一种全息光栅的转移方法及装置与流程

本申请实施例涉及全息光栅，特别是涉及一种全息光栅的转移方法及装置。

背景技术：

1、当前，全息光栅通常在目标光波导基底上直接制备：先在基底表面涂布感光材料，再通过双光束干涉曝光记录光栅结构。然而，这种方式存在明显的技术局限。一方面，目标基底的材料特性如热膨胀系数、表面平整度和透光性等往往不满足高精度曝光的要求，导致光栅质量下降；另一方面，在柔性基底或异形基底上进行干涉曝光难度极大。此外，当需要在多片波导上制备全息光栅时，每片均需独立完成涂布、曝光、后处理等全流程操作，效率低下且一致性难以保证。尚有方案尝试通过光栅拼接或滚动曝光获得大尺寸光栅，但拼接区域的光栅参数一致性难以控制。

技术实现思路

1、为了解决或缓解现有技术中存在的技术问题。

2、第一方面，本申请实施例提供了一种全息光栅的转移方法，包括：

3、在原始基底上表面涂布可剥离层；

4、在可剥离层上表面涂布感光材料层，随后通过双光束干涉曝光形成全息光栅；

5、在所述全息光栅上表面涂布粘接层；

6、将目标基底贴合至所述粘接层上表面；

7、剥离所述原始基底，所述全息光栅完整转移至目标基底上。

8、作为本申请一优选实施例，所述粘接层为光学透明胶，且所述粘接层的折射率与所述感光材料层的折射率之差小于预设值。

9、作为本申请一优选实施例，所述可剥离层为光热转换材料。

10、作为本申请一优选实施例，所述剥离所述原始基底，包括：

11、通过剥离激光照射原始基底背面，所述可剥离层吸收光能后热分解气化，形成分离界面。

12、作为本申请一优选实施例，所述感光材料层为图案化结构，仅在预设区域保留感光材料。

13、与现有技术相比，本申请实施例提出一种全息光栅的转移方法，通过在原始基底上设置可剥离层，在可剥离层上制备感光材料层并进行高质量干涉曝光，然后通过粘接层将感光材料层转印至目标基底，最后剥离原始基底完成转移。该方法实现了全息光栅制备基底与应用基底的分离，既保证了曝光质量，又拓展了目标基底的选择范围。

14、第二方面，本申请实施例还提供了一种全息光栅的转移方法，包括：

15、在第一双光束干涉曝光膜材上依次涂布感光材料层和第二双光束干涉曝光膜材；

16、通过双光束干涉曝光形成全息光栅。

17、与现有技术相比，本申请实施例提出一种全息光栅的转移方法，不用剥离原始基底，直接通过第一双光束干涉曝光膜材和第二双光束干涉曝光膜材夹住的感光材料层，曝光完成的全息光栅，可以将全息光栅切割成任意形状的光栅形状，并且可以挑选曝光质量高的光栅进行贴合，极大提升制备良率。

18、第三方面，本申请实施例还提供了一种全息光栅的转移方法，包括：

19、在目标基底上表面涂布粘接层；

20、在粘接层上表面依次涂布第一双光束干涉曝光膜材、感光材料层和第二双光束干涉曝光膜材；

21、通过双光束干涉曝光形成全息光栅。

22、与现有技术相比，本申请实施例提出一种全息光栅的转移方法，不用剥离原始基底，直接通过第一双光束干涉曝光膜材和第二双光束干涉曝光膜材夹住的感光材料层，曝光完成的全息光栅，可以将全息光栅切割成任意形状的光栅形状，并且可以挑选曝光质量高的光栅进行贴合，极大提升制备良率。

23、第四方面，本申请实施例还提供了一种全息光栅的转移装置，用于执行第一方面任一项所述的转移方法，所述装置包括原始基底、可剥离层、感光材料层、固定层和目标基底；

24、所述可剥离层、感光材料层、固定层和目标基底依次设置在所述原始基底上表面；

25、通过对所述感光材料层进行双光束干涉曝光形成全息光栅，剥离所述原始基底，所述全息光栅完整转移至目标基底上。

26、与现有技术相比，本申请实施例提供了一种全息光栅的转移装置，有益效果与第一方面相同，在此不再赘述。

27、第五方面，本申请实施例还提供了一种全息光栅的转移装置，用于执行第三方面所述的转移方法，所述装置包括目标基底、粘接层、感光材料层、第一双光束干涉曝光膜材和第二双光束干涉曝光膜材；

28、所述粘接层、第一双光束干涉曝光膜材和第二双光束干涉曝光膜材、感光材料层依次设置在所述目标基底上表面；

29、通过对所述感光材料层进行双光束干涉曝光形成全息光栅。

30、与现有技术相比，本申请实施例提供了一种全息光栅的转移装置，有益效果与第二方面和第三方面相同，在此不再赘述。

1.一种全息光栅的转移方法，其特征在于，包括：

2.如权利要求1所述的一种全息光栅的转移方法，其特征在于，所述粘接层为光学透明胶，且所述粘接层的折射率与所述感光材料层的折射率之差小于预设值。

3.如权利要求1所述的一种全息光栅的转移方法，其特征在于，所述可剥离层为光热转换材料。

4.如权利要求1所述的一种全息光栅的转移方法，其特征在于，所述剥离所述原始基底，包括：

5.如权利要求1所述的一种全息光栅的转移方法，其特征在于，所述感光材料层为图案化结构，仅在预设区域保留感光材料。

6.一种全息光栅的转移方法，其特征在于，包括：

7.一种全息光栅的转移方法，其特征在于，包括：

8.一种全息光栅的转移装置，其特征在于，用于执行如权利要求1至5任一项所述的转移方法，所述装置包括原始基底、可剥离层、感光材料层、固定层和目标基底；

9.一种全息光栅的转移装置，其特征在于，用于执行如权利要求7所述的转移方法，所述装置包括目标基底、粘接层、感光材料层、第一双光束干涉曝光膜材和第二双光束干涉曝光膜材；