显示面板、显示面板的制备方法及显示装置与流程

本技术涉及显示领域具体涉及一种显示面板、显示面板的制备方法及显示装置。

背景技术：

1、有机发光二极管(organic light-emitting diode；oled)是主动发光器件。与传统的液晶显示(liquid crystal display；lcd)显示方式相比，oled显示技术无需背光灯，具有自发光的特性。oled采用较薄的有机材料膜层和玻璃基板，当有电流通过时，有机材料就会发光。因此oled显示面板能够显著节省电能，可以做得更轻更薄，比lcd显示面板耐受更宽范围的温度变化，而且可视角度更大。oled显示面板有望成为继lcd之后的下一代平板显示技术，是目前平板显示技术中受到关注最多的技术之一。

技术实现思路

1、本技术实施例提供一种显示面板、显示面板的制备方法及显示装置，旨在提高显示面板的性能。

2、本技术第一方面的实施例提供一种显示面板，包括：基板。第一电极层，设置于基板的一侧并包括间隔分布的多个第一电极。像素定义层，设置于第一电极层背离基板的一侧，像素定义层包括像素限定部以及像素限定部围合形成的像素开口，多个像素开口阵列分布，像素开口和第一电极一一对应设置。发光功能层，包括间隔设置的多个发光单元，发光单元的至少部分对应设置于像素开口内并位于第一电极背离基板的一侧。第二电极层，位于发光功能层背离第一电极的一侧，至少部分第二电极层位于像素开口。其中，第一电极背离基板的一侧表面设置有超表面结构，超表面结构被配置为吸收预设波长的光线，超表面结构包括在第一电极背离基板的表面设置有的多个超表面单元，相邻两个超表面单元间隔设置形成凹槽，超表面单元和凹槽的至少部分位于像素开口内。

3、根据本技术第一方面的实施方式，超表面结构包括超表面单元，超表面单元位于第一电极背离基板的一侧表面，超表面单元有多个，多个超表面单元间隔设置并阵列排布。

4、根据本技术第一方面前述任一实施方式，超表面单元超表面单元与第一电极一体成型。

5、根据本技术第一方面前述任一实施方式，预设波长的范围为490nm-505nm，和/或，585nm-600nm。

6、根据本技术第一方面前述任一实施方式，超表面单元沿显示面板厚度方向的截面为圆形、椭圆形、矩形、三角形其中的至少一者。

7、根据本技术第一方面前述任一实施方式，超表面单元背离基板一侧的顶壁朝靠近基板的方向凹陷设置。

8、根据本技术第一方面前述任一实施方式，顶壁沿显示面板的厚度方向的截面为弧形。

9、根据本技术第一方面前述任一实施方式，顶壁为球面的一部分。

10、根据本技术第一方面前述任一实施方式，发光单元包括发光颜色相异的第一类单元与第二类单元，第一类单元对应的超表面单元沿显示面板厚度方向的高度等于第二类单元对应的超表面单元沿显示面板厚度方向的高度，和/或，第一类单元对应的相邻两个超表面单元之间的间距大于或等于第二类单元对应的相邻两个超表面单元之间的间距。

11、根据本技术第一方面前述任一实施方式，发光单元还包括第三类单元，第一类单元、第二类单元与第三类单元的发光颜色两两相异，第二类单元对应的超表面单元沿显示面板厚度方向的高度等于第三类单元对应的超表面单元沿显示面板厚度方向的高度，和/或，第二类单元对应的相邻两个超表面单元之间的间距大于或等于第三类单元对应的相邻两个超表面单元之间的间距。

12、根据本技术第一方面前述任一实施方式，第一类单元对应的相邻两个超表面单元之间的间距为280nm-500nm，和/或，第二类单元对应的相邻两个超表面单元之间的间距为170nm-280nm。

13、根据本技术第一方面前述任一实施方式，第三类单元对应的相邻两个超表面单元之间的间距为100nm-200nm。

14、根据本技术第一方面前述任一实施方式，第一类单元对应的超表面单元沿显示面板厚度方向的高度为50nm-200nm。

15、根据本技术第一方面前述任一实施方式，第二类单元对应的超表面单元沿显示面板厚度方向的高度为50nm-200nm。

16、根据本技术第一方面前述任一实施方式，第三类单元对应的超表面单元沿显示面板厚度方向的高度为50nm-200nm。

17、根据本技术第一方面前述任一实施方式，第一类单元和第二类单元和/或第三类单元分别对应的超表面单元沿显示面板厚度方向的高度相等。

18、根据本技术第一方面前述任一实施方式，第一类单元的发光颜色为蓝色，和/或，第二类单元的发光颜色为绿色。

19、根据本技术第一方面前述任一实施方式，第三类单元的发光颜色为红色。

20、根据本技术第一方面前述任一实施方式，至少部分发光功能层由第一电极背离基板的一侧表面延伸至超表面单元背离基板的一侧表面。

21、根据本技术第一方面前述任一实施方式，发光单元背离第一电极的一侧表面为平坦结构。

22、根据本技术第一方面前述任一实施方式，第二电极层还包括连接电极，多个第二电极间隔设置于像素开口，连接电极连接于相邻两个第二电极之间。

23、根据本技术第一方面前述任一实施方式，连接电极的宽度为2μm-6μm。

24、根据本技术第一方面前述任一实施方式，第二电极在基板的正投影位于像素开口在基板的正投影内。

25、根据本技术第一方面前述任一实施方式，第二电极和连接电极一体成型。

26、根据本技术第一方面前述任一实施方式，还包括：绝缘层，位于第二电极层背离基板的一侧，绝缘层包括绝缘部和绝缘部围合形成的第一开口。触控层，包括多个间隔设置的触控电极，触控电极对应设置于第一开口内。吸光层，位于触控层背离绝缘层的一侧，吸光层包括多个吸光部，吸光部位于触控电极背离绝缘层的一侧，吸光部被配置为吸收反射光线。

