一种具有硬化低反射保护层的偏光板制程工艺及偏光板的制作方法

本发明涉及一种具有硬化低反射保护层的偏光板制程工艺及偏光板，属于偏光片。

背景技术：

1、偏光板是液晶显示器件中用于实现偏振光选择性透过的重要光学元件，通常包括pva偏光子、设置于pva偏光子两侧的保护膜或补偿膜、压敏胶层及离型膜等结构。随着电视、商业显示等液晶显示产品向大尺寸方向发展，偏光板的有效幅宽不断增加，对偏光板的光学性能、表面耐刮擦性能、低反射性能以及宽幅制程稳定性提出了更高要求。尤其对于86英寸以上乃至116英寸的超大尺寸显示面板，偏光板在保持较高透过率和偏光度的同时，还需要满足大幅宽裁切及后续贴合要求。

2、现有偏光板通常采用tac膜作为pva偏光子的保护膜，但tac材料亲水性较强、透湿率相对较高，在高温高湿环境下易受水分影响，并进一步影响pva偏光子的光学性能。同时，大尺寸显示产品在运输、组装、清洁及使用过程中具有更大的外露表面积，当偏光板外表面硬度不足或反射率较高时，容易出现划伤、擦伤以及环境光反射、眩光的问题。

3、另一方面，宽幅pva膜在膨润、染色、延伸和水切过程中，其膜幅容易受到槽体温度、张力、扭力、延伸倍率及机速等因素影响，在宽幅生产条件下容易产生膜幅波动、局部拉伸不均甚至膜裂等现象。

技术实现思路

1、本发明的目的在于克服现有大尺寸偏光板在制备过程中难以兼顾外表面硬度及低反射性能、宽幅pva偏光子制程稳定性以及多层膜材贴合稳定性的问题。

2、为解决上述技术问题，本发明是采用下述技术方案实现的：

3、第一方面，提供具有硬化低反射保护层的偏光板制程工艺，包括以下步骤：

4、对pet基材进行初处理，在所述pet基材的一侧依次进行hc涂布、预干燥和lr涂布，并进行uv固化，得到hclr-pet光学膜；所述hclr-pet光学膜包括pet基材、设置在pet基材一侧表面的hc涂层和设置在hc涂层外侧表面的lr涂层；

5、将pva膜依次进行膨润处理、染色处理、延伸处理和水切处理，得到pva偏光子；

6、将所述hclr-pet光学膜作为pva偏光子的上侧保护膜，将cop补偿膜作为pva偏光子的下侧补偿层；

7、在所述hclr-pet光学膜与pva偏光子之间以及pva偏光子与cop补偿膜之间分别设置uv胶，通过复合辊进行三层贴合，并进行uv固化，得到hclr-pet/pva/cop复合膜；

