一种真空吸附平台的制作方法
本发明涉及精密检测治具,具体涉及一种真空吸附平台。
背景技术:
1、在精密工件检测、微电子产品工装定位技术领域,工件检测作业对承载工装的定位稳定性和调装便捷性均有着较高的要求。工件检测平台一般通过真空吸附的方式分别完成工装平台自身的固定以及待测工件的夹持定位。
2、现有技术当中,市面上常见的真空吸附工装大多仅设置单路真空回路,平台锁止与工件吸附联动控制。当需要拆装、更换待测工件时,必须先关闭真空气源,解除整个平台以及工件的吸附锁止状态。工件更换完成后,需要重新对工装平台进行对位校正,才能再次开展检测工作,工序繁琐,上下料耗时长,检测效率偏低。
3、因此,亟需一种两路气路相互独立、可分开启停控制的真空吸附平台。
技术实现思路
1、针对现有技术存在的不足,本发明提出了一种真空吸附平台。
2、为解决上述问题,本发明提供如下技术方案:
3、一种真空吸附平台,包括承载平台,所述承载平台包括第一承载面、第二承载面、第一真空吸附单元和第二真空吸附单元;
4、所述第一承载面用于承载待检测工件;
5、所述第二承载面用于与安装基面配合;
6、所述第一真空吸附单元用于将所述承载平台吸附固定于所述安装基面,所述第一真空吸附单元包括第一密封槽和第一真空腔;所述第一密封槽设于所述承载平台靠近所述第二承载面的一侧;所述第一真空腔设于所述承载平台内,所述第一真空腔的一端与所述第一密封槽相连通,所述第一真空腔的另一端外露于所述承载平台,用于连接外部真空源;
7、所述第二真空吸附单元沿所述承载平台的厚度方向贯穿设置,用于将待检测工件吸附固定于所述第一承载面,所述第二真空吸附单元包括第二密封槽、第二真空腔和真空吸附槽;所述第二密封槽设于所述承载平台;所述第二真空腔设于所述承载平台内,所述第二真空腔的一端与所述第二密封槽相连通,所述第二真空腔的另一端外露于所述承载平台,用于连接外部真空源;所述真空吸附槽设于所述承载平台靠近所述第一承载面的一侧并与所述第二密封槽相连通;
8、所述第一真空吸附单元与所述第二真空吸附单元相互独立,气路隔离。
9、可选地,所述承载平台还包括第一承载部和第二承载部,所述第一承载部设于所述第二承载部的上方;所述第一承载部的上端面构成所述第一承载面,所述第二承载部的下端面构成所述第二承载面。
10、可选地,所述第一密封槽开设于所述第二承载部的下端面,沿所述第二承载部的下端面的周向形成连续闭合的环形槽;
11、所述第一真空腔开设于所述第二承载部内,所述第一真空腔远离所述第一密封槽的一端设有外露于所述第二承载部侧壁的第一真空接头,用于连接外部真空源。
12、可选地,所述第二密封槽包括第二上密封槽和第二下密封槽,所述第二上密封槽开设于所述第二承载部的上端面,所述第二下密封槽开设于所述第二承载部的下端面,所述第二上密封槽与所述第二下密封槽相连通。
13、可选地,所述第二承载部的内部开设有至少一个导流通道,所述导流通道沿所述第二承载部的厚度方向设置,所述导流通道的上端与所述第二上密封槽连通,所述导流通道的下端与所述第二下密封槽连通。
14、可选地,所述第二承载部内开设有至少一个所述第二真空腔,所述第二真空腔的一端与所述导流通道相连通,所述第二真空腔的另一端设有外露于所述第二承载部侧壁的第二真空接头,用于连接外部真空源。
15、可选地,所述真空吸附槽沿所述第一承载部的厚度方向贯穿开设,所述真空吸附槽的上端开口连通所述第一承载面,所述真空吸附槽的下端开口对准并连通所述第二上密封槽。
16、可选地,所述第二上密封槽和第二下密封槽均包括至少两圈同轴嵌套布置、圆心重合的环形槽,同一端面的环形槽之间通过十字状槽体相互连通,所述十字状槽体沿径向延伸并连通内外相邻的环形槽。
