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一种并行发射局部激发脉冲生成方法、装置和存储介质与流程

2022-11-12 12:09:21 来源:中国专利 TAG:

技术特征:
1.一种并行发射局部激发脉冲生成方法,其特征在于,所述方法包括:根据测试对象的三维映射图和三维激发k空间,生成射频脉冲;根据所述三维映射图、所述三维激发k空间和所述射频脉冲,计算激发均匀度;当所述激发均匀度小于预设值时,对用于生成所述射频脉冲和用于计算所述激发均匀度的所述三维映射图和所述三维激发k空间进行更新;当所述激发均匀度大于或等于所述预设值时,根据当前用于计算所述激发均匀度的所述三维激发k空间和所述射频脉冲,生成所述并行发射局部激发脉冲。2.根据权利要求1所述的并行发射局部激发脉冲生成方法,其特征在于,所述当所述激发均匀度小于预设值时,对用于生成所述射频脉冲和用于计算所述激发均匀度的所述三维映射图和所述三维激发k空间进行更新,包括:降低所述三维激发k空间的稀疏度,得到更新后的三维激发k空间。3.根据权利要求1或2所述的并行发射局部激发脉冲生成方法,其特征在于,所述当所述激发均匀度小于预设值时,对用于生成所述射频脉冲和用于计算所述激发均匀度的所述三维映射图和所述三维激发k空间进行更新,包括:对所述三维映射图进行平滑处理,得到更新后的三维映射图。4.根据权利要求1所述的并行发射局部激发脉冲生成方法,其特征在于,所述根据测试对象的三维映射图和三维激发k空间,生成射频脉冲,包括:根据所述三维映射图、系统矩阵和预期的激发形状,生成所述射频脉冲;所述系统矩阵根据所述三维激发k空间生成。5.根据权利要求4所述的并行发射局部激发脉冲生成方法,其特征在于,所述根据测试对象的三维映射图和三维激发k空间,生成射频脉冲,包括:根据所述三维映射图、所述系统矩阵、预期的激发形状和权重矩阵,生成所述射频脉冲;所述权重矩阵根据所述三维映射图中所述测试对象的轮廓和所述预期的激发形状确定。6.根据权利要求3所述的并行发射局部激发脉冲生成方法,其特征在于,所述对所述三维映射图进行平滑处理,得到更新后的三维映射图,包括:对所述三维映射图的幅值和相位进行平滑处理,得到更新后的三维映射图。7.根据权利要求1所述的并行发射局部激发脉冲生成方法,其特征在于,所述射频脉冲包括幅值和相位;所述根据所述三维映射图、所述三维激发k空间和所述射频脉冲,计算激发均匀度,包括:根据所述三维映射图、所述三维激发k空间、所述射频脉冲的幅值和所述射频脉冲的相位,计算激发均匀度。8.一种并行发射局部激发脉冲生成装置,其特征在于,所述装置包括:生成模块,用于根据测试对象的三维映射图和三维激发k空间,生成射频脉冲;计算模块,用于根据所述三维映射图、所述三维激发k空间和所述射频脉冲,计算激发均匀度;第一执行模块,用于当所述激发均匀度小于预设值时,对用于生成所述射频脉冲和用于计算所述激发均匀度的所述三维映射图和所述三维激发k空间进行更新;
第二执行模块,用于当所述激发均匀度大于或等于预设值时,根据当前用于计算所述激发均匀度的所述三维激发k空间和所述射频脉冲,生成所述并行发射局部激发脉冲。9.一种电子装置,包括存储器和处理器,其特征在于,所述存储器中存储有计算机程序,所述处理器被设置为运行所述计算机程序以执行权利要求1至7中任一项所述的并行发射局部激发脉冲生成方法。10.一种计算机可读存储介质,其上存储有计算机程序,其特征在于,所述计算机程序被处理器执行时实现权利要求1至7中任一项所述的并行发射局部激发脉冲生成方法的步骤。

技术总结
本申请涉及一种并行发射局部激发脉冲生成方法、装置和存储介质,该方法包括:根据测试对象的三维映射图和三维激发K空间,生成射频脉冲;根据所述三维映射图、所述三维激发K空间和所述射频脉冲,计算激发均匀度;当所述激发均匀度小于预设值时,对用于生成所述射频脉冲和用于计算所述激发均匀度的所述三维映射图和所述三维激发K空间进行更新;当所述激发均匀度大于或等于所述预设值时,根据当前用于计算所述激发均匀度的所述三维激发K空间和所述射频脉冲,生成所述并行发射局部激发脉冲。通过本申请,解决了现有技术中存在的射频脉冲持续时间较长的问题,实现了达到预期的磁共振发射场中局部激发部位均匀程度,同时缩短射频脉冲时长。冲时长。冲时长。


技术研发人员:全希佳
受保护的技术使用者:深圳市联影高端医疗装备创新研究院
技术研发日:2022.08.18
技术公布日:2022/11/11
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