8、在离型膜的离型剂面涂布压敏胶，经干燥后将离型膜与hclr-pet/pva/cop复合膜的cop补偿膜侧贴合，并对贴合后的膜材进行保护膜二次处理，得到偏光板。

9、进一步的，所述pet基材为光学级双向拉伸聚对苯二甲酸乙二醇酯薄膜，厚度为40μm～125μm，透光率不低于88%，雾度不高于1.5%；

10、所述hc涂层固化后的厚度为2μm～10μm，所述lr涂层固化后的厚度为80nm～160nm。

11、进一步的，所述hc涂层的hc涂布液包括丙烯酸酯类低聚物、多官能丙烯酸酯交联单体、无机纳米硬化粒子、光引发剂、流平剂、附着力促进剂和有机溶剂；

12、所述丙烯酸酯类低聚物为20～60重量份；

13、所述多官能丙烯酸酯交联单体为10～45重量份；

14、所述无机纳米硬化粒子为10～45重量份；

15、所述光引发剂为1～8重量份；

16、所述流平剂为0.05～1.5重量份；

17、所述附着力促进剂为0.1～3重量份；

18、所述hc涂布液的固含量为20%～60%。

19、进一步的，所述lr涂层的lr涂布液包括含氟丙烯酸酯树脂和/或硅氧烷改性丙烯酸酯树脂、空心二氧化硅粒子、多官能丙烯酸酯交联剂、光引发剂、流平剂和有机溶剂；

20、含氟丙烯酸酯树脂和/或硅氧烷改性丙烯酸酯树脂为20～70重量份；

21、空心二氧化硅为20～70重量份；

22、多官能丙烯酸酯交联剂为5～30重量份；

23、光引发剂为0.5～6重量份；

24、流平剂为0.05～1重量份；

25、所述lr涂布液的固含量为0.5%～10%。

26、进一步的，所述pva膜的皂化度不低于98mol%，厚度为20μm～80μm；

27、所述膨润处理的槽体温度为20℃～30℃；

28、所述染色处理采用包括碘、碘化钾和水的染色液；

29、其中，碘浓度为0.01wt%～0.5wt%，碘化钾浓度为0.1wt%～5wt%，染色处理的槽体温度为20℃～40℃。

30、进一步的，在所述膨润处理过程中：对应工位的张力控制在300n～700n，扭力控制在2n～18n；

31、在所述染色处理过程中：对应工位的张力控制在600n～1000n，扭力控制在2n～10n；

32、在所述延伸处理过程中，对应工位的张力控制在600n～1000n，扭力控制在0n～5n；

33、在所述水切处理过程中，对应工位的张力控制在300n～700n，扭力控制在15n～30n；

34、所述pva膜的延伸倍率为1.0倍～4.0倍，延伸处理的机速为10m/min～40m/min。

35、进一步的，所述uv胶为无溶剂型或低溶剂型丙烯酸酯光固化胶；包括聚氨酯丙烯酸酯低聚物、丙烯酸酯活性稀释剂、亲水性改性单体、光引发剂、硅烷偶联剂及流平剂；

36、所述uv胶固化后的胶层厚度为0.5μm～8μm。

37、第二方面，提供一种具有硬化低反射保护层的偏光板，采用如第一方面所述的具有硬化低反射保护层的偏光板制程工艺制备而成，还包括：

38、从观察侧至液晶盒侧依次包括hclr-pet光学膜、第一uv胶层、pva偏光子、第二uv胶层、cop补偿膜、压敏胶层和离型膜；

39、所述hclr-pet光学膜包括pet基材、设置在所述pet基材朝向观察侧的表面的hc涂层和设置在所述hc涂层朝向观察侧的表面的lr涂层；

40、所述第一uv胶层设置在hclr-pet光学膜与pva偏光子之间，所述第二uv胶层设置在pva偏光子与cop补偿膜之间，所述压敏胶层设置在cop补偿膜与离型膜之间。

41、与现有技术相比，本发明所达到的有益效果：

42、本发明通过在pet基材表面依次形成hc涂层和lr涂层，并将所得hclr-pet光学膜作为pva偏光子的上侧保护膜，使偏光板获得由pet基材、硬化层和低反射层共同构成的外侧保护结构；同时，通过依次对pva膜进行膨润、染色、延伸和水切处理，并将hclr-pet光学膜、pva偏光子和cop补偿膜通过uv胶进行三层贴合，使pva偏光子的宽幅制备与后续膜层复合形成连续配合的制程。由此能够在满足大尺寸偏光板制备要求的基础上，兼顾偏光板外表面的耐刮擦及低反射性能，并提高宽幅膜材制备和多层贴合过程的稳定性。

1.一种具有硬化低反射保护层的偏光板制程工艺，其特征在于，包括以下步骤：

2.根据权利要求1所述的具有硬化低反射保护层的偏光板制程工艺，其特征在于，所述pet基材为光学级双向拉伸聚对苯二甲酸乙二醇酯薄膜，厚度为40μm～125μm，透光率不低于88%，雾度不高于1.5%；

3.根据权利要求1所述的具有硬化低反射保护层的偏光板制程工艺，其特征在于，所述hc涂层的hc涂布液包括丙烯酸酯类低聚物、多官能丙烯酸酯交联单体、无机纳米硬化粒子、光引发剂、流平剂、附着力促进剂和有机溶剂；

4.根据权利要求1所述的具有硬化低反射保护层的偏光板制程工艺，其特征在于，所述lr涂层的lr涂布液包括含氟丙烯酸酯树脂和/或硅氧烷改性丙烯酸酯树脂、空心二氧化硅粒子、多官能丙烯酸酯交联剂、光引发剂、流平剂和有机溶剂；

5.根据权利要求1所述的具有硬化低反射保护层的偏光板制程工艺，其特征在于，所述pva膜的皂化度不低于98mol%，厚度为20μm～80μm；

6.根据权利要求5所述的具有硬化低反射保护层的偏光板制程工艺，其特征在于，

7.根据权利要求1所述的具有硬化低反射保护层的偏光板制程工艺，其特征在于，所述uv胶为无溶剂型或低溶剂型丙烯酸酯光固化胶；包括聚氨酯丙烯酸酯低聚物、丙烯酸酯活性稀释剂、亲水性改性单体、光引发剂、硅烷偶联剂及流平剂；

8.一种具有硬化低反射保护层的偏光板，其特征在于，采用如权利要求1-7任一项所述的具有硬化低反射保护层的偏光板制程工艺制备而成，还包括：