层上，其中在所述材料层中具有暴露出所述支撑层的沟槽，且所述材料层包括：主体；以及悬臂梁，其中所述沟槽位于所述悬臂梁与所述主体之间且将所述悬臂梁与所述主体部分地分离，且所述悬臂梁的一端连接于所述主体；以及多个标记，位于所述主体与所述悬臂梁上。2.如权利要求1所述的应力测量结构，其中所述悬臂梁被所述主体所环绕。3.如权利要求1所述的应力测量结构，其中所述悬臂梁在第一方向上延伸，位于所述悬臂梁上的所述标记与位于所述主体上的所述标记在第二方向上延伸且彼此对准，且所述第一方向相交于所述第二方向。4.如权利要求3所述的应力测量结构，其中所述第一方向正交于所述第二方向。5.如权利要求3所述的应力测量结构，其中多个所述标记在所述第一方向上排列且彼此平行。6.如权利要求3所述的应力测量结构，其中在所述第一方向上排列的多个所述标记具有相同的宽度。7.如权利要求3所述的应力测量结构，其中在所述第一方向上排列的多个所述标记具有不同的宽度。8.如权利要求3所述的应力测量结构，其中在所述第一方向上排列的多个所述标记之间的多个间距彼此相同。9.如权利要求3所述的应力测量结构，其中在所述第一方向上排列的多个所述标记之间的多个间距彼此不同。10.如权利要求1所述的应力测量结构，其中多个所述标记包括位于所述主体与所述悬臂梁中的多个掺杂区或位于所述主体的顶面与所述悬臂梁的顶面上的多个凹陷。11.如权利要求1所述的应力测量结构，其中所述沟槽的上视形状包括u形。12.如权利要求1所述的应力测量结构，其中所述悬臂梁的数量为多个，且多个所述悬臂梁具有相同的长度。13.如权利要求1所述的应力测量结构，其中所述悬臂梁的数量为多个，且多个所述悬臂梁具有不同的长度。14.如权利要求1所述的应力测量结构，其中所述悬臂梁的数量为多个，且多个所述悬臂梁具有相同的宽度。15.如权利要求1所述的应力测量结构，其中所述悬臂梁的数量为多个，且多个所述悬臂梁具有不同的宽度。16.如权利要求1所述的应力测量结构，其中所述应力测量结构位于产品晶片的芯片区或切割道中。
17.一种应力测量方法，包括：提供应力测量结构，其中所述应力测量结构包括：基底；支撑层，设置在所述基底上；材料层，设置在所述支撑层上，其中在所述材料层中具有暴露出所述支撑层的沟槽，且所述材料层包括：主体；以及悬臂梁，其中所述沟槽位于所述悬臂梁与所述主体之间且将所述悬臂梁与所述主体部分地分离，且所述悬臂梁的一端连接于所述主体；以及多个标记，位于所述主体与所述悬臂梁上；移除位于所述悬臂梁与所述基底之间的所述支撑层；在移除位于所述悬臂梁与所述基底之间的所述支撑层之后，获得位于所述悬臂梁上的所述标记的偏移量；以及通过位于所述悬臂梁上的所述标记的所述偏移量来获得所述材料层的应力。18.如权利要求17所述的应力测量方法，其中获得所述标记的所述偏移量的方法包括：测量位于所述悬臂梁上的所述标记与位于所述主体上的所述标记之间的位置关系的变化。19.如权利要求17所述的应力测量方法，其中在移除位于所述悬臂梁与所述基底之间的所述支撑层之后，所述悬臂梁悬挂在所述基底上方。20.如权利要求17所述的应力测量方法，其中在移除位于所述悬臂梁与所述基底之间的所述支撑层之后，至少一部分所述支撑层留在所述主体与所述基底之间。

技术总结
本发明公开一种应力测量结构与应力测量方法，其中该应力测量结构包括基底、支撑层、材料层与多个标记。支撑层设置在基底上。材料层设置在支撑层上。在材料层中具有暴露出支撑层的沟槽。材料层包括主体与悬臂梁。沟槽位于悬臂梁与主体之间且将悬臂梁与主体部分地分离。悬臂梁的一端连接于主体。多个标记位于主体与悬臂梁上。悬臂梁上。悬臂梁上。


技术研发人员：林郁祥 高靖尧 董恩凯
受保护的技术使用者：联华电子股份有限公司
技术研发日：2021.05.10
技术公布日：2022/11/10