27、根据本技术第一方面前述任一实施方式，绝缘层的材料包括有机材料、光选择材料中的至少一者。

28、根据本技术第一方面前述任一实施方式，光选择材料被配置为吸收波长范围在490nm-505nm、585nm-600nm中的至少一者的光线。

29、根据本技术第一方面前述任一实施方式，触控电极在基板的正投影与像素开口在基板的正投影间隔设置。

30、根据本技术第一方面前述任一实施方式，触控电极包括背离基板一侧依次间隔设置的第一触控电极和第二触控电极。

31、根据本技术第一方面前述任一实施方式，吸光层的材料包括无机材料、金属、金属化合物其中的至少一者。

32、根据本技术第一方面前述任一实施方式，吸光层的材料包括硅的氮化物、硅的氧化物其中的至少一者。

33、根据本技术第一方面前述任一实施方式，像素定义层的材料包括遮光材料。

34、根据本技术第一方面前述任一实施方式，还包括：封装层，位于第二电极层背离基板一侧。光选择层，位于封装层背离基板一侧，光选择层包括光选择材料。

35、根据本技术第一方面前述任一实施方式，显示面板还包括触控层，光选择层位于封装层和触控层之间。

36、根据本技术第一方面前述任一实施方式，光选择材料被配置为吸收波长范围在490nm-505nm、585nm-600nm中的至少一者的光线。

37、本技术第二方面的实施例提供了一种显示面板的制备方法，包括：在基板制备第一电极层，第一电极层包括多个间隔分布的第一电极。在第一电极背离基板的一侧制备超表面结构，超表面结构被配置为吸收预设波长的光线。在第一电极背离基板一侧制备像素定义层，像素定义层包括像素限定部以及像素限定部围合形成的像素开口，多个像素开口阵列分布，像素开口和第一电极一一对应设置。在像素定义层背离基板的一侧依次形成发光功能层和第二电极层。

38、根据本技术第二方面前述任一实施方式，在第一电极背离基板的一侧制备超表面结构，超表面结构被配置为吸收预设波长的光线的步骤中还包括：对第一电极进行电子述刻蚀以形成超表面单元，多个超表面单元间隔设置并阵列排布。

39、根据本技术第二方面前述任一实施方式，在像素定义层背离基板的一侧依次形成发光功能层和第二电极层的步骤中还包括：对第二电极材料层进行图案化处理得到第二电极，多个第二电极位于像素开口，第二电极位于发光功能层背离基板的一侧。

40、根据本技术第二方面前述任一实施方式，对第二电极材料层进行图案化处理得到第二电极，多个第二电极位于像素开口，第二电极位于发光功能层背离基板的一侧的步骤中还包括：对第二电极材料层进行图案化处理得到连接电极，连接电极连接于相邻两个第二电极之间。

41、本技术第三方面的实施例提供了一种显示装置，包括如前所述任一项的显示面板或者包括如前所述任一项的显示面板的制备方法制备的显示面板。

42、在本技术实施例提供的显示面板中，显示面板包括基板、第一电极层、像素定义层、发光功能层和第二电极层，像素定义层设置于第一电极层背离基板的一侧，像素定义层包括像素限定部以及像素限定部围合形成的像素开口，多个像素开口阵列分布。像素限定部用于改善不同颜色子像素的串扰的问题。发光功能层包括间隔设置的多个发光单元，发光单元的至少部分对应设置于像素开口内并位于第一电极背离基板的一侧，位于像素开口内的至少部分发光功能层用于实现显示面板的显示功能。

43、第一电极层设置于基板的一侧并包括间隔分布的多个第一电极，像素开口和第一电极一一对应设置，第二电极层位于发光功能层背离第一电极的一侧，至少部分第二电极层位于像素开口。第一电极和第二电极用于驱动发光单元发出不同颜色的光。其中，第一电极背离基板的一侧表面设置有超表面结构，超表面结构被配置为吸收预设波长的光线，仅吸收预设波长的光线波段，可以不影响oled主动发光波长，提升出光效率。超表面结构包括超表面单元，超表面单元位于第一电极背离基板的一侧表面，超表面结构与oled像素开口区域(发光区)部分重叠，而非完全覆盖非发光区，可以减少工艺制程，节约材料。超表面单元有多个，多个超表面单元间隔设置并阵列排布，超表面通过局域共振或波导模式吸收环境光，替代圆偏光片的偏振滤波功能，降低屏幕反射率。凹槽形成光陷阱(lighttrapping)，通过多次反射/散射延长光程，提升环境光吸收效率。超表面单元沿所述显示面板厚度方向的高度和/或相邻两个超表面单元之间的间距范围为10nm-1000nm，根据周期、尺寸的不同吸收特定波长的环境光，降低反射率。通过设计超表面单元的排列方式，实现对光线的精细调控。降反的同时满足显示面板轻薄性的需求，提升显示面板的性能。