一种LDI光刻机用吸附平台的制作方法

摘要: 本技术涉及pcb板生产设备领域,具体为一种ldi光刻机用吸附平台。背景技术:1、ldi是pcb制造中替代传统底片接触曝光的关键技术,通过计算机控制紫外激光束直接...
一种LDI光刻机用吸附平台的制作方法

本技术涉及pcb板生产设备领域,具体为一种ldi光刻机用吸附平台。

背景技术:

1、ldi是pcb制造中替代传统底片接触曝光的关键技术,通过计算机控制紫外激光束直接在涂覆光致抗蚀剂的基板上成像,在采用pcb板内外层的油墨工序、图形形成工序生产加工薄板/小板过程中,前工序的干湿制程加工会使pcb板产生不同程度的胀缩和应变,从而造成pcb板产生不同程度的翘曲/扭曲/弓曲等变形;同时,若pcb板尺寸过小而无法覆盖整个曝光台面时,真空吸板对pcb板进行真空吸附的吸附力会不够,也会造成pcb板边角翘起;而pcb板的翘曲又会导致pcb板的曝光焦面无法一致,最终造成pcb板曝光不良和缺陷,影响产品品质,其中申请号为“cn202022800529.5”的一种光刻机用pcb板的吸附平台,本实用新型光刻机用pcb板的吸附平台中,压条所在侧的偏心孔的开孔直径大于另一侧偏心孔的开孔直径,有效增大了pcb板的受力面积,增强吸附面板对pcb板的吸附力,将pcb板放置在吸附面板上后,压条驱动模组驱动压条组件将pcb板压合在吸附面板上,通过压条组件进行压边,有效防止pcb板 翘边造成曝光不良,提高产品良率,但该装置在使用过程中还存在一定改进:该装置不具有高度调节结构,当 pcb 板与光刻机距离过近:聚焦过度导致 “图形畸变”、距离过远:聚焦不足导致 “图形模糊”基于此,根据不同厚度的pcb 板调节与光刻机间距可以保障 ldi 光刻的高质量与高效率。

技术实现思路

1、本实用新型的目的在于提供一种ldi光刻机用吸附平台,以解决上述背景技术提出的问题。

2、为实现上述目的,本实用新型提供如下技术方案:一种ldi光刻机用吸附平台,包括吸附组件和调节组件;

3、其中:吸附组件包括吸附支撑框,所述吸附支撑框的内部开设有若干纵横交错的气流通道,所述吸附支撑框的表面开设有若干连通孔,所述连通孔与气流通道连通,所述吸附支撑框的表面位于连通孔四周连接有若干凸块,所述吸附支撑框内部位于凸块表面安装有吸板,所述吸板的表面开设有若干吸气孔,所述吸附支撑框的底部两侧连接有真空抽吸机构;

4、调节组件包括设置在吸附支撑框底部的底座,所述底座的表面四周安装有支脚,所述支脚内侧固定安装有滑块,所述吸附支撑框的底部安装有升降台,所述升降台的底部两端安装有侧板,所述侧板的表面两侧固定安装有滑轨,所述滑轨滑动安装在滑块内部,所述支脚的表面安装有伺服电动缸,所述伺服电动缸的伸缩端与升降台底部两端连接。

5、作为本实用新型一种优选方案:所述真空抽吸机构包括安装在吸附支撑框底部两侧的真空罩,所述吸附支撑框的底部开设有与气流通道连通的导流孔,所述真空罩罩设在导流孔表面,所述真空罩的底部安装有真空发生器,所述真空罩的底部一侧还设有正压阀。

6、作为本实用新型一种优选方案:所述底座的底部设有直线模组,所述底座安装在直线模组顶部,所述底座的底部两侧安装有限位块,所述底座的底部两侧设有导轨,所述限位块滑动在导轨表面。

7、作为本实用新型一种优选方案:所述升降台的一端中部还安装有位移传感器。

8、作为本实用新型一种优选方案:所述吸附支撑框的顶部相邻两边侧均固定安装有刻度尺。

9、作为本实用新型一种优选方案:所述吸附支撑框的一侧固定安装有防护支架,所述防护支架中部镂空处安装有水平仪。

10、与现有技术相比,本实用新型的有益效果是:

11、(1)在底座的表面四周安装有支脚,当支脚表面安装的伺服电动缸推动升降台时,升降台通过侧板表面安装的滑轨沿着支脚内侧的滑块滑动,使得升降台相对底座稳定升降,从而通过升降台带动吸附支撑框实现升降调节,吸附支撑框升降带动表面吸附的pcb板相对光刻机进行距离的调整,满足不同厚度尺寸的pcb板光刻加工,伺服电动缸具有精确控制调节,在升降台的一端中部安装的位移传感器配合下实现升降位移控制,使得降低调节误差;

12、(2)吸附支撑框的内部开设有纵横交错的气流通道,吸附支撑框表面开设有连通孔与气流通道连通,吸附支撑框的表面位于连通孔四周设有凸块,吸板安装在凸块的表面并通过表面的吸气孔与气流通道连通,当吸附支撑框底部两侧的真空抽吸机构工作时使得吸附支撑框内部形成真空环境,便于将放置在吸板表面的pcb 板进行吸紧固定。

1.一种ldi光刻机用吸附平台,其特征在于,包括:

2.根据权利要求1所述的一种ldi光刻机用吸附平台,其特征在于:所述真空抽吸机构(107)包括安装在吸附支撑框(101)底部两侧的真空罩(1071),所述吸附支撑框(101)的底部开设有与气流通道(102)连通的导流孔(1072),所述真空罩(1071)罩设在导流孔(1072)表面,所述真空罩(1071)的底部安装有真空发生器(1073),所述真空罩(1071)的底部一侧还设有正压阀(1074)。

3.根据权利要求1所述的一种ldi光刻机用吸附平台,其特征在于:所述底座(21)的底部设有直线模组(3),所述底座(21)安装在直线模组(3)顶部,所述底座(21)的底部两侧安装有限位块(4),所述底座(21)的底部两侧设有导轨(5),所述限位块(4)滑动在导轨(5)表面。

4.根据权利要求1所述的一种ldi光刻机用吸附平台,其特征在于:所述升降台(24)的一端中部还安装有位移传感器(6)。

5.根据权利要求1所述的一种ldi光刻机用吸附平台,其特征在于:所述吸附支撑框(101)的顶部相邻两边侧均固定安装有刻度尺(7)。

6.根据权利要求1所述的一种ldi光刻机用吸附平台,其特征在于:所述吸附支撑框(101)的一侧固定安装有防护支架(8),所述防护支架(8)中部镂空处安装有水平仪(9)。