17、可选地,所述真空吸附槽设有多个,多个所述真空吸附槽以所述第一承载部的中心轴线为圆心沿周向间隔均匀设置;所述第一承载部的中心位置还设有一真空吸附槽;
18、所述第一承载部位于所述真空吸附槽的外圈沿周向间隔设置有多个避让槽,所述避让槽沿所述第一承载部的厚度方向贯穿开设。
19、可选地,所述导流通道设有两个,两个所述导流通道沿所述第二承载部的中心轴线呈中心对称设置,各所述导流通道分别与所述第二上密封槽和第二下密封槽连通;
20、所述第二真空腔设有两个,两个所述第二真空腔沿所述第二承载部的中心轴线呈中心对称设置,每一第二真空腔均与一对应的导流通道相连通。
21、本发明的有益效果为:
22、本发明设置第一真空吸附单元、第二真空吸附单元两路相互独立且气路隔离的真空回路;第一真空吸附单元可将承载平台固定于安装基面,第二真空吸附单元用于吸附固定待检测工件,两路气路工作互不干涉,能够实现平台锁止与工件吸附的分开控制。在拆装工件时可单独控制工件吸附回路启停,无需释放平台的锁止状态,减少平台基准重复校正操作,有利于提升作业效率,同时两路气路相互隔离可有效避免负压串扰,提高平台整体固定稳定性以及工件吸附定位的可靠性。
1.一种真空吸附平台,包括承载平台,其特征在于,所述承载平台包括第一承载面、第二承载面、第一真空吸附单元和第二真空吸附单元;
2.根据权利要求1所述的真空吸附平台,其特征在于,所述承载平台还包括第一承载部和第二承载部,所述第一承载部设于所述第二承载部的上方;所述第一承载部的上端面构成所述第一承载面,所述第二承载部的下端面构成所述第二承载面。
3.根据权利要求2所述的真空吸附平台,其特征在于,所述第一密封槽开设于所述第二承载部的下端面,沿所述第二承载部的下端面的周向形成连续闭合的环形槽;
4.根据权利要求2所述的真空吸附平台,其特征在于,所述第二密封槽包括第二上密封槽和第二下密封槽,所述第二上密封槽开设于所述第二承载部的上端面,所述第二下密封槽开设于所述第二承载部的下端面,所述第二上密封槽与所述第二下密封槽相连通。
5.根据权利要求4所述的真空吸附平台,其特征在于,所述第二承载部的内部开设有至少一个导流通道,所述导流通道沿所述第二承载部的厚度方向设置,所述导流通道的上端与所述第二上密封槽连通,所述导流通道的下端与所述第二下密封槽连通。
6.根据权利要求5所述的真空吸附平台,其特征在于,所述第二承载部内开设有至少一个所述第二真空腔,所述第二真空腔的一端与所述导流通道相连通,所述第二真空腔的另一端设有外露于所述第二承载部侧壁的第二真空接头,用于连接外部真空源。
7.根据权利要求4所述的真空吸附平台,其特征在于,所述真空吸附槽沿所述第一承载部的厚度方向贯穿开设,所述真空吸附槽的上端开口连通所述第一承载面,所述真空吸附槽的下端开口对准并连通所述第二上密封槽。
8.根据权利要求4所述的真空吸附平台,其特征在于,所述第二上密封槽和第二下密封槽均包括至少两圈同轴嵌套布置、圆心重合的环形槽,同一端面的环形槽之间通过十字状槽体相互连通,所述十字状槽体沿径向延伸并连通内外相邻的环形槽。
9.根据权利要求7所述的真空吸附平台,其特征在于,所述真空吸附槽设有多个,多个所述真空吸附槽以所述第一承载部的中心轴线为圆心沿周向间隔均匀设置;所述第一承载部的中心位置还设有一真空吸附槽;
10.根据权利要求6所述的真空吸附平台,其特征在于,所述导流通道设有两个,两个所述导流通道沿所述第二承载部的中心轴线呈中心对称设置,各所述导流通道分别与所述第二上密封槽和第二下密封槽连通;
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